一种交流接触器的制造方法

文档序号:9107170阅读:405来源:国知局
一种交流接触器的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及接触器,尤其涉及三相交流接触器。
【背景技术】
[0002]现有技术中的高电压、高频率的三相交流接触器,其综合性能较差;比如有的接触器吹弧铁芯容易发热,灭弧系统绝缘性能较差;有的接触器控制回路采用交流控制,磁系统制造工艺复杂,接触器噪声较大;有的接触器电磁吸引线圈绝缘强度和机械强度较差,容易损坏;有的接触器灭弧性能较差;为了提高其综合性能需要在其结构上做进一步的改进。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种交流接触器。
[0004]为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案为:包括接触系统、电磁系统、灭弧系统和辅助触头系统,所述接触系统由三组动、静触头组成,静触头与弧角相连接,动触头固定在触头支持件;所述电磁系统包括电磁吸引线圈、磁轭、铁芯及衔铁;所述灭弧系统含有灭弧罩、导磁板、吹弧铁芯及电磁吹弧线圈;所述吹弧铁芯系由硅钢片卷制而成。
[0005]所述电磁系统中的控制回路采用直流控制;所述电磁吸引线圈采用塑料封装;所述灭弧罩由迷宫型陶瓷灭弧室与耐弧塑料外罩组合而成。
[0006]本实用新型的有益效果是,吹弧铁芯采用硅钢片卷制工艺,大大地降低了 300Hz工作频率造成的吹弧铁芯发热,有效保护了灭弧系统绝缘;控制回路采用直流操作,磁系统制造工艺简单,降低了接触器噪声;电磁吸引线圈采用塑料封装工艺,具有良好的绝缘强度和机械强度,不易损坏;灭弧罩采用迷宫型陶瓷灭弧室与耐弧塑料外罩组合型式,灭弧性能好,无飞弧。
【附图说明】
[0007]附图是交流接触器的结构示意图。
[0008]图中一底板;2 —基座;3 —电磁吹弧线圈;4 一吹弧铁芯;5 —静触头;6 —弧角;7 —动触头;8 —导磁板;9 一灭弧罩;10 —触头支持件;11 一衔铁;12 —铁芯;13 —电磁吸引线圈;14 一辅助触头;15 —磁轭。
【具体实施方式】
[0009]如附图所示,本实用新型包括接触系统、电磁系统、灭弧系统和辅助触头系统,接触系统由三组动、静触头组成,静触头5与弧角6相连接,动触头7固定在触头支持件10 ;电磁系统包括电磁吸引线圈13、磁轭15、铁芯12及衔铁11,电磁吸引线圈13采用塑料封装工艺,具有良好的绝缘强度和机械强度,不易损坏;控制回路采用直流操作,磁系统制造工艺简单,降低了接触器噪声;所述灭弧系统含有灭弧罩9、导磁板8、吹弧铁芯4及电磁吹弧线圈3,吹弧铁芯4采用硅钢片卷制工艺,大大地降低了 300Hz工作频率造成的吹弧铁芯发热,有效保护了灭弧系统绝缘;灭弧罩9采用迷宫型陶瓷灭弧室与耐弧塑料外罩组合型式,灭弧性能好,无飞弧。辅助触头14组装于底板上方。
[0010]工作原理:电磁吸引线圈13受电后,电磁系统建立起电磁场,铁芯12对衔铁11产生吸力,衔铁11向下运动,带动动触头7向下运动,动触头7与静触头5接触,交流接触器主回路闭合。电磁吸引线圈13断电时,电磁系统建立的电磁场消失,铁芯12对衔铁11失去吸力,在反力弹簧的作用下,衔铁11向上运动,带动动触头7向上运动,动触头7与静触头5分离,交流接触器主回路断开。
[0011]本实用新型的额定工作电压为AC 1000V、额定工作频率为300Hz、控制线圈电压为DC 24V,是一种高电压、高频率、直流控制的三相交流接触器。主要用于永磁电机试验平台上,变频器和电机输出回路之间的电机控制,也可用于变频器控制设备中。
【主权项】
1.一种交流接触器,包括接触系统、电磁系统、灭弧系统和辅助触头系统,所述接触系统由三组动、静触头组成,静触头与弧角相连接,动触头固定在触头支持件;所述电磁系统包括电磁吸引线圈、磁轭、铁芯及衔铁;所述灭弧系统含有灭弧罩、导磁板、吹弧铁芯及电磁吹弧线圈;其特征在于,所述吹弧铁芯系由硅钢片卷制而成。2.根据权利要求1所述的交流接触器,其特征在于,所述电磁系统中的控制回路采用直流控制。3.根据权利要求1所述的交流接触器,其特征在于,所述电磁吸引线圈采用塑料封装。4.根据权利要求1所述的交流接触器,其特征在于,所述灭弧罩由迷宫型陶瓷灭弧室与耐弧塑料外罩组合而成。
【专利摘要】本实用新型公开了一种交流接触器。包括接触系统、电磁系统、灭弧系统和辅助触头系统,所述接触系统由三组动、静触头组成,静触头与弧角相连接,动触头固定在触头支持件;所述电磁系统包括电磁吸引线圈、磁轭、铁芯及衔铁;所述灭弧系统含有灭弧罩、导磁板、吹弧铁芯及电磁吹弧线圈;所述吹弧铁芯系由硅钢片卷制而成。
【IPC分类】H01H50/38, H01H50/16, H01H50/44, H01H9/44
【公开号】CN204760325
【申请号】CN201520431259
【发明人】黄国顺, 李晓红, 甄树伟, 杨连定
【申请人】天水西星电气有限责任公司
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年6月19日
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