清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体器件制造领域，尤其涉及清洗装置。
【背景技术】
[0002]在集成电路以及超大集成电路制造工艺中，光刻步骤一般是将光刻胶涂抹在玻璃片或金属膜上，然后进行烘烤，曝光，显影后得到所需要的有抗蚀剂保护的图形。接着进行刻蚀工艺，将图形转移到晶圆表面上，然后将覆盖在晶圆上的保护膜除去。
[0003]通常，在制造半导体器件的工艺中使用十几次光刻工艺，它包括去掉光刻胶掩膜版没有掩盖部分的光刻胶，在半导体衬底的传导层上形成光刻图形，然后刻蚀掉传导层上光刻胶图形没有掩盖的部分，从而形成传导层的图形，在传导层图形形成后，光刻胶图形必须用光刻胶剥离剂从传导层去除。有专门的清洗装置来去除光刻胶基板上的光刻胶，如图1所示，在清洗装置中设置有多个供液槽10，以及多个与供液槽10相连接的剥离槽20，其中，剥离槽上还设置有喷嘴(图中未示出)，用来将光刻胶剥离液喷到基板上，以清洗基板上的光刻胶，供液槽10用来存储光刻胶剥离液。供液槽10与剥离槽20之间设置有第一管路30，第一管路30上设置有第一栗体50，用于将供液槽10中的液体输送至剥离槽20，同时剥离槽20上还设置有回收装置，清洗过光刻胶的光刻胶剥离液通过回收装置将基板上流下来的液体回收到供液槽10中。此外供液槽10还设置有出液口、与回收装置对应的回收口和进液口，在清洗供液槽10或者为供液槽10更换光刻胶剥离液时，设置于第二管路40上的第二栗体60将水或者光刻胶剥离液输送至供液槽。
[0004]现有技术的清洗装置，由于在前的供液槽10最先剥离光刻胶，大部分剥离的光刻胶都在靠前的供液槽10中，以致多个供液槽10中的光刻胶剥离液浑浊度由前到后依次递减，在需要换液时为了节省药液和清洗供液槽10，需顺序将后一个供液槽10中的液体排到前一个供液槽1中，例如，将第四个供液槽1中的液体排到第三个供液槽1，第三个供液槽10的液体排到第二个供液槽10，第二个供液槽10的液体排到第一个供液槽10，因此液体更换过程中，每个供液槽10设置一个第二栗体60，从而才能将后一个供液槽10的液体排入前一个供液槽10中。这种方式，需要为每个供液槽10单独设置第二栗体60，从而提高了生产成本。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型提供清洗装置，以克服现有技术中需要为每个供液槽单独设置栗，从而提高了生产成本的技术问题。
[0006]本实用新型提供清洗装置，包括多个供液槽、多个剥离槽、第一管路、第二管路、第一栗体和第二栗体，
[0007]多个所述供液槽的设置位置依次升高，所述剥离槽与所述供液槽的数量相等，所述供液槽由低到高与沿工序方向排布的多个所述剥离槽一一对应；
[0008]所述第一管路的一端与所述供液槽连通，另一端与所述剥离槽连通，所述第一栗体设置在所述第一管路上；
[0009]所述第二管路设置于相邻两供液槽之间，且所述第二管路的一端与所述位置较高的供液槽连通，另一端与位置较低的供液槽连通；
[0010]所述第二管路上设置有阀门，位置最高的所述供液槽的进液口与所述第二栗体连接。
[0011]优选地，所述供液槽设置有进液口、第一出液口和第二出液口，所述第一出液口与所述第一管路连接，相邻两个所述供液槽中高度较低的一个所述供液槽的进液口与高度较高的所述供液槽的第二出液口通过第二管路连接。
[0012]优选地，所述第一出液口的高度不高于所述第二出液口的高度。
[0013]优选地，所述进液口设置于所述供液槽的上部。
[0014]优选地，所述第一管路与所述第二管路连接，且所述第一管路与所述第二管路的连接处，位于相邻两个所述供液槽中位置较高的所述供液槽与阀门之间。
[0015]优选地，所述供液槽的底部设置有能够开闭的第三出液口。
[0016]优选地，所述供液槽上还设置有与所述第三出液口相匹配的阀门。
[0017]优选地，在所述第一管路上还设置有过滤器。
[0018]优选地，所述阀门为自动阀门。
