一种透明导电电极加工装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种透明导电电极加工装置，包括模板体，所述模板体上设置有密封环、接触件和通气孔，所述密封环和接触件固定在模板体靠近透明导电材料的一侧，所述接触件位于密封环内，所述密封环和接触件之间形成非接触腔，所述通气孔设置在模板体非接触腔处，所述通气孔为两个以上。本实用新型中模板体可以与透明导电材料充分接触，非接触腔在透明导电材料表面形成反应区域，为反应气体与导电层反应提供空间，通过反应使导电层中部分导电材料转化为不导电材料，从而得到图案化的电极，并且导电区域和非导电区域光学性能差异极低，能够实现完全消影蚀刻，在实际应用中效果显著，且采用本实用新型制备透明导电电极流程简单，制备成本低。
【专利说明】
一种透明导电电极加工装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及透明导电电极领域，特别是，涉及一种透明导电电极加工装置。
【背景技术】
[0002]目前，透明电极的材料主要包括透明导电氧化物薄膜、碳纳米管、石墨烯、导电聚合物、金属网格、金属纳米线等。ITO透明电极凭借其高透明度和高导电性占有了大部分的市场份额。但ITO电极需要使用真空气相沉积的方法制备，且含有稀有元素铟，因而成本较高，且ITO具有脆性，无法在柔性器件中使用。因而人们开始寻找其他透明电极材料，金属纳米线由于其较低的成本、较高的性能、对柔性器件的良好适应性而倍受青睐。较厚的金属膜虽然不透明，但若将其进行网格状图案化使之成为金属网格，则将成为能与金属纳米线想媲美的透明导电电极。并且金属导电材料配合石墨烯、碳纳米管、导电高分子、金属氧化物半导体材料都可以得到更好的适用性。
[0003]在液晶显示、0LED(有机电致发光)、触摸屏、太阳能电池等领域的实际应用中，常常需要图案化的透明导电电极来完成各种功能。对于现有的透明导电材料，现有技术已有多种图案化方法，包括激光烧蚀，黄光工艺的化学刻蚀方法，丝印蚀刻膏的化学蚀刻，喷墨印刷蚀刻液等方法。但现有方法都会导致蚀刻区和非蚀刻区存在较大光学性能差异，而且有对环境有较大污染，制备流程复杂，制备成本较高的缺点。
【实用新型内容】
[0004]为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种透明导电电极加工装置，本实用新型中模板体可以与透明导电材料充分接触，非接触腔在透明导电材料表面形成反应区域，为反应气体与导电层反应提供空间，通过反应使导电层中部分导电材料转化为不导电材料，从而得到图案化的电极，并且导电区域和非导电区域光学性能差异极低，能够实现完全消影蚀刻，在实际应用中效果显著，且采用本实用新型制备透明导电电极流程简单，制备成本低。
[0005]为解决上述问题，本实用新型所采用的技术方案如下:
[0006]—种透明导电电极加工装置，包括模板体，所述模板体上设置有密封环、接触件和通气孔，所述密封环和接触件固定在模板体靠近透明导电材料的一侧，所述接触件位于密封环内，所述密封环和接触件之间形成非接触腔，所述通气孔设置在模板体非接触腔处，所述通气孔为两个以上。
[0007]所述模板体为辊型。
[0008]还包括吸附平台，所述模板体为平板型，所述模板体设置在吸附平台上。
[0009]还包括用于将模板体压紧在吸附平台上的压紧件。
[0010]所述吸附平台内部设置有加热模块。
[0011]所述吸附平台对应模板体的非接触腔处设置有导气孔。
[0012]还包括柔性保护膜，所述柔性保护膜设置在吸附平台和模板体之间。
[0013]所述密封环和接触件为硅橡胶、天然橡胶、丁腈橡胶、氟橡胶、丙烯酸酯橡胶或聚氨酯材质。
[0014]所述接触件与透明导电材料接触处内凹有压力腔。
