一种对位标记及其制备方法、基板、显示面板、显示装置的制造方法
【专利摘要】本发明涉及显示技术领域，提供了一种对位标记及其制备方法、基板、显示面板、显示装置，对位标记包括防护墙和用于与掩膜板之间进行对位的对位标记主体，所述对位标记主体位于所述防护墙围成的内部区间内。本发明提供的对位标记中，对位标记主体用于与掩膜板进行对位，并且，对位标记主体位于防护墙围成的内部区间内，防护墙的存在能够减少对位标记主体周边的图案密度与结构层中心位置图案密度之间的差异，进而减少了在蚀刻过程中刻蚀液对于对位标记主体图形造成的偏差影响，从而能够提高掩膜板与结构层之间的对位精度，提高后续对位精度。
【专利说明】
一种对位标记及其制备方法、基板、显示面板、显示装置
技术领域
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种对位标记及其制备方法、基板、显示面板、显示装置。
【背景技术】
[0002]目前，平板显示包括液晶显示(LiquidCrystal Display，LCD)、有机发光二极管显不(Organic Light Emitting D1de，0LED)、等离子显不(Plasma Display Panel，PDP)和电子墨水显示等多种。OLED显示器作为一种电流型发光器件，以其轻薄、主动发光、快响应速度、广视角、可制作在柔性衬底上、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为是继LCD显示器之后的第三代显示技术，可以广泛用于智能手机、平板电脑、电视等终端广品。
[0003]在现有的OLED显示(即有机电致发光器件)的背板工艺中，从第二层开始，每层掩膜板(Mask)均需要使用对位标记(Enhanced Global Alignment,EGA Mark)与结构层之间进行对位。但是，目前，由于结构层形成的图案中，结构层边缘部位的结构图形较少，在进行蚀刻等工艺中，由于结构层边缘的图形图案的密度小于结构层中心部位的图形图案密度，进而使得结构层的边缘区域的蚀刻液分布与结构层中心区域刻蚀液分布不均匀，从而影响结构层边缘部位形成的对位标记的精度，从而导致后继对位偏差甚至对位异常的发生。
【发明内容】
[0004]本发明提供了一种对位标记及其制备方法、基板、显示面板、显示装置，该对位标记受刻蚀液分布不均的影响较小，能够提高后继对位精度。
[0005]为达到上述目的，本发明提供以下技术方案:
[0006]—种对位标记，包括防护墙和用于与掩膜板之间进行对位的对位标记主体，所述对位标记主体位于所述防护墙围成的内部区间内。
[0007]本发明提供的对位标记中，对位标记主体用于与掩膜板进行对位，并且，对位标记主体位于防护墙围成的内部区间内，防护墙的存在能够减少对位标记主体周边的图案密度与结构层中心位置图案密度之间的差异，进而减少了在蚀刻过程中刻蚀液对于对位标记主体图形造成的偏差影响，从而能够提高掩膜板与结构层之间的对位精度，提高后续对位精度。
[0008]优选地，所述防护墙上设有标识机构以使所述防护墙的形状区别于所述对位标记主体的形状。
[0009]优选地，所述防护墙上设有的标识机构包括多个连通所述防护墙的内部区间与外部环境的通液通道。
[0010]优选地，每一个所述防护墙设有四个所述通液通道，所述防护墙通过四个所述通液通道分割形成具有条形结构的第一阻挡部、第二阻挡部、第三阻挡部以及第四阻挡部，所述第一阻挡部和第三阻挡部相对，且第二阻挡部与第四阻挡部相对。
[0011]优选地，每一个所述防护墙中，所述第一阻挡部、第二阻挡部、第三阻挡部以及第四阻挡部朝向所述内部区间的表面为平面。
[0012]优选地，所述第一阻挡部朝向内部区间的表面与所述第二阻挡部朝向所述内部区间的表面垂直、且与第三阻挡部朝向内部区间的表面平行，所述第二阻挡部朝向内部区间的表面与第四阻挡部朝向内部区间的表面平行。
[0013]优选地，每一个所述防护墙中，所述第一阻挡部、第二阻挡部、第三阻挡部以及第四阻挡部朝向所述内部区间的表面为曲面。
[0014]本发明还提供了一种基板，该基板包括上述技术方案中提供的任意一种对位标记。
[0015]进一步地，本发明还提供了一种显示面板，该显示面板包括如上所述的基板。
[0016]进一步地，本发明还提供了一种显示装置，该显示装置包括如上所述的显示面板。
[0017]更进一步地，本发明还提供了一种如上所述的对位标记的制备方法，该方法包括:
