Oled显示基板及其制作方法、显示装置及掩模板的制作方法
【专利摘要】本发明涉及显示技术领域，公开了一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置和一种掩模板。OLED显示基板包括衬底基板以及形成于衬底基板之上的多个像素单元，每个像素单元包括位于衬底基板之上的第一电极、位于第一电极之上的有机发光层和位于有机发光层之上的第二电极，多个像素单元的第二电极相连接，OLED显示基板还包括位于多个像素单元的第二电极之上的电极增厚层，电极增厚层包括第一增厚部和第二增厚部，第一增厚部与OLED显示基板的边缘区域位置相对，第二增厚部位于相邻两个像素单元之间。相比现有技术，该方案提高了OLED显示产品的显示品质和电学特性。
【专利说明】
OLED显示基板及其制作方法、显示装置及掩模板
技术领域
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别是涉一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置和一种掩模板。
【背景技术】
[0002]OLED(Organic Light-Emitting D1de，有机发光二级管，简称0LED)显示装置由于具有薄、轻、宽视角、主动发光、发光颜色连续可调、成本低、响应速度快、能耗小、驱动电压低、工作温度范围宽、生产工艺简单、发光效率高及可柔性显示等优点，已被列为极具发展前景的下一代显示技术。
[0003]OLED的基本结构包括阳极、阴极以及位于阳极和阴极之间的有机发光层;OLED发光是指有机发光层在外加电场的驱动下，通过阳极和阴极的载流子注入和辐合导致发光的现象。目前，OLED显示基板的阴极厚度普遍较薄，这容易导致显示屏画面出现发暗不良，同时也会影响基板边缘区域的电学特性。如果增加OLED显示基板的阴极厚度，则可以有效地降低产品发暗不良率，提升产品的电学特性，但又会导致显示屏画面发生色偏现象。
【发明内容】
[0004]本发明实施例的目的是提供一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置和一种掩丰旲板，以提尚OLED显不广品的显不品质和电学特性。
[0005]本发明实施例提供了一种OLED显示基板，包括衬底基板以及形成于衬底基板之上的多个像素单元，每个像素单元包括位于衬底基板之上的第一电极、位于第一电极之上的有机发光层和位于有机发光层之上的第二电极，所述多个像素单元的第二电极相连接，所述OLED显示基板还包括:
[0006]位于所述多个像素单元的第二电极之上的电极增厚层，所述电极增厚层包括第一增厚部和第二增厚部，所述第一增厚部与OLED显示基板的边缘区域位置相对，所述第二增厚部位于相邻两个像素单元之间。
[0007]在本发明实施例的技术方案中，通过在多个像素单元的第二电极之上设置电极增厚层，增加了 OLED显示基板的边缘区域的电极厚度和相邻像素单元之间的电极厚度，在满足产品光学特性的要求的前提下，有效地降低了产品发暗不良率，提高了OLED显示基板的边缘区域的电连接可靠性，因此，相比现有技术，该方案提高了 OLED显示产品的显示品质和电学特性。
[0008]优选的，所述第二增厚部为位于相邻两列或两行像素单元之间的条状第二增厚部。
[0009]进一步，所述第二增厚部为网状，所述网状的第二增厚部的网孔与像素单元位置相对。采用该技术方案，使第二增厚部遍布于相邻的两列以及两行像素单元之间，增大了第二增厚部的面积，进一步降低了产品发暗不良率，提高了 OLED显示产品的显示品质。
[0010]优选的，所述第二增厚部的线宽小于相邻两列或两行像素单元之间的间距。这样，可以使第二增厚部完全位于相邻两列像素单元之间，提高了 OLED显示基板的制作精度，提尚了广品的光学特性。
[0011]较佳的，所述电极增厚层的厚度为128埃?158埃。本申请的发明人经过试验得出，增加上述厚度的电极增厚层能够使有效降低OLED产品的发暗不良率，并获得较好的电学特性。
[0012]本发明还提供了一种显示装置，包括前述任一技术方案所述的OLED显示基板。该显示装置的显示品质和电学特性得到提高。
[0013]本发明还提供了一种OLED显示基板的制作方法，包括:
[0014]在衬底基板之上形成多个像素单元的第一电极；
[0015]在第一电极之上形成有机发光层；
[0016]在有机发光层之上形成第二电极，且多个像素单元的第二电极相连接；
[0017]在第二电极之上形成电极增厚层，所述电极增厚层包括第一增厚部和第二增厚部，所述第一增厚部与OLED显示基板的边缘区域位置相对，所述第二增厚部位于相邻两个像素单元之间。
