直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜的制作方法
【专利摘要】直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜，包括塑料薄膜和金属镀层构成的金属化膜，所述的金属镀层为阶梯式方阻镀层，包括第一方阻镀层、第二方阻镀层和第三方阻镀层，第一方阻镀层的高度H1为90nm，第二方阻镀层的高度H2为30nm，第三方阻镀层的高度H3为3—4nm。本方案将金属镀层设计成阶梯式方阻镀层，包括第一方阻镀层、第二方阻镀层和第三方阻镀层，由于产品对电流要求不高，在对称的两块金属化膜卷绕出来的电容器元件上面，只要出现薄弱点，就能够将高方阻部分的金属镀层层迅速气化而蒸发，薄膜自愈。由于薄弱点的面积甚小，对产品的电容量损失几乎为零，所以这种阶梯式高方阻金属化膜结构的材料特别适合直流支撑电容器的广泛使用。
【专利说明】
直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜，属于电气元件领域。
【背景技术】
[0002]金属化电力电容器的金属化膜，其常规的结构形式为一个1mm左右的加厚区域，其方块区域的电阻是2.5Ω，其余部分电阻为7.5Ω。这样一种结构形式对于电压要求较高而电流要求不高的产品来说，只要把金属化膜的厚度加大就行了。金属化膜的抗电压强度是由材料本身的性质所决定的，其一般的耐压都比较高，但是，在生产工艺和设备方面的欠缺，往往会在其成品后产生不少的薄弱点，从而导致材料电压击穿。所以，在电容器产品设计的时候会选择大大小于其耐压强度的值，为了产品质量安全，设计的电压强度一般小于材料本身的1/3以下，这就会浪费不少的材料。
【发明内容】
[0003]本实用新型的目的是为了克服已有技术的缺点，提供一种阶梯式方阻镀层结构，镀层能迅速气化补偿，薄膜自愈，避免电容量损失的直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜。
[0004]本实用新型直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜的技术方案是:包括塑料薄膜和金属镀层构成的金属化膜，其特征在于所述的金属镀层为阶梯式方阻镀层，包括第一方阻镀层、第二方阻镀层和第三方阻镀层，第一方阻镀层的高度Hl为90nm，第二方阻镀层的高度H2为30nm，第三方阻镀层的高度H3为3—4nm。
[0005]本实用新型的直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜，将金属镀层设计成阶梯式方阻镀层，包括第一方阻镀层、第二方阻镀层和第三方阻镀层，由于产品对电流要求不高，在对称的两块金属化膜卷绕出来的电容器元件上面，只要出现薄弱点，就能够将高方阻部分的金属镀层层迅速气化而蒸发，薄膜自愈。由于薄弱点的面积甚小，对产品的电容量损失几乎为零，所以这种阶梯式高方阻金属化膜结构的材料特别适合直流支撑电容器的广泛使用。
[0006]本实用新型的直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜，所述第一方阻镀层的电阻为2.5Ω，第二方阻镀层的电阻为7.5Ω，第三方阻镀层的电阻为50—60Ω。所述的塑料薄膜为聚丙烯薄膜。所述的金属镀层为锌铝镀层。能有效提高电容器金属化膜的机械应力和耐压等电气性能。
【附图说明】
[0007]图1是本实用新型直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜结构示意图。
【具体实施方式】
[0008]本实用新型涉及一种直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜，如图1所示，包括塑料薄膜I和金属镀层2构成的金属化膜3，所述的金属镀层2为阶梯式方阻镀层，包括第一方阻镀层4、第二方阻镀层5和第三方阻镀层6，第一方阻镀层4的高度Hl为90nm，第二方阻镀层5的高度H2为30nm，第三方阻镀层6的高度H3为3—4nm。本方案将金属镀层设计成阶梯式方阻镀层，包括第一方阻镀层4、第二方阻镀层5和第三方阻镀层6，由于产品对电流要求不高，在对称的两块金属化膜卷绕出来的电容器元件上面，只要出现薄弱点，就能够将高方阻部分的金属镀层层迅速气化而蒸发，薄膜自愈。由于薄弱点的面积甚小，对产品的电容量损失几乎为零，所以这种阶梯式高方阻金属化膜结构的材料特别适合直流支撑电容器的广泛使用。所述第一方阻镀层4的电阻为2.5Ω，第二方阻镀层5的电阻为7.5Ω，第三方阻镀层6的电阻为50—60 Ω。所述的塑料薄膜I为聚丙烯薄膜。所述的金属镀层2为锌铝镀层。能有效提1?电容器金属化I旲的机械应力和耐压等电气性能D
【主权项】
1.直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜，包括塑料薄膜(I)和金属镀层(2)构成的金属化膜(3)，其特征在于所述的金属镀层(2)为阶梯式方阻镀层，包括第一方阻镀层(4)、第二方阻镀层(5)和第三方阻镀层(6)，第一方阻镀层(4)的高度Hl为90nm，第二方阻镀层(5)的高度H2为30nm，第三方阻镀层(6)的高度H3为3—4nm。2.如权利要求1所述的直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜，其特征在于所述第一方阻镀层(4)的电阻为2.5Ω，第二方阻镀层(5)的电阻为7.5Ω，第三方阻镀层(6)的电阻为50—60 Ω。3.如权利要求1所述的直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜，其特征在于所述的塑料薄膜(I)为聚丙烯薄膜。4.如权利要求1所述的直流支撑电容器用阶梯式高方阻金属化膜，其特征在于所述的金属镀层(2)为锌铝镀层。
【文档编号】H01G4/015GK205428701SQ201620168718
【公开日】2016年8月3日
【申请日】2016年3月7日
【发明人】陈家骅
【申请人】浙江台州特总电容器有限公司