用于监测污染物的系统和方法
【专利摘要】用于监测污染物的系统包括适合于提供与从室排出的净化气体混合的含湿气螯合气体的含湿气螯合气体供应器、适合于将包括含湿气螯合气体和净化气体的混合气体冷凝成液滴的冷却设备、适合于将液滴收集在采样管壁上和混合气体中的冲击式采样器以及导电率计。液滴溶解在冲击式采样器中的DI水中，并且导电率计测量包括冲击式采样器中的液滴和DI水的液体的导电率。具有污染物的液体的导电率高于没有污染物的液体的导电率，从而可以选择被污染的室。本发明的实施例还涉及用于监测污染物的方法。
【专利说明】
用于监测污染物的系统和方法
技术领域
[0001]本发明的实施例涉及集成电路处理方法，更具体地，涉及用于监测污染物的系统和方法。
【背景技术】
[0002]在半导体处理中，大部分的成品率损失归因于各种各样的颗粒和膜的污染。污染物可以是有机或无机分子和颗粒。一些污染物从冷凝的有机蒸汽、溶剂残留物、光刻胶或金属氧化物化合物生成。
[0003]由污染物引起的典型的问题和有害作用是沉积的层的粘合不良、LOCOS氧化物的弱形成或下面的材料的弱蚀刻。在半导体衬底上构建的器件的电性质和稳定性也可以受到离子基污染物的严重影响。因此，各种形式的污染物不仅降低产品成品率，而且降低构建的器件的可靠性。
【发明内容】
[0004]本发明的实施例提供了一种晶圆容纳装置，包括:室，适合于将晶圆包含在内并且包括通气出口 ；净化气体排气设备，连接至所述通气出口以用于从所述室排出净化气体；含湿气螯合气体供应器，适合于提供与从所述室排出的所述净化气体混合的含湿气螯合气体；冷却设备，适合于将包括所述含湿气螯合气体和所述净化气体的混合气体冷凝成液滴；以及冲击式采样器，适合于收集所述液滴。
[0005]本发明的另一实施例提供了一种用于监测污染物的系统，包括:含湿气螯合气体供应器，适合于提供与从室排出的净化气体混合的含湿气螯合气体；冷却设备，适合于将包括所述含湿气螯合气体和所述净化气体的混合气体冷凝成液滴；冲击式采样器，连接至所述冷却设备，所述冲击式采样器适合于收集所述液滴，其中，所述液滴溶解在所述冲击式采样器中的DI水中；以及导电率计，适合于测量包括所述冲击式采样器中的所述液滴和所述DI水的液体的导电率，其中，具有污染物的液体的导电率高于没有污染物的液体的导电率。
[0006]本发明的又一实施例提供了一种用于监测污染物的方法，包括:使含湿气螯合气体与从室排出的净化气体混合；将包括所述含湿气螯合气体和所述净化气体的混合气体冷却成液滴；通过冲击式采样器将所述液滴收集在采样管壁上和所述混合气体中；以及测量所述冲击式采样器中的液体的导电率以对所述液体分级。
【附图说明】
[0007]当结合附图进行阅读时，从以下详细描述可最佳理解本发明的各方面。应该注意，根据工业中的标准实践，各个部件未按比例绘制。实际上，为了清楚的讨论，各个部件的尺寸可以任意地增大或减小。
[0008]图1是根据一些实施例的晶圆容纳装置的示意性截面图。
[0009]图2是根据一些实施例的用于监测污染物的系统的示意图。
[0010]图3是根据一些实施例的含湿气螯合气体供应器的示意图。
[0011]图4是根据一些实施例的用于监测污染物的系统的框图。
[0012]图5是根据一些实施例的容纳装置的示意图。
[0013]图6是根据一些实施例的用于监测污染物的方法的流程图。
【具体实施方式】