[0018]采用该技术方案提供的方法制作的OLED显示基板，通过在多个像素单元的第二电极之上形成位于OLED显示基板的边缘区域和相邻像素单元之间的电极增厚层，在满足产品光学特性的要求的前提下，有效地降低了产品发暗不良率，提高了OLED显示基板的边缘区域的电连接可靠性，因此，相比现有技术，提高了 OLED显示产品的显示品质和电学特性。
[0019]本发明另外提供了一种用于制作前述方案所述的OLED显示基板的掩模板，包括掩模板本体和掩模板本体界定出的多个蒸镀区，所述掩模板本体用于遮挡多个像素单元，所述多个蒸镀区与第二增厚部位置相对。
[0020]采用该技术方案提供的掩模板制作OLED显示基板，在多个像素单元的第二电极之上蒸镀形成位于OLED显示基板的边缘区域和相邻像素单元之间的电极增厚层，在满足产品光学特性的要求的前提下，有效地降低了产品发暗不良率，提高了OLED显示基板的边缘区域的电连接可靠性，因此，相比现有技术，提高了 OLED显示产品的显示品质和电学特性。
【附图说明】
[0021]图1为本发明实施例OLED显示基板的截面结构示意图；
[0022]图2为本发明实施例像素单元的截面结构示意图；
[0023]图3为本发明一实施例像素单元的俯视结构示意图；
[0024]图4为本发明另一实施例像素单兀的俯视结构不意图；
[0025]图5为本发明第三实施例像素单元的俯视结构示意图；
[0026]图6为本发明实施例掩模板的结构不意图；
[0027]图7为本发明实施例OLED显示基板的制作方法流程图。
[0028]附图标记:
[0029]10-衬底基板 20-像素单元 21-第一电极 22-有机发光层
[0030]23-第二电极 24-电极增厚层 25-第一增厚部 26-第二增厚部
[0031]27-第一传输层 28-第二传输层 40-掩模板41-掩模板本体
[0032]42-蒸镀区
【具体实施方式】
[0033]为提高OLED显示产品的显示品质和电学特性，本发明实施例提供了一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置和一种掩模板。为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下举实施例对本发明作进一步详细说明。
[0034]如图1至图3所示，本发明实施例提供的OLED显示基板，包括衬底基板10以及形成于衬底基板10之上的多个像素单元20，每个像素单元20包括位于衬底基板10之上的第一电极21、位于第一电极21之上的有机发光层22和位于有机发光层22之上的第二电极23，多个像素单元20的第二电极23相连接，OLED显示基板还包括:
[0035]位于多个像素单元20的第二电极23之上的电极增厚层24，电极增厚层24包括第一增厚部25和第二增厚部26，第一增厚部25与OLED显示基板的边缘区域位置相对，第二增厚部26位于相邻两个像素单元20之间。
[0036]本发明实施例提供的OLED显示基板可以为无源驱动(Passive Matrix，简称PM)PMOLED显示基板，也可以为有源驱动(Active Matrix，简称AM)AM0LED显示基板。第一电极具体可以为阳极，则第二电极和电极增厚层为阴极;或者，第一电极为阴极，第二电极和电极增厚层为阳极。
[0037]在本发明实施例的技术方案中，通过在多个像素单元20的第二电极23之上设置电极增厚层24，增加了 OLED显示基板的边缘区域的电极厚度和相邻像素单元20之间的电极厚度，在满足产品光学特性的要求的前提下，有效地降低了产品发暗不良率，提高了 OLED显示基板的边缘区域的电连接可靠性，因此，相比现有技术，该方案提高了 OLED显示产品的显示品质和电学特性。
[0038]如图2所示，每个像素单元还包括第一传输层27和第二传输层28，当第一电极21为阳极，第二电极23为阴极时，第一传输层27可具体为空穴传输层，第二传输层28为电子传输层；当第一电极21为阴极，第二电极23为阳极时，则第一传输层27为电子传输层，第二传输层28为空穴传输层。
[0039]如图3所示，在本发明的一个优选实施例中，第二增厚部26为位于相邻两列像素单元20之间的条状第二增厚部;或者，如图4所示，在本发明的另一优选实施例中，第二增厚部26为位于相邻两行像素单元20之间的条状第二增厚部。
[0040]进一步，如图5所示，第二增厚部26为网状，网状的第二增厚部26的网孔与像素单元20位置相对。采用该技术方案，使第二增厚部26遍布于相邻的两列以及两行像素单元20之间，增大了第二增厚部26的面积，进一步降低了产品发暗不良率，提高了OLED显示产品的显示品质。
[0041]采用上述图3所示实施例时，第二增厚部26的线宽小于相邻两列像素单元20之间的间距。这样，可以使第二增厚部26完全位于相邻两列像素单元20之间，提高了 OLED显示基板的制作精度，提高了产品的光学特性。
[0042]采用上述图4所示实施例时，第二增厚部26的线宽小于相邻两行像素单元20之间的间距。这样，可以使第二增厚部26完全位于相邻两行像素单元20之间，因此不会导致像素单元20之上的电极厚度增加，提高了产品的光学特性。
