一种光转向膜生产工艺的制作方法
【专利摘要】本发明公开一种光转向膜生产工艺，包括在基材层表面进行电晕处理步骤；在基材层上涂布附着力促进剂步骤；高温熟化处理步骤；制作光转向膜微结构母版步骤；模压、固化步骤；微结构面进行电晕步骤；以及真空蒸镀反光层步骤。经过上述工艺后得到光转向膜，可以有效解决光伏组件非电池片区域（包括空白区域和电池片焊带区域）的光利用问题。
【专利说明】
一种光转向膜生产工艺
技术领域
[0001] 本发明涉及一种光转向膜生产工艺，属于光伏技术领域。
【背景技术】
[0002] 太阳能为一种绿色环保的可再生能源。随着全球人口的增加和对当今主流的不可 再生的化石燃料的依赖与大量消耗，不仅给全球带来能源耗尽的忧虑，也带来环境污染的 担心，同时迫切需求开发绿色环保的新型可再生能源。如今，基于光生伏特原理，利用太阳 光产生动力的单晶硅、多晶硅光伏电池组件已非常成熟。目前常规的光伏组件，由下往上依 次由背板、封装胶层、电池片阵列、封装胶层和前板等组成。一般在光伏组件纵向方向上，电 池片阵列的电池片之间通过镀锡铜带焊接串联实现电流导通以达到组件功率输出的目的。
[0003] 常规电池片表面覆有2~4条2mm左右宽的焊带，约占电池面积的3-4%，此外，电池片 之间也存在一定间隙（一般横向间距约为2-3mm，纵向间距大约3-5mm)，而单晶硅电池片的4 个角存在斜边，4个电池片中间会形成一个近似八边形空白区域，上述间隙和空白区域大约 占整个组件阵列的3-5%左右。目前虽然有很多光伏组件厂家会通过在焊带上贴反光条以弥 补该这阴影部分面积;但如何有效利用电池片间隙和空白区域的太阳光一直都在探索中。
[0004] 有鉴于此，本发明人对此进行研究，专门开发出一种光转向膜生产工艺，本案由此 产生。
【发明内容】
[0005] 本发明的目的是提供一种光转向膜生产工艺，得到光转向膜可以有效解决光伏组 件非电池片区域的光利用问题。
[0006] 为了实现上述目的，本发明的解决方案是： 一种光转向膜生产工艺，包括如下步骤： 步骤1、在基材层表面进行电晕处理； 步骤2、在电晕处理后的基材层上涂布附着力促进剂，以提高紫外光固化胶与基材层的 附着力； 步骤3、将涂布附着力促进剂后的基材层经过72小时以上高温熟化处理，高温熟化温度 为40-50 °C; 步骤4、根据光伏组件非电池片区域的形状、尺寸，采用UV拼版工艺，制作光转向膜微结 构母版； 步骤5、将上述制作好的光转向膜微结构母版包覆在UV模压设备成型版轮上，在基材层 的附着力促进剂涂布面旋涂或滴涂紫外光固化(UV)胶，通过光转向膜微结构母版对紫外光 固化胶进行模压，固化后在基材层上形成微结构； 步骤6、将上述基材层的微结构面进行电晕处理以进一步提高其表面张力； 步骤7、在基材层微结构面上的各个微结构上真空蒸镀反光层。
[0007] 作为优选，将经过步骤7得到的光转向膜进行裁剪，裁剪掉与电池片对应区域的基 材层，即基材层与光伏组件电池片相对应的区域为镂空结构。
[0008] 作为优选，所述步骤1在基材层表面进行电晕处理后，其表面张力达到50达因以 上。
[0009] 作为优选，步骤2所述的附着力促进剂为双组份溶剂型丙烯酸类材料，附着力促进 剂涂布工作环境温度为26-30°C，湿度为40-70%RH，涂布机速45-55m/min，烘道温度分别为 80°C-125°C-150°C-155°C_110°C，涂布时需严格控制基材层表面涂布均匀性，基材层表面 划丝、溅料、发白等缺陷。
[0010] 作为优选，步骤4所述的光转向膜微结构母版设有若干条横向和/或纵向设置的反 向微结构条，所述反向微结构条为锯齿状，包括若干个反向微结构，所述反向微结构具有包 括至少2个侧面的横截面，所述反光层覆盖在微结构的侧面上，所述反向微结构与反向微结 构条的长度延伸方向的夹角为〇~90°。所述反向微结构横截面为三角形，两个侧面与底面的 夹角为30~75°。