[0014]以下公开内容提供了许多用于实现所提供主题的不同特征的不同实施例或实例。下面描述了组件和布置的具体实例以简化本发明。当然，这些仅仅是实例，而不旨在限制本发明。例如，在以下描述中，在第二部件上方或者上形成第一部件可以包括第一部件和第二部件直接接触形成的实施例，并且也可以包括在第一部件和第二部件之间可以形成额外的部件，从而使得第一部件和第二部件可以不直接接触的实施例。此外，本发明可在各个实例中重复参考标号和/或字符。该重复是为了简单和清楚的目的，并且其本身不指示所讨论的各个实施例和/或配置之间的关系。
[0015]而且，为便于描述，在此可以使用诸如“在…之下”、“在…下方”、“下部”、“在…之上”、“上部”等的空间相对术语，以描述如图所示的一个元件或部件与另一个(或另一些)元件或部件的关系。除了图中所示的方位外，空间相对术语旨在包括器件在使用或操作中的不同方位。装置可以以其他方式定向(旋转90度或在其他方位上)，而本文使用的空间相对描述符可以同样地作相应的解释。
[0016]在半导体制造工艺中，在洁净室中处理晶圆以用于改进的成品率和质量。然而，当器件的高集成和电路小型化以及采用较大晶圆的趋势已经发展时，考虑到成本以及技术角度，管理整个洁净室中的灰尘变得困难。因此，代替增大这样的洁净室的整个内部的清洁度，近期已经采用包括“微环境系统”的系统以用于传输和以其他方式处理晶圆，微环境系统仅局部地增大晶圆周围的清洁度。微环境系统包括用于传输晶圆和将晶圆保持在高度洁净的环境中的称为前开式统集盒(FOUP)的储存容器。FOUP在前部具有开口门，通过该开口门将半导体晶圆插入夹具或从夹具取出。FOUP包括由壳和门构成的室，壳是用于接收半导体晶圆的保持件，门是打开或关闭壳的部件。FOUP将半导体晶圆保持在气密封闭空间以保护半导体晶圆免受外来物质或大气中的化学污染的影响。
[0017]通常地，FOUP由塑料模制，并且通过由橡胶等制成的密封件保持壳和门之间的气密性。密封件会引起泄漏并且塑料和橡胶会脱气AMC污染物。当将晶圆传输到FOUP或从FOUP传输出时，外部空气容易地闯入F0UP。因此，FOUP中的湿气和氧浓度趋于随时间的推移而增加。
[0018]此外，在FOUP中储存其上沉积有光刻胶的半导体晶圆的情况下，从光刻胶蒸发的有机溶剂沉积在壳的内壁上。因此，即使在去除其上沉积有光刻胶的半导体晶圆之后，沉积在壳的内壁上的光刻胶再次蒸发而污染FOUP中的气氛。FOUP中的湿气、氧气和污染物可以污染半导体晶圆并且引起成品率损失。
[0019]图1是根据一些实施例的晶圆容纳装置的示意性截面图。FOUP 10包括由壳110和门120构成的室100、连接至室100的净化负载端口 200以及用于监测净化负载端口 200中的污染物的系统300。
[0020]门120设置在壳110的开口处。门120和壳110构成用于将晶圆400容纳在内的室100。净化负载端口 200是提供用于将例如氮气的净化气体或湿度极低的干燥空气引入室100以用净化气体替换室100中的气氛的机制。室100具有通气入口 130和通气出口140。净化负载端口 200通过通气入口 130和通气出口 140连接至室100。
[0021]净化负载端口 200包括净化气体供应器210和净化气体排气设备220。净化气体供应器210连接至通气入口 130以将净化气体提供至室100内。净化气体排气设备220连接至通气出口 140以从室100排出净化气体。净化气体供应器210包括提供为与通气入口130气体连通的净化导管212，在净化导管212中提供净化阀，净化阀可以是手工的或电子的，以选择性地允许净化气体(诸如洁净、干燥空气、大气空气或氮气或其他净化气体)通过净化导管212并且流入室100。在一些实施例中，净化气体源214连接至净化阀的输入端。净化气体排气设备220提供室100的排气以用净化气体替换室100内的气体。净化气体排气设备220包括连接至通气出口 140的排气导管222以及真空栗224。净化气体共同地引导处理气体流向真空栗。在一些实施例中，在上船/下船(或晶圆装载/卸载)工艺期间可以由净化气体排气设备220继续排气以用于防止污染物的回流。