[0043]在本发明的优选实施例中，电极增厚层的厚度为128埃?158埃。本申请的发明人经过试验得出，增加上述厚度的电极增厚层能够使有效降低OLED产品的发暗不良率，并获得较好的电学特性。
[0044]本发明实施例还提供了一种显示装置，包括前述任一技术方案的OLED显示基板。该显示装置的显示品质和电学特性得到提高。显示装置的具体类型不限，例如可以为OLED显不器、OLED电视等。
[0045]如图7所示，本发明实施例还提供了一种OLED显示基板的制作方法，包括:
[0046]步骤101:在衬底基板之上形成多个像素单元的第一电极；
[0047]步骤102:在第一电极之上形成有机发光层；
[0048]步骤103:在有机发光层之上形成第二电极，且多个像素单元的第二电极相连接；
[0049]步骤104:在第二电极之上形成电极增厚层，电极增厚层包括第一增厚部和第二增厚部，第一增厚部与OLED显示基板的边缘区域位置相对，第二增厚部位于相邻两个像素单元之间。
[0050]采用该技术方案提供的方法制作的OLED显示基板，通过在多个像素单元的第二电极之上形成位于OLED显示基板的边缘区域和相邻像素单元之间的电极增厚层，在满足产品光学特性的要求的前提下，有效地降低了产品发暗不良率，提高了OLED显示基板的边缘区域的电连接可靠性，因此，相比现有技术，提高了 OLED显示产品的显示品质和电学特性。
[0051]如图3和图6所示，本发明实施例另外提供了一种用于制作前述方案的OLED显示基板的掩模板40，包括掩模板本体41和掩模板本体41界定出的多个蒸镀区42，掩模板本体41用于遮挡多个像素单元20，多个蒸镀区42与第二增厚部26位置相对。
[0052]图6所示的掩模板可用于制作图3所示实施例提供的像素单元。采用该技术方案提供的掩模板40制作OLED显示基板，在多个像素单元20的第二电极23之上蒸镀形成位于OLED显示基板的边缘区域和相邻像素单元20之间的电极增厚层，在满足产品光学特性的要求的前提下，有效地降低了产品发暗不良率，提高了OLED显示基板的边缘区域的电连接可靠性，因此，相比现有技术，该方案提高了 OLED显示产品的显示品质和电学特性。
[0053]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种OLED显示基板，包括衬底基板以及形成于衬底基板之上的多个像素单元，每个像素单元包括位于衬底基板之上的第一电极、位于第一电极之上的有机发光层和位于有机发光层之上的第二电极，所述多个像素单元的第二电极相连接，其特征在于，所述OLED显示基板还包括: 位于所述多个像素单元的第二电极之上的电极增厚层，所述电极增厚层包括第一增厚部和第二增厚部，所述第一增厚部与OLED显示基板的边缘区域位置相对，所述第二增厚部位于相邻两个像素单元之间。2.如权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述第二增厚部为位于相邻两列或两行像素单元之间。3.如权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述第二增厚部为网状，所述网状的第二增厚部的网孔与像素单元位置相对。4.如权利要求2所述的OLED显示基板，其特征在于，所述第二增厚部的线宽小于相邻两列或两行像素单元之间的间距。5.如权利要求1?4任一项所述的OLED显示基板，其特征在于，所述电极增厚层的厚度为128埃?158埃。6.—种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1?5任一项所述的OLED显示基板。7.一种OLED显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括: 在衬底基板之上形成多个像素单元的第一电极； 在第一电极之上形成有机发光层； 在有机发光层之上形成第二电极，且多个像素单元的第二电极相连接； 在第二电极之上形成电极增厚层，所述电极增厚层包括第一增厚部和第二增厚部，所述第一增厚部与OLED显示基板的边缘区域位置相对，所述第二增厚部位于相邻两个像素单元之间。8.—种用于制作如权利要求1所述的OLED显示基板的掩模板，其特征在于，所述掩模板包括掩模板本体和掩模板本体界定出的多个蒸镀区，所述掩模板本体用于遮挡多个像素单元，所述多个蒸镀区与第二增厚部的形状相匹配。
【文档编号】H01L27/32GK105914226SQ201610371410
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年5月30日
【发明人】杨津, 梁逸南, 刘利宾, 吴岩, 彭利满
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司