一种上胶机的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体工艺领域，尤其涉及一种上胶机。
【背景技术】
[0002]半导体制程中，通常使用光刻胶或光阻(Photoresist，PR)作为掩膜层，进而采用光刻、显影工艺技术将目的图案转移到半导体元件上，形成表面带有微图形结构的晶圆。其中，将光刻胶采用上胶机均匀涂布到晶圆表面的过程即为上胶(Coating)过程。
[0003]现有的上胶过程通常采用旋转式的上胶机，如图1所示，晶圆I置于吸盘2上，吸盘2下端与连轴3固定连接，连轴3另一端与第一驱动装置4连接，第一驱动装置4驱动连轴3和吸盘2的升降，于吸盘2和第一驱动装置4之间设置有贯穿连轴3的磁流体5，磁流体5驱动连轴3和吸盘2的旋转，连轴3内置有真空管31，以提供真空。上胶机还包括光刻胶喷嘴6，用于向晶圆I正面喷吐光刻胶；背洗喷嘴7，用于向晶圆I背面喷射清洗液，清洗晶圆I背面的光刻胶；围绕吸盘2的保护罩8，阻挡吸盘2旋转时，光刻胶和背洗液飞溅。进行上胶时，第一驱动装置4驱动吸盘2和连轴3升高至预设高度，光刻胶喷嘴6移动至晶圆I的正上方，将光刻胶喷吐至晶圆I的中心，磁流体5驱动吸盘2和连轴3旋转，通过离心力的作用使光刻胶均匀地涂布在晶圆I的表面。
[0004]在现有的上胶机使用时，90%以上涂布在晶圆I上的光刻胶都在旋转过程中被高速甩出到保护罩8内，同时背洗液也排放到保护罩8内，两种溶液混合形成废弃物导致光刻胶无法回收再利用，大量排出的光刻胶不仅污染了环境，而且还造成了光刻胶的浪费，使光刻胶的使用率低，增加了生产半导体元件的成本。
[0005]图2为现有上胶机所使用的磁流体5和连轴3的连接关系示意图，当背洗时，背洗液会滴落至磁流体5上表面并沿其表面从连轴3和磁流体5之间的缝隙进入磁流体5内，造成磁流体5的损坏。
【发明内容】
[0006]为改进现有上胶机的不足，本实用新型通过设置分别回收光刻胶和背洗液的第一保护罩和第二保护罩，以及在磁流体表面增设与其一体成型的台阶，防止磁流体表面的液体进入磁流体内部，提高上胶机的性能。
[0007]具体技术方案如下:一种上胶机，对晶圆进行上胶和背洗处理，至少包括放置晶圆的吸盘、与所述吸盘连接的连轴、与所述连轴下端连接并驱动所述连轴升降的第一驱动装置、位于所述吸盘和第一驱动装置之间并贯穿所述连轴的磁流体、以及环绕所述吸盘的第一保护罩，其特征在于:所述第一保护罩内部设置第二保护罩，所述第二保护罩上端连接自由摆动的第三保护罩。
[0008]优选的，所述第三保护罩向内摆动至所述晶圆下方，形成第一倾斜面；所述第三保护罩向外摆动至所述第一保护罩内侧面，形成第二倾斜面。
[0009]优选的，所述第三保护罩由若干个防护板组成，所述防护板底部邻接，上部自由开口 O
[0010]优选的，所述防护板的形状呈梯形。
[0011]优选的，所述第一保护罩、第二保护罩呈圆形或多边形。
[0012]优选的，所述第一保护罩上端高于所述吸盘表面，所述吸盘表面高于所述第二保护罩上端。
[0013]优选的，所述磁流体上表面中心位置设置有贯穿所述连轴的台阶。
[0014]优选的，所述台阶与磁流体上表面为一体成型。
[0015]优选的，所述台阶内缘呈圆形，外缘呈圆形或多边形。
[0016]优选的，所述上胶机还包括第二驱动装置，驱动所述第三保护罩的自由摆动。
[0017]本实用新型至少具有以下有益效果:
[0018]1、在第一保护罩内部设置第二保护罩，使光刻胶进入第一保护罩内，而背洗液进入第二保护罩内，从而实现对光刻胶和背洗液的分离回收；