[0011]作为优选，所述光转向膜微结构母版进一步设有若干个位于电池片4个角的反向 微结构区，所述反向微结构区为锯齿状，包括若干个反向微结构，所述反向微结构具有包括 至少2个侧面的横截面，所述反光层覆盖在微结构的侧面上;所述反向微结构区的反向微结 构侧面面向对应的电池片，且与所对应的电池片对角线相平行。
[0012] 作为优选，所述反向微结构区的反向微结构横截面为直角三角形，包括斜面、垂直 面和底面，其中，所述斜面面向该反向微结构区所对应的电池片，所述斜面与底面的夹角为 30~75°。通过斜面可以将尽量多的光线转向反射给对应的电池片，增加电池片的光转换效 率。
[0013] 作为优选，所述光转向膜微结构母版的各个反向微结构从母版表面凸起IOum至 30um(即各个微结构的高度为IOum至30um)，相邻2个反向微结构相互连接，中间形成V形凹 槽，所述V形凹槽间隔周期为20-80um〇
[0014] 作为优选，所述光转向膜微结构母版包覆在UV模压设备成型版轮上时，版缝宽度 控制在0.2-0.5mm以内，所述紫外光固化胶为丙烯酸类，丙烯酸类硬度、耐候性、延展性良 好;紫外光固化胶涂布机速为10_20m/min，胶水温度为40-60°C，模压压力为1.5-5kg/cm 2， 固化用的紫外灯为汞灯或金属卤素灯，其固化功率密度为80-200w/cm。
[0015] 作为优选，步骤7真空蒸镀反光层材料为铝或银，反光层厚度为380A至600A，铝纯 度大于99.9%，蒸镀时真空度达到I X 10-2至I X 10-3Pa。镀铝送丝速度为0.4-0.8m/min，镀铝 速度为300-400m/min。后进行复卷整理。镀铝过程严格控制铝层厚度均匀性，避免镀铝透光 点，表面划伤等缺陷。
[0016] 作为优选，经过步骤7真空蒸镀高纯度反光层后，在基材层的非微结构面涂布乙 烯-醋酸乙烯共聚物(EVA)类热熔型胶水。所述热熔型胶水具有良好耐候性、不导电性。
[0017] 作为优选，将经过步骤7真空蒸镀高纯度反光层后的基材层进行裁剪，得到符合要 求的光转向膜或者光转向条，所述光转向条宽度为1.8-5mm。
[0018] 作为优选，所述基材层材质为PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯）、Β0ΡΡ(双向拉伸聚丙 烯）、PVC(聚氯乙烯）、Β0ΡΕΤ(聚酯）、CPE(流延聚乙烯）或ABS( 丁二烯一丙烯腈一苯乙烯组 成的三元共聚物）;所述紫外光固化胶具体为环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯或聚酯丙烯酸 酯。
[0019] 经过上述工艺后得到的光转向膜，可以有效解决光伏组件非电池片区域(包括空 白区域和电池片焊带区域)的光利用问题。上述光转向膜生产工艺具有如下几个优点： 1、 采用UV拼版、包覆版辊的方式克服了机械机密雕刻版辊高成本的缺陷，且该方式组 版方式灵活多变，更有利于对应不同的光伏组件制造不同的光转向膜母版，更适用于工业 应用； 2、 采用紫外光固化模压技术，模压固化温度低，成型压力小，反向微结构成型后参数、 质量稳定;紫外光固化胶耐物理化学性能，耐候性能优良，更有利于光伏组件的应用。
[0020] 以下结合附图及具体实施例对本发明做进一步详细描述。
【附图说明】
[0021] 图1为实施例1的光转向膜生产工艺流程图； 图2为实施例1的具有光转向膜的光伏组件局部剖视图； 图3为实施例1的光转向膜立体图； 图4为实施例1微结构条中的微结构横截面图； 图5为图3的A处放大不意图； 图6为微结构区的微结构横截面图（图5B-B向剖视）； 图7为实施例2的光转向条立体图； 图8为实施例2的光转向条横截面图。