[0022]如上所述，一些不想要的污染物可能存在于室100中。因此，本发明提供系统300以提取室100中的污染物，用于监测和进一步分析。
[0023]图2是根据一些实施例的用于监测污染物的系统的示意图。用于监测污染物的系统300包括含湿气螯合气体供应器310、冷却设备320、冲击式采样器330和导电率计340。含湿气螯合气体供应器310设置为连接至排气导管222以提供与从室100排出的净化气体混合的含湿气螯合气体。冷却设备320用于降低混合气体的温度，混合气体包括含湿气螯合气体与净化气体。冷却的混合气体通过冷却设备320冷凝并且变成粘附在排气导管222的侧壁上的液滴。在一些实施例中，排气导管222是金属管或塑料管，并且冷却设备320包括固定在金属管或塑料管上的热电致冷芯片。
[0024]冲击式采样器330用于收集排气导管222中的液滴。冲击式采样器330包含其内的DI水(去离子水)，并且由混合气体冷凝的液滴溶解在DI水中。导电率计340用于测量液体(S卩，溶解在DI水中的液滴的液体)的导电率。冲击式采样器330中的液体的导电率可以分等级，以确定FOUP是否被污染。导电率计340电连接至处理器，从而使得可以自动实施对液体分级的工艺。
[0025]例如，如果FOUP被污染，则污染物存在于室100 (见图1)中并且当从室100排出净化气体时由净化气体运载。含湿气螯合气体与具有污染物的净化气体混合。包括湿气和螯合的污染物的混合气体通过冷却设备320冷凝并且变成液滴。含湿气螯合气体捕获螯合的污染物，并且当冷却混合气体时被冷凝。当包括湿气的混合气体冷凝时，螯合的污染物变成由液滴运载的颗粒。通过冲击式采样器330进一步收集液态的液滴。液滴和由液滴运载的颗粒溶解在DI水中。因此，从污染的FOUP收集的液体的导电率高于从洁净的FOUP收集的液体的导电率。即，如果冲击式采样器中的液体的导电率高于预定水平，则从其收集液体的FOUP可以确定为被污染。
[0026]可以根据不同需求调整确定FOUP是否被污染的灵敏度。例如，当在洁净室中利用FOUP时，洁净室具有洁净的高需求，确定FOUP是否被污染的灵敏度相对较高。在一些实施例中，FOUP是洁净的并且未被污染，因此冲击式采样器330中的液体的导电率基本上等于DI水的导电率，导电率非常低并且为约O。因此，当冲击式采样器330中的液体的导电率为约O时，FOUP可以确定为洁净并且未被污染。
[0027]通过使用测量冲击式采样器330中的液体的导电率的工艺，可以快速地选择污染的F0UP。可以在用于FOUP的每个并且每一个净化负载端口中组装提取污染物用于监测和进一步分析的系统300以实现全通道检查的目的。用于监测污染物的系统300可以由从FOUP排出的有限量的净化气体实时监测FOUP的污染状态。该污染物由含湿气螯合气体捕获并且在非常短的时间内(约几毫秒)冷凝，因此可以通过使用系统300大大地改进采样的效率。