[0019]优选地，所述供液槽上还设置有液位传感器。
[0020]本实用新型的技术方案，多个供液槽的设置位置依次升高，所述剥离槽与所述供液槽的数量相等，所述供液槽由低到高与沿工序方向排布的多个所述剥离槽一一对应；只需要为位置最高的供液槽设置连接一个栗体，利用位置最高的供液槽与其他的供液槽之间的液位差所产生液压即可为其他供液槽灌液，从而简化整个装置，节约生产成本。
【附图说明】
[0021]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]图1为现有技术的清洗装置的示意图；
[0023]图2为本实用新型的清洗装置的其中一个实施例的示意图；
[0024]图3为图2所示清洗装置的供液槽的放大示意图；
[0025]图4为本实用新型的清洗装置的另一实施例的示意图。
【具体实施方式】
[0026]为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0027]图2为本实用新型的清洗装置的其中一个实施例的示意图，如图2所示，本实施例的清洗装置，具体可以包括多个供液槽10、多个剥离槽20、第一管路30、第二管路40、第一栗体50和第二栗体60。
[0028]多个供液槽10的设置位置依次升高，剥离槽20与供液槽10的数量相等，供液槽10由低到高与沿工序方向排布的多个剥离槽20—一对应;第一管路30的一端与供液槽10连通，另一端与剥离槽20连通，第一栗体50设置在第一管路30上;第二管路40设置于相邻两供液槽10之间，且第二管路40的一端与位置较高的供液槽连通，另一端与位置较低的供液槽连通;第二管路40上设置有阀门401，位置最高的供液槽的进液口与第二栗体60连接。
[0029]当需要为供液槽10换液体时，为清楚地介绍本实用新型，以供液槽10的数目为3个为例，设置位置由低到高依次称为第一供液槽10a、第二供液槽1b和第三供液槽10c。相应的剥离槽20可以称为第一剥离槽20a、第二剥离槽20b和第三剥离槽20c。每个剥离槽20上均设置有喷嘴和回收装置，由喷嘴喷出的药液与待清洗设备上的光刻胶反应时，使光刻胶溶解，并沿待清洗设备流到剥离槽20上的回收装置，回收装置朝向供液槽的一面设置有开口，相应地，供液槽10也设置有与开口对应的回收口，使溶解的光刻胶由回收装置流回供液槽10，防止污染环境。
[0030]由于第一剥离槽20a、第二剥离槽20b和第三剥离槽20c从前到后排列，当清洗待清洗设备，例如基板时，位置处于最前面第一剥离槽20a所剥离的光刻胶最多，其所对应的第一供液槽I Oa里面的药液最浑浊，第二供液槽I Ob中的药液次浑浊，位置最高的供液槽中的药液最不浑浊。为节省药液，通常将第一供液槽1a中的药液排出，将第二供液槽1b中的药液排到第一供液槽10a，第三供液槽1c的药液排到第二供液槽10b，为第三供液槽1c灌入新的药液。
[0031]本实施例在清洗待清洗设备时，由于供液槽10的水平位置不一定高于剥离槽20，需要通过压力设备将药液输送至剥离槽20，所以在供液槽10和剥离槽20之间的第一管路30上设置第一栗体50。在使用时，启动第一栗体50，使供液槽10中的药液通过第一管路30输送至剥离槽20，再接收由剥离槽20的回收装置回收的溶解的光刻胶。当第一供液槽I Oa的药液严重浑浊，将第一供液槽1a的药液排出，打开第二管路40上的阀门，以及第二栗体60。由于第二供液槽1b的设置位置高于第一供液槽1a，二者中的液体存在液位差，这样第二供液槽I Ob中的药液流入第一供液槽I Oa，第三供液槽I Oc中的药液流入第二供液槽I Ob，第二栗体60将输送管路中的药液输送至第三供液槽1c，当第一供液槽1a中的药液注满，或者将要注满时，关于第一供液槽1a和第二供液槽1b之间的阀门，停止向第一供液槽1a注液，当第二供液槽1b中的药液注满或者将要注满时，将第二供液槽1b与第三供液槽1c之间的阀门关闭，停止向第二供液槽1b注液，当第三供液槽1c中的药液注满或将要注满时，关闭第二栗体60，从而完成了换药液的