【具体实施方式】 [0022] 实施例1 如图1所示，一种光转向膜生产工艺，包括如下步骤： 步骤101、在基材层表面进行电晕处理，使其表面张力达到50达因以上； 步骤102、在电晕处理后的基材层上涂布附着力促进剂，以进一步提高紫外光固化胶与 基材层的附着力，所述附着力促进剂为双组份溶剂型丙烯酸类材料。涂布工作环境温度为 26-30°C，湿度为40-70%RH，涂布机速45-55m/min，烘道温度分别为 80°C-125°C-150°C-155 °C -110 °C，涂布时严格控制基材层表面涂布均匀性，基材层表面划丝、溅料、发白等缺陷； 步骤103、附着力促进剂涂布后基材层经过72小时以上高温熟化处理，以使涂料主剂和 固化剂在一定时间内充分反应交联，达到最佳复合强度，高温熟化温度为40-50°C ; 步骤104、为得到大批量生产光转向膜的母版，根据光伏组件非电池片区域的形状、尺 寸，采用UV拼版工艺，制作光转向膜大面积微结构母版。光转向膜微结构母版设有若干条横 向和纵向设置的反向微结构条，所述反向微结构条为锯齿状，包括若干个反向微结构，所述 反向微结构具有包括至少2个侧面的横截面，所述反向微结构与反向微结构条的长度延伸 方向的夹角为0°。所述反向微结构横截面为三角形，两个侧面与底面的夹角为60°。所述光 转向膜微结构母版进一步设有若干个位于电池片4个角的反向微结构区，所述反向微结构 区为锯齿状，包括若干个反向微结构，所述反向微结构具有包括至少2个侧面的横截面;所 述反向微结构区的反向微结构侧面面向对应的电池片，与所对应的电池片对角线相平行。 所述反向微结构区的反向微结构横截面为直角三角形，包括斜面、垂直面和底面，其中，所 述斜面面向该微结构区所对应的电池片，所述斜面与底面的夹角为60°。通过斜面可以将尽 量多的光线转向反射给对应的电池片，增加电池片的光转换效率。所述光转向膜微结构母 版的各个反向微结构从母版表面凸起IOum至30um( 即各个微结构的高度为IOum至30um)，相 邻2个微结构相互连接，中间形成V形凹槽，所述V形凹槽间隔周期为20-80um。母版凹凸结构 与光转向膜成品凹凸结构相反，即母版为凹下，对应膜成品处为凸起结构； 步骤105、将上述制作好的大面积光转向膜微结构母版包覆在UV模压设备成型版轮上， 包覆时根据版轮直径裁切母版周长，严格控制包覆后的版缝，一般控制版缝宽度在0.2-0.5mm以内。在基材层附着力促进剂涂布面旋涂或滴涂紫外光固化(UV)胶，该胶水材料为丙 烯酸类。硬度、耐候性、延展性良好。涂布机速为10_20m/min，胶水温度为40-60°C，紫外光固 化(UV)灯组为2组，紫外灯为汞灯或金属卤素灯，其固化功率密度为80-200w/cm。成型版轮 模压压力为1.5-5kg/cm 2,模压半成品微结构层应与基材层结合牢度好。上述光转向膜微结 构母版也可以通过精密机械加工技术于辊筒上加工出光转向微结构，可以有效解决版缝问 题，但成本高； 步骤106、将上述基材层的微结构面进行电晕处理以进一步提高其表面张力； 步骤1077、在基材层微结构面上的各个反向微结构侧面上真空蒸镀高纯度反光层。真 空蒸镀反光层材料为铝，厚度为380A至600A，铝纯度大于99.9%，蒸镀室真空度达到I X 10一2 至1X10-3Pa。镀铝送丝速度为0.4-0.8111/1^11，镀铝速度为300-400111/1^11。后进行复卷整理。 镀铝过程严格控制铝层厚度均匀性，避免镀铝透光点，表面划伤等缺陷； 步骤108、经过步骤7真空蒸镀高纯度反光层后基材层的非微结构面涂布乙烯-醋酸乙 烯共聚物(EVA)类热熔型胶水。所述热熔型胶水具有良好耐候性、不导电性； 步骤109、最后根据产品应用对象，可以对应于光伏组件尺寸横切或分切成合适的尺 寸，同时裁剪掉与电池片对应区域的基材层，即基材层与光伏组件电池片相对应的区域为 镂空结构，裁剪得到的光转向膜可以覆盖在非电池片的空白区域。