[0028]在一些实施例中，净化气体中的污染物可以通过含湿气螯合气体捕获。含湿气螯合气体供应器310包括具有螯合剂的洁净空气源312和湿气源314。洁净空气源312提供洁净空气，诸如洁净室空气(CR空气)。在一些实施例中，由湿气源314提供的湿气在进入排气导管222之前与洁净空气混合，并且当洁净空气流入排气导管222时湿气被运载入排气导管222。
[0029]通过含湿气螯合气体使包括污染物的排出的净化气体螯合和变湿。具有高湿度的混合气体通过由冷却设备320冷却的低温导管。当充满湿气的混合气体通过低温导管并且被冷却时，降低了混合气体的湿度饱和。因此，混合气体由于过饱和而冷凝并且变成具有约800nm的直径的液滴。因此，由液滴聚集和运载污染物。
[0030]FOUP中的空间(诸如450_ F0UP)是有限的。因此，用于采样的排出的净化气体的量是有限的。提取用于监测和分析的污染物的系统300包括使用化学方法以捕获具有含湿气螯合气体的污染物以及进一步使用物理方法将混合气体冷凝成液滴。通过冲击式采样器330容易地收集液滴，从而使得与直接收集净化气体中的污染物相比，采样时间缩短。
[0031]来自FOUP内部的污染物可以是酸性的、碱性的、有机气体污染物或它们的组合。在一些实施例中，污染物的类型是可预测的。例如，FOUP可以从蚀刻室直接或间接传输晶圆。污染物的类型可以是在蚀刻工艺中使用的试剂或在蚀刻工艺期间生成的颗粒。
[0032]在一些实施例中，蚀刻工艺是使用酸性溶液的湿蚀刻工艺。污染物可以包括具有酸性溶液的衬底的颗粒。衬底的颗粒可以包括诸如硅(Si)、碳化硅(SiC)、二氧化硅(S12)等的介电材料和/或导电材料。酸性溶液可以是氯化铁(FeCl3)、氯化氢(HC1)、氢碘酸(HI)、氢溴酸(HBr)等。在一些实施例中，蚀刻工艺是使用碱性溶液的湿蚀刻工艺。污染物可以包括具有碱性溶液的衬底的颗粒。衬底的颗粒可以包括诸如硅(Si)、碳化硅(SiC)、二氧化硅(S12)等的介电材料。碱性溶液可以是氢氧化钠(NaOH)、氢氧化钾(KOH)等。在一些实施例中，蚀刻工艺是使用反应气体的干蚀刻工艺。污染物可以包括要被去除的反应气体和颗粒。衬底的颗粒可以包括介电材料和/或导电材料，诸如金属导电材料或透明导电材料。反应气体可以是氟气(F2)、三氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF4)、六氟乙烷(C2F6)、八氟丙烷(C3F8)、氟化氢(HF)、氯气(Cl2)、四氯化碳(CCl4)、氯化氢(HCl)、二氯硅烷(SiH2Cl2)、四氯二氟乙烷(C2F2Cl4)、三氟甲烷(CHF3)、溴(Br2)、溴化氢(HBr)的任何一种。
[0033]当污染物的类型是可预测的时，可以通过调整含湿气螯合气体的组分进一步改进采样效率。在图3中讨论了其细节，图3是根据一些实施例的含湿气螯合气体供应器的示意图。含湿气螯合气体供应器310包括洁净空气源312、湿气源314和螯合剂源316。在一些实施例中，由螯合剂源提供的螯合剂和由湿气源提供的湿气在它们进入排气导管222之前与洁净空气混合。当洁净气体流入排气导管222时，湿气和螯合剂被运载到排气导管222。
[0034]螯合剂用于捕获污染物并且与污染物反应。螯合剂处于气体状态，从而使得可以通过螯合剂直接捕获污染物。污染物与螯合剂的化学反应物处于颗粒的状态，并且颗粒由混合气体运载。充满湿气的混合气体被冷却并且变成液滴，其中，通过冲击式采样器进一步收集液滴。由液滴运载的颗粒也由冲击式采样器收集并且溶解在冲击式采样器中的DI水中。