[0019]2、在第二保护罩的上端设置自由摆动的第三保护罩，从而保证光刻胶和背洗液可分别全部进入第一保护罩和第二保护罩内；
[0020]3、在磁流体上表面中心位置设置与其一体成型并贯穿连轴的台阶，从而防止滴落至磁流体表面的背洗液进入磁流体内部损坏磁流体。
【附图说明】
[0021]图1为现有技术中上胶机的侧视图。
[0022]图2为现有技术中上胶机的磁流体和连轴结构示意图。
[0023]图3为本实用新型之上胶机上胶时侧视图。
[0024]图4为本实用新型之上胶机背洗时侧视图。
[0025]图5为本实用新型之上胶机上胶时俯视图。
[0026]图6为本实用新型之上胶机的磁流体和连轴结构示意图。
[0027]附图标注:1.晶圆；2.吸盘；3.连轴；31.真空管；4.第一驱动装置；5.磁流体；51.台阶；6.光刻胶喷嘴；7.背洗喷嘴；8.保护罩；81.第一保护罩；82.第二保护罩；83.第三保护罩；831.防护板；84.第二驱动装置;A.第一倾斜面第二倾斜面。
【具体实施方式】
[0028]以下结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细说明。需说明的是，本实用新型的附图均采用非常简化的非精准比例，仅用以方便、明晰的辅助说明本实用新型。
具体实施例
[0029]参看附图3，本实用新型提供的一种上胶机，对晶圆I进行上胶和背洗处理，包括:放置晶圆I的吸盘2、与吸盘2下端连接的中空的连轴3、与连轴3另一端连接的第一驱动装置4、贯穿连轴3并且位于吸盘2和第一驱动装置4之间的磁流体5、置于吸盘2上方的光刻胶喷嘴6、位于吸盘2下方的背洗喷嘴7、围绕吸盘2设置的第一保护罩81、位于第一保护罩81内部的第二保护罩82。第一驱动装置4驱动连轴3和吸盘2的升降，磁流体5驱动连轴3和吸盘2的旋转，光刻胶喷嘴6用于将光刻胶喷吐于晶圆I表面，背洗喷嘴7用于将背洗液喷射于晶圆I背面，第一保护罩81和第二保护罩82防止晶圆I在旋转过程中光刻胶或背洗液的飞溅，连轴3内置有真空管31，以提供真空。对晶圆I进行上胶处理时，晶圆I置于吸盘2上，第一驱动装置4驱动连轴3和吸盘2升至预设高度，光刻胶喷嘴6移位至晶圆I中心并将光刻胶喷吐于晶圆I表面，然后磁流体5驱动连轴3和吸盘2进行高速旋转，将光刻胶均匀地涂布于晶圆I表面，之后连轴3和吸盘2停止旋转。对晶圆I进行背洗处理时，背洗喷嘴7将背洗液喷射于晶圆I背面边缘，连轴3和吸盘2再次旋转，用以清洗上胶时由晶圆I正面流入背面的光刻胶。
[0030]继续参看附图3，第一保护罩81和第二保护罩82分别用于回收上胶和背洗时的光刻胶和背洗液，第一保护罩81上端高于吸盘2表面，吸盘2表面高于第二保护罩82上端。上胶时，旋转的光刻胶在离心力的作用下越过第二保护罩82被甩进第一保护罩81内；而背洗时，背洗液直接被甩入第二保护罩82内，从而实现将光刻胶和背洗液分离。
[0031]由于晶圆I在旋转过程中，其转速先慢后快再慢，因此，较慢转速时的被甩出的光刻胶则可能无法进入第一保护罩81内，造成不能完全回收光刻胶。为了实现光刻胶的完全回收，本实施例中在第二保护罩82上端连接自由摆动的第三保护罩83，第二驱动装置84用于驱动第三保护罩83的自由摆动。当上胶时，第三保护罩83可向内摆动至晶圆I下方，形成第一倾斜面A (如附图3所示)，使光刻胶沿第一倾斜面A完全进入第一保护罩81内；当背洗时，第三保护罩83可向外摆动至第一保护罩81内侧面，此时第三保护罩83形成第二倾斜面B (如附图4所示)，使背洗液沿第二倾斜面B全部进入第二保护罩82内。