[0023]经过上述光转向膜生产工艺得到一种光转向膜，应用在光伏组件中，如图2所示， 所述光伏组件包括依次叠加的背板1、第一封装胶层2、光转向膜3、电池片阵列5、第二封装 胶层4和前板6。所述光转向膜3包括基材层31，设置在基材层31上的微结构层32,以及覆盖 在微结构层32上的反光层33,所述反光层33分布在电池片阵列的各电池片51间隙，以及电 池片51与光伏组件边框之间的间隙内。本实施例所述的光转向膜3设置在电池片阵列5底 部，反光层33填充覆盖在光伏组件的所有间隙处，最大化提高光转化效率。
[0024]为保证反光层33的反光效率，所述反光层33顶部一般与电池片51的上表面齐平。 因此，所述基材层31与电池片51相对应的区域为镂空结构，通过镂空设计，可以减少反光层 33与电池片51之间的高度差。
[0025]如图3-6所示，所述微结构层32包括若干条横向和纵向设置的微结构条321，所述 微结构条321为锯齿状，包括若干个相互连贯的微结构323,所述微结构323具有包括2个侧 面的横截面，所述反光层33覆盖在微结构323的侧面上。其中，位于各电池片51之间的微结 构条321中的微结构323横截面一般为非直角三角，两个侧面与底面的夹角α为30~75°。在本 实施例中，位于各电池片51之间的微结构条321中的微结构323横截面为等边三角形，α = 60°。位于电池片51与光伏组件边框之间的微结构条321中的微结构323横截面为直角三角， 斜面面向电池片51，斜面与底面的夹角β=30~75° (本实施例β=60° )。通过斜面可以将尽量多 的光线反射给对应的电池片51，增加电池片51的光转换效率。
[0026] 在本实施例中，所有微结构条321中的微结构323其长度延伸方向与微结构条321 的长度延伸方向的夹角古=0°，即微结构条321中的微结构323其长度延伸方向与微结构条 321的长度延伸方向相互平行。
[0027] 所述光转向膜3对应不同电池片间隙处设置不同形状、角度、排列方向的微结构 323,可使任何间隙处的光能最大化反射到电池片51上。
[0028]在本实施例中，所述单晶硅电池片51厚度大概为200μπι，基材层31厚度为180μπι， 所述微结构32从基材层31突出20μπι，反光层33厚度为400Α。
[0029] 所述基材层31采用PET膜，所述微结构层32采用环氧丙烯酸酯;所述反光层33为镀 铝层。
[0030] 在本实施所述的光转向膜3安装实施方便，只需在光伏组件封装时，将整张光转向 膜3放置在电池片阵列5下方，通过封装胶层固定密封好，无需另外粘贴、定位等工序，而且 基材层31的镂空嵌套设计，也可以避免层"漂移"问题。在光伏组件具体封装过程中，当串接 相邻2个电池片51的焊带与光转向膜3的部分微结构条321相抵触时，可以裁剪掉部分光转 向膜，从而使光转向膜3平整地镶嵌在光伏组件的非电池片区域。
[0031] 实施例2 本实施例所述的光转向膜生产工艺与实施例1基本相同，主要区域在于本实施例生产 得到的光转向膜经过裁剪后可以得到斜条纹窄带光转向条。
[0032] 步骤1、在基材层表面进行电晕处理，使其表面张力达到50达因以上； 步骤2、在电晕处理后的基材层上涂布附着力促进剂，以进一步提高紫外光固化胶与基 材层的附着力，所述附着力促进剂为双组份溶剂型丙烯酸类材料。涂布工作环境温度为26-30°C，湿度为40-70%RH，涂布机速45-55m/min，烘道温度分别为 80°C-125°C-150°C-155°C-110°C，涂布时严格控制基材层表面涂布均匀性，基材层表面划丝、溅料、发白等缺陷； 步骤3、附着力促进剂涂布后基材层经过72小时以上高温熟化处理，以使涂料主剂和固 化剂在一定时间内充分反应交联，达到最佳复合强度，高温熟化温度为40_50°C ; 步骤4、为得到大批量生产光转向膜的母版，根据光伏组件非电池片区域的形状、尺寸， 采用UV拼版工艺，制作光转向膜大面积微结构母版。