[0035]可以根据对由FOUP传输的晶圆执行的工艺选择螯合剂。例如，可以通过使用诸如氯化氢的酸性溶液的湿蚀刻工艺处理晶圆。螯合剂可以是诸如氨气的碱性试剂。氨与氯化氢反应，并且螯合颗粒包括氯化铵，氯化铵是电解质并且在溶于水之后改变导电率。因此，从包含污染物的FOUP收集的液滴的导电率远高于从没有污染物的FOUP收集的液滴。可以通过重复和平均多个空白实例来获得来自洁净FOUP的液滴的导电率。可以记录来自洁净FOUP的液滴的导电率，从而当FOUP的导电率高于记录值(或对应于记录值的预定值)时，可以确定FOUP被污染。而且，可以通过控制预定值来调整系统300的灵敏度。
[0036]在一些实施例中，通过使用碱性溶液的湿蚀刻工艺处理晶圆。螯合剂可以是诸如氯化氢的酸性试剂以与碱性污染物反应。酸性螯合剂捕获碱性污染物并且变成颗粒。颗粒通过冷凝的液滴运载并且进一步由冲击式采样器收集。颗粒是电解质，从而当颗粒在冲击式采样器中溶解时，冲击式采样器中的液体的导电率改变。可以通过相应的导电率确定FOUP的状态，即，洁净或污染。
[0037]系统300组装至净化负载端口以用于实时监测净化负载端口上的FOUP的状态以及选择污染的F0UP。从混合气体至选择污染的FOUP的工艺可以在一分钟内完成，这具有高效率和为FOUP提供全通道检查。此外，在一些实施例中，可以可拆卸地组装螯合剂源316，从而可以根据污染物的类型改变螯合剂源316的类型。
[0038]参照图4，图4是根据一些实施例的用于检测污染物的系统的框图。在一些实施例中，需要分析污染物的类型。系统300包括含湿气螯合气体供应器310、冷却设备320、冲击式采样器330、导电率计340和离子色谱设备350。
[0039]含湿气螯合气体供应器310连接至排气导管并且将含湿气螯合气体提供至排气导管。在一些实施例中，含湿气螯合气体仅包括湿气和洁净空气。在一些实施例中，含湿气螯合气体包括洁净空气、湿气和螯合剂。
[0040]含湿气螯合气体与净化气体混合，并且它们的混合气体被冷却设备320冷却。充满湿气和反应物的混合气体冷凝并且变成液滴。如果FOUP被污染，污染物的反应物粘附在液滴上并且由液滴运载。液滴由冲击式采样器330收集，并且在一些实施例中，液滴或具有污染物的液滴溶解在冲击式采样器330中的DI水中。通过导电率计340测量冲击式采样器330中的液体的导电率。在该步骤中，由于具有相对较高的导电率，可以选择污染的F0UP。当确定FOUP被污染时，可以将相应的冲击式采样器330的样品(例如，包括污染物的液体)发送至离子色谱设备350。
[0041]离子色谱设备350用于分析污染物。离子色谱是用于分析包含电解质(例如，污染物)的洗脱液中的样品的技术。将样品溶液注入离子交换柱形式的色谱分离区并且直接通过洗脱抑制阶段和检测器(通常是导电率计)。注入的样品的离子在分离柱上分离并且从分离柱洗脱。在抑制阶段中，抑制洗脱电解质的导电率，而不是分离的离子的导电率。这可以实现，只要分离的离子不是来源于非常弱的酸或碱并且因此可以通过导电率检测确定。在一些实施例中，手工或通过自动进样器将样品引入已知量的样品环路。已知为流动相的缓冲水溶液将样品从环路运载到包含一些形式的固定相材料的柱上。固定相材料通常是由具有共价键合的带电官能团的琼脂糖或纤维素珠组成的树脂或凝胶基质。目标分析物(阴离子或阳离子)保留在固定相上，但是可以通过增大将从固定相置换分析物离子的类似带电物质的浓度而被洗脱。例如，在离子交换色谱中，带正电的分析物可以通过添加带正电的钠离子而被置换。然后通过一些方法(通常通过导电率或UV/可见光吸光度)检测感兴趣的分析物。
