一种用于pecvd镀膜设备的自动上下料装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及太阳能电池领域，具体涉及一种用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置。
【背景技术】
[0002]常规的化石燃料日益消耗殆尽，在所有的可持续能源中，太阳能无疑是一种最清洁、最普遍和最有潜力的替代能源。光伏发电是最具可持续发展理想特征的发电技术之一。目前，在所有的太阳能电池中，硅太阳能电池是得到大范围商业推广的太阳能电池之一，这是由于硅材料在地壳中有着极为丰富的储量，同时硅太阳能电池相比其他类型的太阳能电池，有着优异的电学性能和机械性能。在未来光伏技术的发展中，随着硅太阳能电池光电性能的进一步提高，硅材料价格的进一步降低，硅太阳能电池将在光伏领域占据重要的地位。
[0003]现有技术中，在太阳能电池的制备过程中，一般需要对硅片发射结面进行镀减反射膜的步骤。目前，氮化硅薄膜作为晶体硅太阳能电池的光学减反射膜，同时也起到表面钝化和体内钝化的作用，可以提高太阳能电池的转换效率。
[0004]现有技术中，制备氮化硅薄膜一般采用的是等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法，拥有成熟的工艺和相应的设备，如可以采用德国ROTH&RAU公司的PECVD镀膜设备。在采用PECVD镀膜设备制备氮化硅薄膜的过程中，需要使用一种承载硅片的石墨框，而石墨框的传输控制会使用到自动上下料装置，其用来负责石墨框的上下循环反复的传输。其整个传输过程分为上传输和下回传，在上下传输的衔接处，使用升降电机。
[0005]现有的自动上下料装置见附图1所示，包括滚轮传送机构1、升降电机，升降电机上设有升降台8。石墨框从PECVD镀膜设备中传送出来以后，在滚轮轮传送机构I的带动下向升降台下位等待区域移动，当石墨框运动至一定位置时，石墨框2会遮挡住等待区域的停止位光电传感器3，此时，滚轮轮传送机构停止转动，石墨框也停止运动。图1中，极限位光电传感器4起保护作用，防止石墨框运行超出限位，避免升降台在下降过程中夹断石墨框。
[0006]然而，实际应用中发现，石墨框的传输是有惯性的，而传动过程中，由于极限位光电传感器的信号保护是在升降电机运行指令输出前，在运行指令输出后，升降电机运行不受传感器信号的控制，因此会出现当停止位光电传感器和极限位光电传感器的信号保护失效，石墨框出现越位的情况，但是此时升降电机并无感知，继续下降，从而产生夹石墨框的故障。
【发明内容】
[0007]本实用新型的目的是提供一种用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置。
[0008]为达到上述发明目的，本实用新型采用的技术方案是:一种用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，包括滚轮传送机构、升降电机，升降电机上设有升降台，所述升降台具有升降台上位和升降台下位；
[0009]还包括升降台上位等待区域和升降台下位等待区域，所述升降台下位等待区域与所述升降台下位配合并位于升降台下位的侧部；
[0010]所述升降台下位处设有行程开关；所述升降台下位等待区域设有定位汽缸；
[0011]所述定位汽缸由行程开关控制连接，使定位汽缸具有如下2个工作位:
[0012](I)当升降台移动至升降台下位时，升降台下压并触发行程开关，行程开关控制定位气缸的活塞下降，石墨框在滚轮传送机构的传输下正常往升降台下位进行传输；
[0013](2)当升降台向上移动时，行程开关被放开，行程开关控制定位气缸的活塞上升，活塞挡于滚轮传送机构的前方，防止石墨框在滚轮传送机构的传输下超出活塞之外。
[0014]上文中，所述滚轮传送机构、升降电机及升降台均为现有技术。
[0015]当升降台向上移动时，行程开关被放开，行程开关控制定位气缸的活塞上升，活塞挡于滚轮传送机构的前方，防止石墨框在滚轮传送机构的传输下超出活塞之外。即活塞挡于滚轮传送机构的前方，石墨框在滚轮传送机构的传输下最多只能抵于活塞上，而不超出允许范围，从而起到行程保护的作用。
[0016]上述技术方案中，所述升降台上位等待区域与所述升降台上位配合并位于升降台上位的侧部。
[0017]上述技术方案中，所述定位汽缸位于所述滚轮传送机构传输方向的前方下部。
[0018]上述技术方案中，所述滚轮传送机构的上方设有停止位传感器和极限位传感器。
[0019]由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点:
[0020]1.本实用新型设计了一种专门用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，通过设置行程开关以及定位汽缸实现了石墨框的准确定位，在石墨框的传输过程中，保证升降电机在运行状态下，石墨框能准确定位而不超出允许范围，避免了升降电机对极限位光电传感器输出信号的盲区，从而解决了升降电机在下降过程中夹住石墨框的故障问题，具有积极的现实意义；
