一种5道清洗硅片下料装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种5道清洗硅片下料装置，包括底板，底板上从一侧到另一侧依次设有第一硅片输送机，第二硅片输送机以及第三硅片输送机；其中，第二硅片输送机位于第一硅片输送机和第三硅片输送机中间，用于向第一硅片输送机或者第三硅片输送机输送硅片。本实用新型将中间硅片料片单独加一段输送机，实现2+1+2结构，左右均可输送的目的，结构同样简单紧凑同时还增加了产能。
【专利说明】
一种5道清洗硅片下料装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及太阳能硅片清洗下料装置，特别是一种5道清洗硅片下料装置。
【背景技术】
[0002]生产硅片清洗下料工艺中，硅片同时以5片或者8片排列进入清洗设备中，清洗后硅片同时是已5片或8片排列出硅片，因5片是单数，出料分为左右，故是3+2结构样式，硅片3+2结构导致硅片收集一边堆叠，一边闲置，虽机构简单紧凑但产能过低，无法满足生产需求。
【实用新型内容】
[0003]实用新型目的:本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种5道清洗硅片下料装置。
[0004]为了解决上述技术问题，本实用新型公开了一种5道清洗硅片下料装置，包括底板，底板上从一侧到另一侧依次设有第一硅片输送机，第二硅片输送机以及第三硅片输送机;其中，第二娃片输送机位于第一娃片输送机和第三娃片输送机中间，用于向第一娃片输送机或者第三硅片输送机输送硅片。
[0005]本实用新型中，所述底板下方设有抬升气缸。
[0006]本实用新型中，所述抬升气缸为两个，分别位于第一娃片输送机和第三娃片输送机中下方的底板下方。
[0007]本实用新型中，所述第一硅片输送机为两列式硅片输送机。
[0008]本实用新型中，所述第二硅片输送机为一列式硅片输送机。
[0009]本实用新型中，所述第三硅片输送机为两列式硅片输送机。
[0010]有益效果:本实用新型将中间硅片料片单独加一段输送机，实现2+1+2结构，左右均可输送的目的，结构同样简单紧凑同时还增加了产能。
【附图说明】
[0011]下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型做更进一步的具体说明，本实用新型的上述和/或其他方面的优点将会变得更加清楚。
[0012]图1为实施例侧视图。
[0013]图2为实施例使用状态俯视图。
【具体实施方式】
[0014]本实用新型公开了一种5道清洗硅片下料装置，包括底板，底板上从一侧到另一侧依次设有第一硅片输送机，第二硅片输送机以及第三硅片输送机;其中，第二硅片输送机位于第一娃片输送机和第三娃片输送机中间，用于向第一娃片输送机或者第三娃片输送机输送硅片。所述底板下方设有抬升气缸。所述抬升气缸为两个，分别位于第一硅片输送机和第三硅片输送机中下方的底板下方。所述第一硅片输送机为两列式硅片输送机。所述第二硅片输送机为一列式娃片输送机。所述第三娃片输送机为两列式娃片输送机。
[0015]本实用新型输送中的硅片是从清洗机清洗后的硅片，要进行收集；当硅片输送到此新型机构中，两个抬升气缸同时供入气压，同时抬升，第一硅片输送机输送2张硅片收集到左侧硅片盒，第三硅片输送机输送2张硅片收集到右侧硅片盒，第二硅片输送机5通过硅片计数判断左右硅片盒哪一方空闲等待，即向哪一方输送I张硅片，再进入对应的硅片盒。
[0016]经多次调试和改进此结构紧凑，改动量小，达到预期设备产能。
[0017]实施例
[0018]图1和图2中各个附图标记定义如下:1_抬升气缸1、2_抬升气缸2、3_底板、4-左侧2娃片输送机、5_中间I娃片输送机、6-右侧2娃片输送机，71左侧娃片，72-中间娃片，73-右侧娃片。
[0019]如图1和图2所示，本实施例中抬升气缸I与抬升气缸2固定在设备机架上，底板3与气缸活塞杆相连，左侧2娃片输送机4、中间I娃片输送机5、右侧2娃片输送机6固定在底板3上，抬升气缸I与抬升气缸2同时抬升，带动底板3、左侧2娃片输送机4、中间I娃片输送机5、右侧2娃片输送机6升降。
[0020]本实施例中5道硅片进入此新型装置后抬升气缸I与抬升气缸2同时供入气压，通入气压在0.4?0.6Mpa，同时抬升后，抬升高度由硅片进入左右侧输送机的高度决定，左侧硅片输送机4、右侧硅片输送机5、中间硅片输送机6均有伺服电机控制，可调节速度。左侧硅片输送机4输送2张左侧娃片71收集到左侧娃片盒，右侧娃片输送机5输送2张右侧娃片73收集到右侧硅片盒，中间硅片输送机6判断左右那边闲置往那边输送I张中间硅片72。
[0021]本实施例将中间料片单独加一段输送机，实现2+1+2结构，左右均可输送的目的，结构同样简单紧凑同时还增加了产能。
[0022]本实用新型提供了一种5道清洗硅片下料装置，具体实现该技术方案的方法和途径很多，以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。本实施例中未明确的各组成部分均可用现有技术加以实现。
【主权项】
1.一种5道清洗硅片下料装置，其特征在于，包括底板，底板上从一侧到另一侧依次设有第一硅片输送机，第二硅片输送机以及第三硅片输送机;其中，第二硅片输送机位于第一娃片输送机和第三娃片输送机中间，用于向第一娃片输送机或者第三娃片输送机输送娃片。2.根据权利要求1所述的一种5道清洗硅片下料装置，其特征在于，所述底板下方设有抬升气缸。3.根据权利要求2所述的一种5道清洗硅片下料装置，其特征在于，所述抬升气缸为两个，分别位于第一娃片输送机和第三娃片输送机中下方的底板下方。4.根据权利要求1所述的一种5道清洗硅片下料装置，其特征在于，所述第一硅片输送机为两列式硅片输送机。5.根据权利要求1所述的一种5道清洗硅片下料装置，其特征在于，所述第二硅片输送机为一列式娃片输送机。6.根据权利要求1所述的一种5道清洗硅片下料装置，其特征在于，所述第三硅片输送机为两列式硅片输送机。
【文档编号】H01L21/67GK205582898SQ201620386771
【公开日】2016年9月14日
【申请日】2016年4月29日
【发明人】张弛, 王志刚
【申请人】南京卓胜自动化设备有限公司