[0042]然而，使用离子色谱设备350分析污染物的时间和成本是较高的。因此，仅将来自污染的FOUP的样品发送至离子色谱设备350。S卩，可以通过使用测量相应的冲击式采样器330中的样品的导电率的导电率计340初选组装在净化负载端口上的所有F0UP，但是仅将导电率高于预定水平的来自污染的FOUP的样品发送至离子色谱设备350用于分析。
[0043]在通过离子色谱过程识别污染物之后，可以通过使污染物与制造期间利用的试剂匹配来找到制造期间的问题或污染源。因此，由于问题站被获得并且甚至在晶圆上形成缺陷之前采取防范，所以用户可以容易地解决问题。
[0044]用于监测污染物的系统300不仅用于F0UP，而且用于与净化负载端口协作的其他设计，诸如设备前端模块(EFEM)。例如，图5是根据一些实施例的晶圆容纳装置的示意图。晶圆容纳装置是EFEM 500，EFEM 500包括晶圆传输室510、FOUP 10和净化负载端口 200。净化负载端口 200用作接口以用于允许FOUP 10将晶圆插入晶圆传输室510或从晶圆传输室510去除晶圆，以及用于将FOUP 10自身传递至净化负载端口 200的FOUP传输设备或从净化负载端口 200的FOUP传输设备接收FOUP 10。在EFEM系统中，仍需要将洁净度保持至预定水平。
[0045]净化负载端口 200的FOUP传输设备包括导轨250和传输台260。导轨250位于净化负载端口 200的底座上并且允许FOUP 10沿着导轨250垂直移动。传输台260用于在净化负载端口 200和晶圆传输室510之间传输FOUP 10。
[0046]EFEM 500还可以包括如先前讨论的用于监测污染物的系统。用于监测污染物的系统可以组装在传输台260中或净化负载端口中的任何合适的位置。
[0047]图6是根据一些实施例的用于监测污染物的方法的流程图。该方法开始于步骤610，其中，含湿气螯合气体与从室(例如，FOUP或EFEM的F0UP)排出的净化气体混合。在一些实施例中，含湿气螯合气体可以仅包括洁净空气和湿气。在一些实施例中，含湿气螯合气体包括净化空气、湿气和螯合剂，螯合剂诸如氨气或氯化氢气体。在这样的实施例中，净化气体中的污染物可以与含湿气螯合气体中的螯合剂螯合，从而形成颗粒的反应物。
[0048]在步骤620中，包括含湿气螯合气体和净化气体的混合气体被冷却并且变成液滴。混合气体被诸如热电致冷芯片的冷却设备冷却。如果净化气体包括污染物，含湿气螯合气体中的污染物或螯合污染物和螯合剂的颗粒可以粘附在液滴上并且由液滴运载。
[0049]在步骤630中，通过冲击式采样器收集液滴。冲击式采样器具有其中的DI水，并且液滴溶解在DI水中。在一些实施例中，污染物由液滴运载，并且液滴中的污染物或颗粒也溶解在DI水中，从而使得冲击式采样器中的液体的导电率改变。
[0050]在步骤640中，例如，通过导电率计测量冲击式采样器中的液体的导电率。可以根据冲击式采样器中的液体的导电率对液体分级。当液体的导电率高于预定水平时，确定从其收集液体的FOUP被污染。在一些实施例中，当含湿气螯合气体仅包括洁净空气和湿气时，预定水平的导电率值为约O。在一些实施例中，当含湿气气体仅包括螯合剂时，根据空白实例(例如，从洁净FOUP获得的值)决定预定水平的导电率值。可以根据洁净度的不同需求调整对液体分级的灵敏度。
[0051]在一些实施例中，方法可选择地包括:当冲击式采样器中的液体的导电率高于预定水平时分析冲击式采样器中的液体的步骤。即，仅分析来自污染的FOUP的液体的污染物，这样可以节省分析的时间和成本。例如，可以通过离子色谱过程来实施分析污染物的步骤。