光转向膜微结构母版设有若干条横向 设置的反向微结构条，所述反向微结构条为锯齿状，包括若干个反向微结构，所述反向微结 构具有包括至少2个侧面的横截面，所述反向微结构与反向微结构条的长度延伸方向的夹 角为45°。所述反向微结构横截面为三角形，两个侧面与底面的夹角为45°。所述光转向膜微 结构母版的各个反向微结构从母版表面凸起IOum至30um(即各个微结构的高度为IOum至 30um)，相邻2个微结构相互连接，中间形成V形凹槽，所述V形凹槽间隔周期为20-80um。母版 凹凸结构与光转向膜成品凹凸结构相反，即母版为凹下，对应膜成品处为凸起结构； 步骤5、将上述制作好的大面积光转向膜微结构母版包覆在UV模压设备成型版轮上，包 覆时根据版轮直径裁切母版周长，严格控制包覆后的版缝，一般控制版缝宽度在〇. 2-0.5mm 以内。在基材层附着力促进剂涂布面旋涂或滴涂紫外光固化(UV)胶，该胶水材料为丙烯酸 类。硬度、耐候性、延展性良好。涂布机速为10_20m/min，胶水温度为40-60°C，紫外光固化 (UV)灯组为2组，紫外灯为汞灯或金属卤素灯，其固化功率密度为80-200w/cm。成型版轮模 压压力为1.5-5kg/cm 2,模压半成品微结构层应与基材层结合牢度好。上述光转向膜微结构 母版也可以通过精密机械加工技术于辊筒上加工出光转向微结构，可以有效解决版缝问 题，但成本高； 步骤6、将上述基材层的微结构面进行电晕处理以进一步提高其表面张力； 步骤7、在基材层微结构面上的各个反向微结构侧面上真空蒸镀高纯度反光层。真空蒸 镀反光层材料为银，厚度为380A至600A，蒸镀室真空度达到I X HT2至I X HT3Pa。镀银送丝 速度为〇. 4-0.8m/min，镀银速度为300-400m/min。后进行复卷整理。镀银过程严格控制银层 厚度均匀性，避免镀银透光点，表面划伤等缺陷； 步骤8、经过真空蒸镀高纯度反光层后，在基材层的非微结构面涂布乙烯-醋酸乙烯共 聚物(EVA)类热熔型胶水。所述热熔型胶水具有良好耐候性、不导电性； 步骤9、最后根据产品应用对象，可以对应于光伏组件尺寸横切或分切成合适的尺寸， 根据各个反向微结构条的分隔线，将光转向膜裁剪成光转向条，所述光转向条宽度为1.8-5_。裁剪得到的光转向条可以覆盖在电池片的焊带区域或者较窄的空白区域。
[0033]经过上述光转向膜生产工艺得到一种光转向条，如图7-8所示，包括基材层31，设 置在基材层31上的微结构层32,以及覆盖在微结构层32上的反光层33。所述微结构层32为 锯齿状，包括若干个相互连贯的微结构321，所述微结构321具有包括2个侧面的横截面，所 述反光层覆盖在微结构321的侧面上。在本实施例中，所述微结构321横截面为等腰三角形， α=45°。所述微结构321其长度延伸方向与光转向条的长度延伸方向的夹角古=45°，这样设 计有利于光转向条微结构的稳定性(不易损坏、残缺），有利于提高光转换效率。
[0034]本实施例所述的光转向条基材层31厚度为50μπι，所述微结构32从基材层31突出 ΙΟμπι，反光层33厚度为400Α。所述基材层31为BOPP膜;所述微结构层2采用聚氨酯丙烯酸酯； 所述反光层为镀银层。
[0035]上述实施例和图式并非限定本发明的产品形态和式样，任何所属技术领域的普通 技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本发明的专利范畴。
【主权项】