[0018]在第一结构层上形成第二结构层；
[0019]对所述第二结构层进行构图，以得到对位标记的图案，其中，所述对位标记位于所述第一结构层的边缘部位，且所述对位标记包括对位标记主体和防护墙，所述对位标记主体位于所述防护墙围成的内部区间内。
【附图说明】
[0020]附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的【具体实施方式】一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中:
[0021 ]图1为本发明基板的结构示意图；
[0022]图2为本发明基板的防护墙的一种结构俯视图；
[0023]图3为本发明基板的防护墙的另一种结构俯视图；
[0024]图4位本发明基板的防护墙为弧形的一种结构俯视图。
【具体实施方式】
[0025]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0026]本发明实施例提供了一种对位标记，如图1所示，包括对位标记主体I和防护墙2，该对位标记主体I位于防护墙2围成的内部区间内。
[0027]本发明提供的对位标记中，对位标记主体2用于与掩膜板进行对位，并且，如图1和图4所示，对位标记主体2位于防护墙3围成的内部区间内，防护墙3的存在能够减少对位标记主体2周边的图案密度与结构层I中心位置图案密度之间的差异，需要说明的是用于掩模板对位的对位标记通常在其周围不会有其他图形的干扰，本实施例以阵列基板或者彩膜基板为例，如位标记主体2周边的图案密度较结构层I中心位置图案密度来讲要小，所以单独的标记主体2在形成时会由于刻蚀不均而造成图案精度不高;本实施例的对位标记则能减少在蚀刻过程中刻蚀液对于对位标记主体2图形造成的偏差影响，从而能够提高掩膜板与结构层I之间的对位精度，提高后续对位精度。
[0028]优选地，如图1所示，防护墙2上设有标识机构4以使防护墙2的形状区别于对位标记主体I的形状。对应不同的对位标记主体2，防护墙3具有的标识机构4的形状和位置都相应不同，具体地应该保证标识机构4的设置能够在对位装置在获取结构层I上形成的对位标识主体2的位置时能够很好地区分对位标记主体I和防护墙2，进而不会造成混淆。
[0029]—种【具体实施方式】中，如图1、图2以及图3所示，上述防护墙3上设有的标识机构4可以包括多个连通防护墙3的内部区间与外部环境的通液通道。这种结构比较简单，便于形成；同时，通液通道能够使刻蚀液缓慢地进出防护墙3围成的内部区间，便于实现对防护墙3围成的内部区间内的刻蚀液的更新，进一步减小刻蚀液对位标记主体2的刻蚀与对结构层I中心部位图案刻蚀的偏差。
[0030]具体地，如图1-图3所示，上述防护墙3设有四个上述通液通道，防护墙3通过四个通液通道分割形成具有条形结构的第一阻挡部301、第二阻挡部302、第三阻挡部303以及第四阻挡部304，其中，第一阻挡部301和第三阻挡部303相对，且第二阻挡部302与第四阻挡部304相对。此处对于通液通道的数量优选为4个不应理解为对本发明的限定，可以为2个、3个甚至5个以上，4个通液通道给为契合实施例中的对位标记主体2的形状。
[0031]本发明各个条形阻挡部件的具体形状不进行限定，可以为各种各样的条形结构，以下简单描述几个优选的条形阻挡部件:
[0032]方式一，如图1所示，在防护墙3中，第一阻挡部301、第二阻挡部302、第三阻挡部303以及第四阻挡部304朝向内部区间的表面为平面;第一阻挡部301、第二阻挡部302、第三阻挡部303以及第四阻挡部304背离内部区间的表面也为平面。
[0033]进一步地，上述第一阻挡部301朝向内部区间的表面与第二阻挡部302朝向内部区间的表面垂直、且与第三阻挡部303朝向内部区间的表面平行；第二阻挡部302朝向内部区间的表面与第四阻挡部304朝向内部区间的表面平行。
[0034]方式二，如图2和图3所示，在防护墙中，第一阻挡部301、第二阻挡部302、第三阻挡部303以及第四阻挡部304朝向内部区间的表面为曲面。
[0035]当然，如图2所示，在上述方式二的基础上，第一阻挡部301、第二阻挡部302、第三阻挡部303以及第四阻挡部304背离内部区间的表面可以为平面。其中，第一阻挡部301朝向内部区间的表面与第二阻挡部302朝向内部区间的表面垂直、且与第三阻挡部303朝向内部区间的表面平行;第二阻挡部302朝向内部区间的表面与第四阻挡部304朝向内部区间的表面平行。