[0032]参看附图5，第一保护罩81和第二保护罩82的形状呈圆形或多边形，为便于第三保护罩83的连接，本实施例优选八边形的第一保护罩81和第二保护罩82。第三保护罩83由若干个呈梯形的防护板831组成，本实施例中防护板831的个数与第一保护罩81和第二保护罩82的多边形边数一致，均为8个。防护板831底部邻接，上部自由开合。当第三保护罩83向外摆动至第一保护罩81内侧面时，防护板831上部恰好无缝隙邻接，使背洗液全部进入第二保护罩82内，防止背洗液进入第一保护罩81内；当第三保护罩83向内摆动至晶圆I下方时，防护板831部分重叠，使光刻胶全部进入第一保护罩81内，防止光刻胶进入第二保护罩82内。
[0033]参看附图6，在磁流体5的上表面中心位置设置贯穿所述连轴3的台阶51，优选所述台阶51与磁流体5上表面为一体成型，从而增强磁流体5与台阶51的密封性；台阶51内缘呈圆形，外缘呈圆形或多边形，防止滴落至磁流体5表面的背洗液进入其内损坏磁流体5。
[0034]应当理解的是，上述具体实施方案为本实用新型的优选实施例，本实用新型的范围不限于该实施例，凡依本实用新型所做的任何变更，皆属本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种上胶机，对晶圆进行上胶和背洗处理，至少包括:放置晶圆的吸盘、与所述吸盘连接的连轴、与所述连轴下端连接并驱动所述连轴升降的第一驱动装置、位于所述吸盘和第一驱动装置之间并贯穿所述连轴的磁流体、以及环绕所述吸盘的第一保护罩，其特征在于:所述第一保护罩内部设置第二保护罩，所述第二保护罩上端连接自由摆动的第三保护罩。2.根据权利要求1所述的一种上胶机，其特征在于:所述第三保护罩向内摆动至所述晶圆下方，形成第一倾斜面；所述第三保护罩向外摆动至所述第一保护罩内侧面，形成第二倾斜面。3.根据权利要求1所述的一种上胶机，其特征在于:所述第三保护罩由若干个防护板组成，所述防护板底部邻接，上部自由开合。4.根据权利要求3所述的一种上胶机，其特征在于:所述防护板的形状呈梯形。5.根据权利要求1所述的一种上胶机，其特征在于:所述第一保护罩、第二保护罩呈圆形或多边形。6.根据权利要求1所述的一种上胶机，其特征在于:所述第一保护罩上端高于所述吸盘表面，所述吸盘表面高于所述第二保护罩上端。7.根据权利要求1所述的一种上胶机，其特征在于:所述磁流体上表面中心位置设置有贯穿所述连轴的台阶。8.根据权利要求7所述的一种上胶机，其特征在于:所述台阶与磁流体上表面为一体成型。9.根据权利要求7所述的一种上胶机，其特征在于:所述台阶内缘呈圆形，外缘呈圆形或多边形。10.根据权利要求1所述的一种上胶机，其特征在于:还包括第二驱动装置，驱动所述第三保护罩的自由摆动。
【专利摘要】本实用新型提供了一种上胶机，对晶圆进行上胶和背洗处理，至少包括放置晶圆的吸盘、与所述吸盘连接的连轴、与所述连轴下端连接并驱动所述连轴升降的第一驱动装置、位于所述吸盘和第一驱动装置之间并贯穿所述连轴的磁流体、以及环绕所述吸盘的第一保护罩，其特征在于：所述第一保护罩内部设置第二保护罩，所述第二保护罩上端连接自由摆动的第三保护罩。本实用新型通过设置第一保护罩、第二保护罩和第三保护罩，实现光刻胶和背洗液的完全分离回收；并通过在磁流体表面设置与其一体成型的台阶，防止背洗液进入磁流体内部损坏磁流体。
【IPC分类】H01L21/67
【公开号】CN204905221
【申请号】CN201520655203
【发明人】张斌, 王猛, 卜祥民, 庄士贤, 林耀辉
【申请人】安徽三安光电有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年8月28日