[0052]在净化负载端口处组装用于监测污染物的系统以实时监测室(例如，FOUP或EFEM的F0UP)中的洁净度。通过含湿气螯合气体快速地捕获净化气体中的污染物，并且混合气体冷凝成液滴。液滴溶解在冲击式采样器的DI水中，并且测量液体的导电率以确定室是否被污染。从混合气体至确定的时间可以在几秒内完成。当污染的FOUP已知时，可以将污染物发送至分析以找到污染源和解决问题。
[0053]在一些实施例中，一种晶圆容纳装置包括适合于将晶圆包含在内并且包括通气出口的室、连接至通气出口以用于从室排出净化气体的净化气体排气设备、适合于提供与从室排出的净化气体混合的含湿气螯合气体的含湿气螯合气体供应器、适合于将包括含湿气螯合气体和净化气体的混合气体冷凝成液滴的冷却设备以及适合于收集液滴的冲击式采样器。
[0054]在上述晶圆容纳装置中，其中，所述冲击式采样器包括DI水，并且所述液滴溶解在所述DI水中。
[0055]在上述晶圆容纳装置中，其中，所述冲击式采样器包括DI水，并且所述液滴溶解在所述DI水中，所述晶圆容纳装置还包括:导电率计，适合于在所述液滴溶解之后测量所述冲击式采样器中的液体的导电率。
[0056]在上述晶圆容纳装置中，其中，所述净化气体包括污染物，并且所述混合气体被冷却，从而通过所述液滴运载所述污染物。
[0057]在上述晶圆容纳装置中，其中，所述净化气体包括污染物，并且所述混合气体被冷却，从而通过所述液滴运载所述污染物，所述含湿气螯合气体包括湿气、洁净室空气和多种螯合剂，其中，所述螯合剂适合于与所述污染物反应并且变成由所述液滴运载的颗粒。
[0058]在上述晶圆容纳装置中，其中，所述净化气体包括污染物，并且所述混合气体被冷却，从而通过所述液滴运载所述污染物，所述含湿气螯合气体包括湿气、洁净室空气和多种螯合剂，其中，所述螯合剂适合于与所述污染物反应并且变成由所述液滴运载的颗粒，所述螯合剂是氨或氯化氢。
[0059]在上述晶圆容纳装置中，其中，所述含湿气螯合气体包括湿气和洁净室空气。
[0060]在上述晶圆容纳装置中，其中，所述冷却设备包括热电致冷芯片。
[0061]在上述晶圆容纳装置中，其中，所述室是前开式统集盒(FOUP)。
[0062]在上述晶圆容纳装置中，其中，所述晶圆容纳装置是设备前端模块(EFEM)。
[0063]在一些实施例中，一种用于监测污染物的系统包括适合于提供与从室排出的净化气体混合的含湿气螯合气体的含湿气螯合气体供应器、适合于将包括含湿气螯合气体和净化气体的混合气体冷凝成液滴的冷却设备、连接至冷却设备并且适合于收集液滴的冲击式采样器以及导电率计。液滴溶解在冲击式采样器中的DI水中，并且导电率计测量包括冲击式采样器中的液滴和DI水的液体的导电率，其中，具有污染物的液体的导电率高于没有污染物的液体的导电率。
[0064]在上述系统中，其中，所述含湿气螯合气体包括湿气和洁净室空气。
[0065]在上述系统中，其中，所述含湿气螯合气体包括湿气、洁净室空气和多种螯合剂。
[0066]在上述系统中，还包括:离子色谱设备，其中，根据所述液体的导电率，将所述液体选择性地发送至所述离子色谱设备。
[0067]在上述系统中，其中，所述含湿气螯合气体供应器组装在连接至所述室的净化负载端口处。
[0068]在一些实施例中，一种用于监测污染物的方法包括使含湿气螯合气体与从室排出的净化气体混合，将包括含湿气螯合气体和净化气体的混合气体冷却成液滴，通过冲击式采样器将液滴收集在采样管壁上和混合气体中，以及测量冲击式采样器中的液体的导电率以对液体分级。