1. 一种光转向膜生产工艺，其特征在于包括如下步骤： 步骤1、在基材层表面进行电晕处理； 步骤2、在电晕处理后的基材层上涂布附着力促进剂，以提高紫外光固化胶与基材层的 附着力； 步骤3、将涂布附着力促进剂后的基材层经过72小时以上高温熟化处理，高温熟化温度 为40-50 °C。 步骤4、根据光伏组件非电池片区域的形状、尺寸，采用UV拼版工艺，制作光转向膜微结 构母版； 步骤5、将上述制作好的光转向膜微结构母版包覆在UV模压设备成型版轮上，在基材层 的附着力促进剂涂布面旋涂或滴涂紫外光固化(UV)胶，通过光转向膜微结构母版对紫外光 固化胶进行模压，固化后在基材层上形成微结构； 步骤6、将上述基材层的微结构面进行电晕处理以进一步提高其表面张力； 步骤7、在基材层微结构面上的各个微结构上真空蒸镀反光层。2. 如权利要求1所述的一种光转向膜生产工艺，其特征在于:所述基材层材质为PET、 BOPP、PVC、BOPET、CPE或ABS，基材层表面进行电晕处理后，其表面张力达到50达因以上；步 骤2所述的附着力促进剂为双组份溶剂型丙烯酸类材料，附着力促进剂涂布工作环境温度 为26-30°C，湿度为40-70%RH，涂布机速45-55m/min，烘道温度分别为80°C-125°C_150°C-155。〇110。(：。3. 如权利要求1所述的一种光转向膜生产工艺，其特征在于：步骤4所述的光转向膜微 结构母版设有若干条横向和/或纵向设置的反向微结构条，所述反向微结构条为锯齿状，包 括若干个反向微结构，所述反向微结构具有包括至少2个侧面的横截面，所述反光层覆盖在 微结构的侧面上，所述反向微结构与反向微结构条的长度延伸方向的夹角为〇~90°。所述反 向微结构横截面为三角形，两个侧面与底面的夹角为30~75°。4. 如权利要求4所述的一种光转向膜生产工艺，其特征在于:所述光转向膜微结构母版 进一步设有若干个位于电池片4个角的反向微结构区，所述反向微结构区为锯齿状，包括若 干个反向微结构，所述反向微结构具有包括至少2个侧面的横截面，所述反光层覆盖在微结 构的侧面上;所述反向微结构区的反向微结构侧面面向对应的电池片，且与所对应的电池 片对角线相平行。5. 如权利要求5所述的一种光转向膜生产工艺，其特征在于:所述反向微结构区的反向 微结构横截面为直角三角形，包括斜面、垂直面和底面，其中，所述斜面面向该反向微结构 区所对应的电池片，所述斜面与底面的夹角为30~75°。通过斜面可以将尽量多的光线转向 反射给对应的电池片，增加电池片的光转换效率。6. 如权利要求5所述的一种光转向膜生产工艺，其特征在于:所述光转向膜微结构母版 的各个反向微结构从母版表面凸起l〇um至30um，相邻2个反向微结构相互连接，中间形成V 形凹槽，所述V形凹槽间隔周期为20-80um。7. 如权利要求1所述的一种光转向膜生产工艺，其特征在于:所述光转向膜微结构母版 包覆在UV模压设备成型版轮上时，版缝宽度控制在0.2-0.5mm以内，所述紫外光固化胶为环 氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯或聚酯丙烯酸酯;紫外光固化胶涂布机速为10-20m/min，胶水 温度为40_60°C，模压压力为1.5-5kg/cm 2,固化用的紫外灯为汞灯或金属卤素灯。8. 如权利要求1所述的一种光转向膜生产工艺，其特征在于：步骤7真空蒸镀反光层材 料为铝或银，反光层厚度为38(^至60(^，铝纯度大于99.9%，蒸镀时真空度达到1\1〇- 2至1\ 10一3Pa，镀铝送丝速度为0.4-0.8m/min，镀铝速度为300-400m/min;经过步骤7真空蒸镀高纯 度反光层后，在基材层的非微结构面涂布乙烯-醋酸乙烯共聚物类热熔型胶水。9. 如权利要求1或8所述的一种光转向膜生产工艺，其特征在于:将经过步骤7得到的光 转向膜进行裁剪，裁剪掉与电池片对应区域的基材层。10. 如权利要求1所述的一种光转向膜生产工艺，其特征在于:将经过步骤7真空蒸镀高 纯度反光层后的基材层进行裁剪，得到符合要求的光转向膜或者光转向条，所述光转向条 宽度为1.8_5mm。
【文档编号】H01L31/18GK106057965SQ201610377328
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年5月31日
【发明人】孙建成, 谢高翔, 李放
【申请人】浙江京华激光科技股份有限公司