一种掩膜板框架的结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及OLED制造领域，特别是关于一种掩膜板框架的结构。
【背景技术】
[0002]有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting D1des，简称0LED)是自发光器件，不需要背光源，外观轻、薄，而传统的液晶显示器(LCD)需要背光源才能工作，外观尺寸较厚。有机发光二极管显示器的功耗低，视角宽，屏幕响应快，是最能符合人们未来对显示器功能要求的技术。因此，有机发光二极管有望在不久的将来取代液晶显示器，具有很高的市场潜力。
[0003]有机小分子发光二极管在制作过程中，目前较成熟的技术是采用真空蒸镀技术，在器件制备过程中，有机材料会淀积在位于蒸发源上方的基板上，为形成特有的图案，在基板下方紧贴有掩膜版，掩膜版上留有预先设计排版好的开口，最终有机材料会通过掩膜版上的开口区域，淀积到基板上面。
[0004]现有大尺寸基板镀膜工艺的掩膜板多采用分割式的掩膜板，各分割掩膜板受张紧力后焊接在掩膜板框架上，在焊接完成后，掩膜板的张紧力对掩膜板框架有一定的反作用力，将会引起掩膜板框架变形，现有方法是在焊接掩膜板前对掩膜板框架进行施加反作用力，用以平衡掩膜板对掩膜板框架的张力，该工艺流程复杂，在焊接前还要对掩膜板及掩膜板框架进行复杂的受力分析计算，以及大量的实验实测评估计算值与实际值的误差。
[0005]掩膜板:镀膜工艺中，具有一定开口图案，用来实现特定区域镀膜图案的结构。掩膜板框架作用是支撑掩膜板，现有大尺寸基板镀膜工艺的掩膜板多采用分割式的掩膜板，各分割掩膜板受力张紧后焊接在掩膜板框架上，在焊接完成后，掩膜板的张紧力对掩膜板框架有一定的反作用力，将会引起掩膜板框架变形，现有方法是在焊接掩膜板前对掩膜板框架进行施加反作用力，用以平衡掩膜板对掩膜板框架的张力，该工艺流程复杂，在焊接前还要对掩膜板及掩膜板框架进行复杂的受力分析计算，以及大量的实验实测评估计算值与实际值的误差。造成掩膜板框架变形根本原因是由于掩膜板框架尺寸跨度大，而掩膜板框架中间又无任何的加强结构，整体刚度偏低，导致在张紧焊接掩膜板过程中容易变形。
【实用新型内容】
[0006]有鉴于此，本实用新型为解决上述技术问题，提供一种掩膜板框架的结构。
[0007]本实用新型的目的通过以下技术方案实现:
[0008]一种掩膜板框架的结构，用于固定掩膜板，包括用于固定掩膜板的外框、相互交错的横向加强肋和纵向加强肋，所述横向加强肋的两端与外框固定，所述纵向加强肋的两端与外框固定。
[0009]所述外框的里侧设有向上凸的凸起，所述掩膜板以两块为一个排序列而并排固定在外框上，所述排序列的两块掩膜板间设置所述纵向加强肋，所述外框上设有多个排序列，不同排序列间设置所述横向加强肋。
[0010]所述横向加强肋或纵向加强肋的截面形状是三角形或梯形。
[0011]本实用新型相较于现有技术的有益效果是:
[0012]本实用新型的一种加强的掩膜板框架，在掩膜板框架中间增加加强肋，对其整体刚度进行强化，以达到无需使用复杂的施加反作用力工艺流程和复杂的受力分析计算，就可实现减小或几乎可忽略由于掩膜板张紧力导致掩膜板框架变形的目的。该加强的掩膜板框架的提出，大大简化了掩膜板设计流程和制造工艺流程，有效提高掩膜板制造的良品率。
【附图说明】
[0013]利用附图对本实用新型作进一步说明，但附图中的实施例不构成对本实用新型的任何限制。
[0014]图1是本实用新型的掩膜板框架的结构的整体结构图。
[0015]图2是本实用新型的掩膜板框架的结构的截面图。
[0016]图3是本实用新型的掩膜板框架的结构的局部放大图。
[0017]图4是本实用新型的掩膜板框架的结构的整体结构图。
【具体实施方式】
[0018]为了便于本领域技术人员理解，下面将结合附图以及实施例对本实用新型作进一步详细描述。
[0019]请参照图1-4，本实用新型实施例包括:
[0020]一种掩膜板框架的结构，用于固定掩膜板4，包括用于固定掩膜板4的外框1、相互交错的横向加强肋3和纵向加强肋2，所述横向加强肋3的两端与外框I固定，所述纵向加强肋2的两端与外框I固定。
[0021]所述外框I的里侧设有向上凸的凸起11，所述掩膜板以两块为一个排序列而并排固定在外框I上，所述排序列的两块掩膜板间设置所述纵向加强肋2，所述外框I上设有多个排序列，不同排序列间设置所述横向加强肋3。
[0022]所述横向加强肋3的截面形状是梯形，纵向加强肋2的截面形状是梯形。
[0023]本实施例相较于现有技术的有益效果是:
[0024]本实施例的一种加强的掩膜板框架，在掩膜板框架中间增加加强肋，对其整体刚度进行强化，以达到无需使用复杂的施加反作用力工艺流程和复杂的受力分析计算，就可实现减小或几乎可忽略由于掩膜板张紧力导致掩膜板框架变形的目的。该加强的掩膜板框架的提出，大大简化了掩膜板设计流程和制造工艺流程，有效提高掩膜板制造的良品率。
[0025]最后应当说明的是，以上实施例说明本实用新型的技术方案，而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。
【主权项】
1.一种掩膜板框架的结构，用于固定掩膜板，其特征在于，包括用于固定掩膜板的外框、相互交错的横向加强肋和纵向加强肋，所述横向加强肋的两端与外框固定，所述纵向加强肋的两端与外框固定。
2.根据权利要求1所述的掩膜板框架的结构，其特征在于，所述外框的里侧设有向上凸的凸起，所述掩膜板以两块为一个排序列而并排固定在外框上，所述排序列的两块掩膜板间设置所述纵向加强肋，所述外框上设有多个排序列，不同排序列间设置所述横向加强肋。
3.根据权利要求1所述的掩膜板框架的结构，其特征在于，所述横向加强肋或纵向加强肋的截面形状是三角形或梯形。
【专利摘要】本实用新型公开一种掩膜板框架的结构，用于固定掩膜板，包括用于固定掩膜板的外框、相互交错的横向加强肋和纵向加强肋，所述横向加强肋的两端与外框固定，所述纵向加强肋的两端与外框固定。本实用新型提供一种掩膜板框架的结构。
【IPC分类】H01L51-56
【公开号】CN204289544
【申请号】CN201420800820
【发明人】马得贵, 吴俊雄, 冉应刚, 柯贤军, 苏君海, 黄亚清, 李建华
【申请人】信利（惠州）智能显示有限公司
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2014年12月18日