一种基板处理系统的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供一种基板处理系统，属于显示面板制备技术领域，其可解决现有的基板处理装置中因风扇无法将基板完全吹干及导致显影液分布不均匀导致的显影失败的问题。本实用新型的基板处理系统，包括传送装置、沿传送装置的传送方向依次设置的基板处理装置和显影装置；传送装置位于基板处理装置和显影装置下方，传送装置用于承载并运送基板；基板处理装置包括沿传送装置的传送方向依次设置的清洗单元和风干单元，风干单元设置有多个出气口，出气口面向传送装置；风干单元用于通过多个出气口向传送装置提供气体，以使基板干燥；显影装置包括显影喷嘴，显影喷嘴用于向风干单元干燥后的基板喷射显影液。
【专利说明】
一种基板处理系统
技术领域
[0001]本实用新型属于显示面板制备技术领域，具体涉及一种基板处理系统。
【背景技术】
[0002]在当代面板制造行业中，人们对工艺精度的要求越来越高，尤其对在曝光阶段产生的缺陷管控提出了更高的要求，其中，显示面板在显影过程中产生的缺陷一直是研发人员重点关注的对象。
[0003]目前，显影过程主要包括以下步骤:(I)对基板进行清洗，主要是为了去除基板表面的杂质；(2)利用风扇将清洗后残留在基板表面的水分吹干；(3)显影喷嘴向基板喷洒显影液；(4)显影液静置一段时间后进行显影。
[0004]但现有技术中至少存在如下问题:(I)由于现有技术中利用风扇对基板进行吹干，风扇的扇叶转动形成的吹干气流是漩涡状的，其吹在基板上会导致基板上部分区域受到的风力大，吹干较充分，基本上没有水分残留，在基板上喷洒显影液后，该部分的显影液浓度不发生变化，但同时，也会导致基板上部分区域受到的风力小，吹干不充分，基板上有水分残留，而这部分残留的水分会导致在基板上喷洒显影液后，该部分的显影液被稀释，即显影液浓度低，由此，显影液浓度相对高的部分的图案会形成破口，使其下层的图案暴露出来，造成图案成型失败，显影液浓度相对低的部分会发生显影不完全的现象，也就是说，清洗后的基板上的水分未吹干会导致显影失败；(2)由于基板在进过风扇吹干后直接被显影喷嘴喷洒显影液，风扇形成的漩涡状气流会导致喷洒的显影液分布不均匀(即有的地方显影液多，有的地方显影液少)，从而导致显影失败。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型针对现有的基板处理装置中因风扇无法将基板完全吹干及导致显影液分布不均匀导致的显影失败的问题，提供一种能够将基板完全吹干且不影响显影液分布的基板处理系统。
[0006]解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种基板处理系统，包括传送装置、沿所述传送装置的传送方向依次设置的基板处理装置和显影装置;所述传送装置位于所述基板处理装置和所述显影装置下方，所述传送装置用于承载并运送基板；
[0007]所述基板处理装置包括沿所述传送装置的传送方向依次设置的清洗单元和风干单元，所述风干单元设置有多个出气口，所述出气口面向所述传送装置；
[0008]所述风干单元用于通过多个所述出气口向所述传送装置提供气体；
[0009]所述显影装置包括显影喷嘴，所述显影喷嘴用于向所述风干单元干燥后的基板喷射显影液。
[0010]其中，所述出风口提供的气体的风向与所述传送装置的运送方向之间呈设定夹角。
[0011 ]其中，所述设定夹角大于O度且小于90度。
[0012]其中，所述基板处理装置还包括:排风单元，所述排风单元位于所述传送装置下方，所述排风单元用于将从所述基板上吹落的水汽排出。
[0013]其中，所述基板处理装置还包括:供气单元，所述供气单元与所述风干单元连接；所述供气单元用于向所述风干单元提供气体。
[0014]其中，所述供气单元为气栗，所述供气单元通过导通管道与所述风干单元连接。
[0015]其中，所述基板处理装置还包括:感应单元，所述感应单元位于所述清洗单元前方;所述感应单元用于感应基板的位置。
[0016]其中，所述感应单元为传感器。
[0017]本实用新型的基板处理系统中，包括传送装置、沿传送装置的传送方向依次设置的基板处理装置和显影装置，基板处理装置包括沿传送装置的传送方向依次设置的清洗单元和风干单元，风干单元设置有多个出气口，出气口面向传送装置，风干单元用于通过多个出气口向传送装置提供气体，以使基板干燥，通过将现有技术中的风扇改为设置有多个朝向传送装置提供气体的出气口，使气体朝向同一个方向进行吹干，可以使吹在基板上各部分的气体量一致，将清洗后的基板上的水分吹干，当基板上喷洒显影液后不会造成基板上不同位置的显影液浓度不同的现象，从而避免了因显影液浓度不同导致的显影失败;而且，由于出气口面向传送装置，因此，不会对喷洒在基板上的显影液造成影响，即不影响显影液的喷洒均匀性，从而避免了显影失败。