[0069]在上述方法中，其中，收集所述液滴包括将所述液滴溶解在所述冲击式采样器中的DI水中。
[0070]在上述方法中，还包括:当所述液体的导电率高于一个水平时，分析所述冲击式采样器中的所述液体。
[0071 ] 在上述方法中，还包括:当所述液体的导电率高于一个水平时，分析所述冲击式采样器中的所述液体，其中，通过离子色谱过程实施分析所述液体。
[0072]在上述方法中，还包括:当所述液体的导电率高于一个水平时，分析所述冲击式采样器中的所述液体，其中，使所述含湿气螯合气体与所述净化气体混合包括:使所述净化气体中的污染物与所述含湿气螯合气体中的多种螯合剂螯合。
[0073]上面概述了若干实施例的特征，使得本领域技术人员可以更好地理解本发明的方面。本领域技术人员应该理解，他们可以容易地使用本发明作为基础来设计或修改用于实施与本文所介绍实施例相同的目的和/或实现相同优势的其他工艺和结构。本领域技术人员也应该意识到，这种等同构造并不背离本发明的精神和范围，并且在不背离本发明的精神和范围的情况下，本文中他们可以做出多种变化、替换以及改变。
【主权项】
1.一种晶圆容纳装置，包括: 室，适合于将晶圆包含在内并且包括通气出口； 净化气体排气设备，连接至所述通气出口以用于从所述室排出净化气体； 含湿气螯合气体供应器，适合于提供与从所述室排出的所述净化气体混合的含湿气螯合气体； 冷却设备，适合于将包括所述含湿气螯合气体和所述净化气体的混合气体冷凝成液滴；以及 冲击式采样器，适合于收集所述液滴。2.根据权利要求1所述的晶圆容纳装置，其中，所述冲击式采样器包括DI水，并且所述液滴溶解在所述DI水中。3.根据权利要求2所述的晶圆容纳装置，还包括:导电率计，适合于在所述液滴溶解之后测量所述冲击式采样器中的液体的导电率。4.根据权利要求1所述的晶圆容纳装置，其中，所述净化气体包括污染物，并且所述混合气体被冷却，从而通过所述液滴运载所述污染物。5.根据权利要求4所述的晶圆容纳装置，其中，所述含湿气螯合气体包括湿气、洁净室空气和多种螯合剂，其中，所述螯合剂适合于与所述污染物反应并且变成由所述液滴运载的颗粒。6.根据权利要求5所述的晶圆容纳装置，其中，所述螯合剂是氨或氯化氢。7.根据权利要求1所述的晶圆容纳装置，其中，所述含湿气螯合气体包括湿气和洁净室空气。8.根据权利要求1所述的晶圆容纳装置，其中，所述冷却设备包括热电致冷芯片。9.一种用于监测污染物的系统，包括: 含湿气螯合气体供应器，适合于提供与从室排出的净化气体混合的含湿气螯合气体； 冷却设备，适合于将包括所述含湿气螯合气体和所述净化气体的混合气体冷凝成液滴； 冲击式采样器，连接至所述冷却设备，所述冲击式采样器适合于收集所述液滴，其中，所述液滴溶解在所述冲击式采样器中的DI水中；以及 导电率计，适合于测量包括所述冲击式采样器中的所述液滴和所述DI水的液体的导电率，其中，具有污染物的液体的导电率高于没有污染物的液体的导电率。10.一种用于监测污染物的方法，包括: 使含湿气螯合气体与从室排出的净化气体混合； 将包括所述含湿气螯合气体和所述净化气体的混合气体冷却成液滴； 通过冲击式采样器将所述液滴收集在采样管壁上和所述混合气体中；以及 测量所述冲击式采样器中的液体的导电率以对所述液体分级。
【文档编号】H01L21/673GK106098587SQ201510788124
【公开日】2016年11月9日
【申请日】2015年11月17日
【发明人】庄子寿, 郭启文
【申请人】台湾积体电路制造股份有限公司