[0021]2.本实用新型的结构简单，易于制备，成本较低，适于推广应用。
【附图说明】
[0022]图1是【背景技术】中的自动上下料装置的结构示意图。
[0023]图2是本实用新型实施例一中升降台位于升降台上位时的结构示意图。
[0024]图3是本实用新型实施例一中升降台位于升降台下位时的结构示意图。
[0025]图4是本实用新型实施例一中升降台下位等待区域的俯视图。
[0026]其中:1、滚轮传送机构；2、石墨框；3、停止位传感器；4、极限位传感器；5、升降台上位；6、行程开关；7、定位汽缸；8、升降台；9、升降台下位等待区域；10、升降台下位；11、升降台上位等待区域。
【具体实施方式】
[0027]下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
[0028]实施例一:
[0029]参见图2~4所示，一种用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，包括滚轮传送机构1、升降电机，升降电机上设有升降台8，所述升降台具有升降台上位5和升降台下位10 ;
[0030]还包括升降台上位等待区域11和升降台下位等待区域9，所述升降台下位等待区域与所述升降台下位配合并位于升降台下位的侧部；
[0031]所述升降台下位处设有行程开关6 ;所述升降台下位等待区域设有定位汽缸7 ;
[0032]所述定位汽缸由行程开关控制连接，使定位汽缸具有如下2个工作位:
[0033](I)当升降台移动至升降台下位时，升降台下压并触发行程开关，行程开关控制定位气缸的活塞下降，石墨框在滚轮传送机构的传输下正常往升降台下位进行传输；参见图3所不；
[0034](2)当升降台向上移动时，行程开关被放开，行程开关控制定位气缸的活塞上升，活塞挡于滚轮传送机构的前方，防止石墨框在滚轮传送机构的传输下超出活塞之外；参见图2所示。
[0035]所述升降台上位等待区域与所述升降台上位配合并位于升降台上位的侧部。
[0036]所述定位汽缸位于所述滚轮传送机构传输方向的前方下部。
[0037]所述滚轮传送机构的上方设有停止位传感器和极限位传感器。
【主权项】
1.一种用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，包括滚轮传送机构(I)、升降电机，升降电机上设有升降台(8)，所述升降台具有升降台上位(5)和升降台下位(10); 还包括升降台上位等待区域(11)和升降台下位等待区域(9)，所述升降台下位等待区域与所述升降台下位配合并位于升降台下位的侧部；其特征在于: 所述升降台下位处设有行程开关￠);所述升降台下位等待区域设有定位汽缸(7); 所述定位汽缸由行程开关控制连接，使定位汽缸具有如下2个工作位: (1)当升降台移动至升降台下位时，升降台下压并触发行程开关，行程开关控制定位气缸的活塞下降，石墨框在滚轮传送机构的传输下正常往升降台下位进行传输； (2)当升降台向上移动时，行程开关被放开，行程开关控制定位气缸的活塞上升，活塞挡于滚轮传送机构的前方，防止石墨框在滚轮传送机构的传输下超出活塞之外。
2.根据权利要求1所述的用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，其特征在于:所述升降台上位等待区域与所述升降台上位配合并位于升降台上位的侧部。
3.根据权利要求1所述的用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，其特征在于:所述定位汽缸位于所述滚轮传送机构传输方向的前方下部。
4.根据权利要求1所述的用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，其特征在于:所述滚轮传送机构的上方设有停止位传感器和极限位传感器。
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，包括滚轮传送机构、升降电机，升降电机上设有升降台，所述升降台具有升降台上位和升降台下位；所述升降台下位处设有行程开关；所述升降台下位等待区域设有定位汽缸；所述定位汽缸由行程开关控制连接，使定位汽缸具有如下2个工作位。本实用新型通过设置行程开关以及定位汽缸实现了石墨框的准确定位，在石墨框的传输过程中，保证升降电机在运行状态下，石墨框能准确定位而不超出允许范围，避免了升降电机对极限位光电传感器输出信号的盲区，从而解决了升降电机在下降过程中夹住石墨框的故障问题。
【IPC分类】H01L31-18, H01L21-677
【公开号】CN204391073
【申请号】CN201520127895
【发明人】金佐良, 乔勇, 谢贤清
【申请人】苏州阿特斯阳光电力科技有限公司, 盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2015年3月5日