一种晶片清洗装置的制造方法
【专利摘要】蓝宝石晶片生产加工过程中，晶片表面留有许多微粒，为清洗晶片表面的微粒，本实用新型提供一种晶片清洗装置，属于蓝宝石晶片加工技术设备领域，包括高科技垫板、高级洁净无尘布和喷水装置，所述高级洁净无尘布设置于高科技垫板上，所述晶片固定于高级洁净无尘布上，所述喷水装置设置于晶片上方，还包括纳米级海绵，所述纳米级海绵用于擦除晶片表面颗粒。本实用新型采用高级洁净无尘布和纳米级海绵，在水的冲洗下，配合擦拭晶片表面。本实用新型结构简单，方便实用，简捷有效，可完全去除晶片表面的微尘颗粒，为晶片的进一步加工使用提供质量保障。
【专利说明】
一种晶片清洗装置
技术领域
[0001]本实用新型属于蓝宝石晶片加工技术设备领域，具体涉及一种清除晶片加工过程中所产生颗粒的晶片清洗装置。
【背景技术】
[0002]蓝宝石晶片在生产加工过程中，晶片表面产生大量微粒。现有技术中，去除晶片表面的颗粒主要靠人工方法处理，人工处理费时、费力，而且清洗颗粒不彻底，清洗后容易造成二次污染，加大了后续晶片加工的难度，影响了晶片质量。且人工处理效率低，晶片清洗成本高。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型要解决的技术问题是:克服现有技术的不足，提供一种简洁有效清除晶片表面微粒的晶片清洗装置。
[0004]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种晶片清洗装置，用于清洗晶片表面微粒，其特征在于:包括高科技垫板、高级洁净无尘布和喷水装置，所述高级洁净无尘布设置于高科技垫板上，所述晶片固定于高级洁净无尘布上，所述喷水装置设置于晶片上方。
[0005]优选的，还包括纳米级海棉，所述纳米级海棉用于擦除晶片表面颗粒。
[0006]优选的，所述高科技垫板上设置有突起。
[0007]优选的，还包括一支架，所述高科技垫板倾斜设置于支架内。
[0008]与现有技术相比，本实用新型的有益效果是:本实用新型采用高级洁净无尘布和纳米级海棉，在水的冲洗下，配合擦拭晶片表面。本实用新型结构简单，方便实用，简捷有效，可完全去除晶片表面的微尘颗粒，为晶片的进一步加工使用提供质量保障。
【附图说明】
[0009]图1是本实用新型的结构示意图；
[0010]图2是图1中A部放大图。
[00?1 ]图中标记为:1、晶片；2、尚科技塾板;3、尚级洁净无尘布;4、嗔水装置;5、纳米级海棉;6、突起;7、支架。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图实施例，对本实用新型做进一步描述:
[0013]如图1所示，一种晶片清洗装置，用于清洗晶片I表面微粒，包括高科技垫板2、高级洁净无尘布3和喷水装置4，高级洁净无尘布3设置于高科技垫板2上，晶片I固定于高级洁净无尘布3上，喷水装置4设置于晶片上方。还包括纳米级海棉5，纳米级海棉5用于擦除晶片I表面颗粒。高科技垫板2上设置有突起6，高科技垫板2倾斜设置于支架，7内。
[0014]本实用新型工作原理和工作过程如下:将高科技垫板2倾斜设置于支架6内，然后在高科技垫板2表面突起6上铺设高级洁净无尘布3，将晶片I固定于高级洁净无尘布3上，晶片I上方的喷水装置4喷水清洗晶片，最后用纳米级海棉5擦拭晶片I，将晶片I正反面的脏污与颗粒擦拭洁净，达到表面无尘的效果。
[0015]以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非是对本实用新型作其它形式的限制，任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例。但是凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与改型，仍属于本实用新型技术方案的保护范围。
【主权项】
1.一种晶片清洗装置，用于清洗晶片(I)表面微粒，其特征在于:包括高科技垫板(2)、高级洁净无尘布(3)和喷水装置(4)，所述高级洁净无尘布(3)设置于高科技垫板(2)上，所述晶片固定于高级洁净无尘布(3)上，所述喷水装置(4)设置于晶片上方。2.根据权利要求1所述的晶片清洗装置，其特征在于:还包括纳米级海棉(5)，所述纳米级海棉(5 )用于擦除晶片(I)表面颗粒。3.根据权利要求2所述的晶片清洗装置，其特征在于:所述高科技垫板(2)上设置有突起(6)04.根据权利要求3所述的晶片清洗装置，其特征在于:还包括一支架(6)，所述高科技垫板(2)倾斜设置于支架(7)内。
【文档编号】H01L21/67GK205609480SQ201620084055
【公开日】2016年9月28日
【申请日】2016年1月28日
【发明人】王鑫
【申请人】青岛鑫嘉星电子科技股份有限公司