【附图说明】
[0018]图1为本实用新型的实施例1的基板处理系统的结构示意图；
[0019]图2为本实用新型的实施例1中的风干单元的结构示意图；
[0020]图3为本实用新型的实施例1中的显影装置的结构示意图；
[0021]其中，附图标记为:10、传送装置；11、辊轮；12、驱动器；21、清洗单元；22、风干单元;221、出气口； 23、排风单元;24、供气单元;25、感应单元;30、显影装置;31、显影喷嘴;40、基板。
【具体实施方式】
[0022]为使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细描述。
[0023]实施例1:
[0024]请参照图1至3，本实施例提供一种基板处理系统，包括传送装置10、沿传送装置10的传送方向依次设置的基板处理装置和显影装置30;传送装置10位于基板处理装置和显影装置30下方，传送装置10用于承载并运送基板40。
[0025]由上述内容可知，基板40放置在传送装置10上，由传送装置10承载并运送基板40完成后，通过基板处理装置和显影装置30对基板40进行处理。优选地，传送装置10可以为传送带等利用驱动装置驱动的传送装置。例如，传送装置10可以包括多个辊轮11和驱动器12等部件;其中，驱动器12带动多个辊轮11转动，辊轮11上覆盖有传送带，驱动器12带动传送带移动，从而实现对基板40的运送。当然，传送装置10只要能起到承载并运送基板40的作用即可，在此不再赘述。
[0026]请参照图1和图2，基板处理装置包括沿传送装置10的传送方向依次设置的清洗单元21和风干单元22，风干单元22设置有多个出气口221，出气口221面向传送装置10;风干单元22用于通过多个出气口 221向传送装置10提供气体，以使基板40干燥。
[0027]从图2中可以看出，风干单元22设置有多个出气口221，在对基板40进行吹干时，多个出气口 221同时向基板40进行喷出气体，优选地，多个出气口 221均匀的分布在风干单元22中，从而使基板40在吹干过程中，利用基板40上各位置受到的相同的气体量，将清洗后的基板40上的水分吹干，从而在基板40上喷洒显影液后不会造成基板40上不同位置的显影液浓度不同，进而避免了因显影液浓度不同导致的显影失败。
[0028]其中，出风口221提供的气体的风向与传送装置10的运送方向之间呈设定夹角。
[0029]也就是说，多个出风口221是沿迎向基板40的方向进行吹干的，之所以如此设置，是由于迎向基板40进行吹干，可以增加风干的长度。具体地，由于气流的方向与基板40的运送方向相反，因此，在基板40向前运送时，气流可以将残留在基板40上的水分向与基板40运送方向相反的方向吹，从而延长了水分在基板40上的吹干距离，更有利于基板40上残留水分的吹干。
[0030]其中，设定夹角大于O度且小于90度。
[0031]进一步优选地，该设定夹角大于15度且小于60度。当然，也可以根据具体请具体设定。
[0032]其中，基板处理装置还包括:排风单元23，排风单元23位于传送装置10下方，排风单元23用于将从基板40上吹落的水汽排出。
[0033]之所以设置排风单元23，是由于在吹干过程中，气体会将残留在基板40上的液滴吹成水汽或很小的液滴被气体带走，设置排风单元23，可以将这些带有水汽或小液滴的气体排出，从而避免这些带有水汽的气体再次吹在基板40上，影响吹干效果，提高风干效率；而之所以将排风单元23设置在传送装置10的下方，是由于若将排风单元23设置在传送装置10的上方，会直接将未对基板40进行吹干的从出气口221中喷出的干燥气体直接排出，影响吹干效果，而将排风单元23设置在传送装置10的下方，可以将已经吹过基板40并带有水汽的气体排出，提高吹干效果。
[0034]其中，基板处理装置还包括:供气单元24，供气单元24与风干单元22连接;供气单元24用于向风干单元22提供气体。
[0035]相较于现有技术的风扇而言，本实施例的供气单元24在驱动装置的驱动下可以自行旋转产生气流，而本实施例的风干单元22无法如现有技术般产生气流，因此需要设置为风干单元22提供气体的供气单元24，供气单元24与风干单元22连接，其可以设置在基板处理装置内部，也可以设置在基板处理装置外部，或者，供气单元24不作为基板处理装置的一部分，而是单独作为一个独立的装置与基板处理装置的风干单元22连接(在此不具体画出)，只要能够为风干单元22提供气体即可，在此不对其位置进行赘述。