[0036]当然，在上述方式二的基础上，如图3所示，在防护墙中，当第一阻挡部301、第二阻挡部302、第三阻挡部303以及第四阻挡部304朝向内部区间的表面为曲面;第一阻挡部301、第二阻挡部302、第三阻挡部303以及第四阻挡部304背离内部区间的表面也为曲面;而且从上往下俯视整个基板表面时该四条阻挡部围成一个圆形。
[0037]其中，第一阻挡部301与第三阻挡部303关于第二阻挡部302和第四阻挡部304的中间点连线对称;第二阻挡部302与第四阻挡部304关于第一阻挡部301和第三阻挡部303的中间点连线对称。
[0038]另外，本发明实施例还提供了一种基板，该基板包括上述实施方式提供的任意一种对位标记。
[0039]本发明实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括如上所述的基板。
[0040]进一步地，本发明还提供了一种显示装置，该显示装置包括如上所述的显示面板。
[0041]基于相同的发明构思，更进一步地，本发明还提供了一种如上所述的对位标记的制备方法，该方法包括:
[0042]在第一结构层上形成第二结构层；
[0043]对第二结构层进行构图以得到对位标记的图案，其中，对位标记位于第一结构层的边缘部位，且对位标记包括对位标记主体和防护墙，对位标记主体位于防护墙围成的内部区间内。
[0044]优选地，上述形成对位标记的图案时，对位标记中的对位标记主体和防护墙通过一次湿法刻蚀构图工艺形成。
[0045]显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种对位标记，其特征在于，包括防护墙和用于与掩膜板之间进行对位的对位标记主体，所述对位标记主体位于所述防护墙围成的内部区间内。2.根据权利要求1所述的对位标记，其特征在于，所述防护墙上设有标识机构以使所述防护墙的形状区别于所述对位标记主体的形状。3.根据权利要求2所述的对位标记，其特征在于，所述防护墙上设有的标识机构包括多个连通所述防护墙的内部区间与外部环境的通液通道。4.根据权利要求3所述的对位标记，其特征在于，所述防护墙设有四个所述通液通道，所述防护墙通过四个所述通液通道分割形成具有条形结构的第一阻挡部、第二阻挡部、第三阻挡部以及第四阻挡部，所述第一阻挡部和第三阻挡部相对，且第二阻挡部与第四阻挡部相对。5.根据权利要求4所述的对位标记，其特征在于，所述防护墙中，所述第一阻挡部、第二阻挡部、第三阻挡部以及第四阻挡部朝向所述内部区间的表面为平面。6.根据权利要求5所述的对位标记，其特征在于，所述第一阻挡部朝向内部区间的表面与所述第二阻挡部朝向所述内部区间的表面垂直、且与第三阻挡部朝向内部区间的表面平行，所述第二阻挡部朝向内部区间的表面与第四阻挡部朝向内部区间的表面平行。7.根据权利要求4所述的对位标记，其特征在于，所述防护墙中，所述第一阻挡部、第二阻挡部、第三阻挡部以及第四阻挡部朝向所述内部区间的表面为曲面。8.一种基板，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的对位标记。9.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求8所述的基板。10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的显示面板。11.一种如权利要求1-7任一项所述的对位标记的制备方法，其特征在于，包括: 在第一结构层上形成第二结构层； 对所述第二结构层进行构图，以得到对位标记的图案，其中，所述对位标记位于所述第一结构层的边缘部位，且所述对位标记包括对位标记主体和防护墙，所述对位标记主体位于所述防护墙围成的内部区间内。12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，对所述第二结构层进行构图时，所述对位标记中的对位标记主体和防护墙通过一次湿法刻蚀构图工艺形成。
【文档编号】H01L51/56GK105870103SQ201610379091
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年5月31日
【发明人】田宏伟, 牛亚男, 刘亮亮, 张朝波, 绰洛鹏
【申请人】京东方科技集团股份有限公司