[0036]其中，供气单元24为气栗，供气单元24通过导通管道与风干单元22连接。
[0037]当然，供气单元24还可以为其它类型的供气装置，在此不再赘述。另外，在基板处理装置中还可以设置调节阀，通过调节阀控制供气单元24向风干单元22提供的气流大小，以便将清洗后的基板40上的水分完全吹干。
[0038]其中，基板处理装置还包括:感应单元25，感应单元25位于清洗单元21前方;感应单元25用于感应基板40的位置。
[0039]也就是说，基板40进入清洗单元21进行清洗前，需要先受到感应单元25的感应，感应单元25用于感应基板40的位置，包括感应基板40是否进入基板处理装置以及基板40在传送装置10上的位置是否准确等，一方面，可以避免因基板40在传送装置10上的位置不准确导致的位置偏移和工艺处理不充分，另一方面，也可以在没有基板40待处理的情况下，暂停清洗单元21和风干单元22，从而节约资源和能耗。
[0040]其中，感应单元25为传感器。当然，感应单元25的类型并不局限于此，还可以是其他种类的传感单元，在此不再赘述。
[0041]请参照图3，显影装置30包括显影喷嘴31，显影喷嘴31用于向风干单元22干燥后的基板40喷射显影液。
[0042]在风干单元22将残留在基板40上的水分吹干后，基板40被传送装置10运送至显影装置30内，并通过显影喷嘴31向基板40上喷洒显影液。优选地，显影喷嘴31均匀的分布在显影装置30中，因此，可以确保基板40上各部分被喷洒的显影液的量相同，从而避免了因基板40上的显影液分布不均匀导致的显影失败。
[0043]本实施例的基板处理系统，包括传送装置10、依次设置的基板处理装置和显影装置30，基板处理装置包括依次设置的清洗单元21和风干单元22，风干单元22设置有多个出气口221，出气口221面向传送装置10，风干单元22用于通过多个出气口221向传送装置10提供气体，以使基板40干燥，通过将现有技术中的风扇改为设置有多个朝向传送装置提供气体的出气口，使气体朝向同一个方向进行吹干，可以使吹在基板上各部分的气体量一致，将清洗后的基板上的水分吹干，当基板上喷洒显影液后不会造成基板上不同位置的显影液浓度不同的现象，从而避免了因显影液浓度不同导致的显影失败;而且，由于出气口面向传送装置，因此，不会对喷洒在基板上的显影液造成影响，即不影响显影液的喷洒均匀性，从而避免了显影失败。
[0044]可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种基板处理系统，其特征在于，包括传送装置、沿所述传送装置的传送方向依次设置的基板处理装置和显影装置;所述传送装置位于所述基板处理装置和所述显影装置下方，所述传送装置用于承载并运送基板； 所述基板处理装置包括沿所述传送装置的传送方向依次设置的清洗单元和风干单元，所述风干单元设置有多个出气口，所述出气口面向所述传送装置； 所述风干单元用于通过多个所述出气口向所述传送装置提供气体； 所述显影装置包括显影喷嘴，所述显影喷嘴用于向所述风干单元干燥后的基板喷射显影液。2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，所述出气口提供的气体的风向与所述传送装置的运送方向之间呈设定夹角。3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，所述设定夹角大于O度且小于90度。4.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，还包括:排风单元，所述排风单元位于所述传送装置下方，所述排风单元用于将从所述基板上吹落的水汽排出。5.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，还包括:供气单元，所述供气单元与所述风干单元连接;所述供气单元用于向所述风干单元提供气体。6.根据权利要求5所述的基板处理系统，其特征在于，所述供气单元为气栗，所述供气单元通过导通管道与所述风干单元连接。7.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，还包括:感应单元，所述感应单元位于所述清洗单元前方;所述感应单元用于感应基板的位置。8.根据权利要求7所述的基板处理系统，其特征在于，所述感应单元为传感器。
【文档编号】H01L21/67GK205488061SQ201620207378
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年3月17日
【发明人】王峰超
【申请人】京东方科技集团股份有限公司