[0015]相比现有技术，本实用新型的有益效果在于:本实用新型中模板体可以与透明导电材料充分接触，非接触腔在透明导电材料表面形成反应区域，为反应气体与导电层反应提供空间，通过反应使导电层中部分导电材料转化为不导电材料，从而得到图案化的电极，并且导电区域和非导电区域光学性能差异极低，能够实现完全消影蚀刻，在实际应用中效果显著，且采用本实用新型制备透明导电电极流程简单，制备成本低。
【附图说明】
[0016]图1为实施例1中透明导电电极加工装置使用状态图；
[0017]图2为本实用新型中透明导电电极加工装置结构示意图；
[0018]图3为图2中A-A剖面图；
[0019]图4为实施例2中透明导电电极加工装置使用状态图；
[0020]图5为实施例3中透明导电电极加工装置使用状态图；
[0021]图6为实施例4中透明导电电极加工装置使用状态图；
[0022]其中，I为模板体、11为密封环、12为接触件、121为压力腔、13为通气孔、2为吸附平台、21为导气孔、3为压紧件、4为柔性保护膜、5为透明导电材料。
【具体实施方式】
[0023]下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细说明。
[0024]实施例1
[0025]如图1-3所示，透明导电电极加工装置包括模板体1、吸附平台2和用于将模板体I压紧在吸附平台2上的压紧件3，模板体I为平板型，模板体I设置在吸附平台2上，模板体I上设置有密封环11、接触件12和通气孔13，密封环11和接触件12固定在模板体I靠近透明导电材料的一侧，接触件12位于密封环11内，密封环11和接触件12之间形成非接触腔，通气孔13设置在模板体I非接触腔处，通气孔13为两个以上。
[0026]使用时，透明导电材料5吸附在吸附平台2上，模板体I在压紧件3作用下与透明导电材料5充分接触，密封环11和接触件12充分抵持在透明导电材料5上，非接触腔在透明导电材料5表面形成反应区域，通过通气孔13向反应区域导入反应气体，反应结束后获得透明导电电极。
[0027]吸附平台2可以实现透明导电材料5的充分固定，压紧件3作用于模板体I，实现模板体I在透明导电材料5上的压紧，保证模板体I与透明导电材料5的充分接触，非接触腔在透明导电材料5表面形成反应区域，为反应气体与导电层反应提供空间，保证了反应正常进行的同时，有效保护了导电层的非反应区域。
[0028]实施例2
[0029]如图4所示，透明导电电极加工装置包括模板体1、吸附平台2和用于将模板体I压紧在吸附平台2上的压紧件3，模板体I为平板型，模板体I设置在吸附平台2上，模板体I上设置有密封环11、接触件12和通气孔13，密封环11和接触件12固定在模板体I靠近透明导电材料的一侧，接触件12与透明导电材料5接触处内凹有压力腔121，接触件12位于密封环11内，密封环11和接触件12之间形成非接触腔，通气孔13设置在模板体I非接触腔处，通气孔13为两个以上。
[0030]使用时，透明导电材料5吸附在吸附平台2上，模板体I在压紧件3作用下与透明导电材料5充分接触，密封环11和接触件12充分抵持在透明导电材料5上，非接触腔在透明导电材料5表面形成反应区域，通过通气孔13向反应区域导入反应气体，反应结束后获得透明导电电极。
[0031]吸附平台2可以实现透明导电材料5的充分固定，压紧件3作用于模板体I，实现模板体I在透明导电材料5上的压紧，保证模板体I与透明导电材料5的充分接触，非接触腔在透明导电材料5表面形成反应区域，为反应气体与导电层反应提供空间，保证了反应正常进行;压力腔121可以保证导电层的非反应区域内压力恒定，从而有效保护了导电层的非反应区域不受反应气体影响。
[0032]实施例3
[0033]如图5所示，透明导电电极加工装置包括模板体1、吸附平台2、用于将模板体I压紧在吸附平台2上的压紧件3和柔性保护膜4，模板体I为平板型，模板体I设置在吸附平台2上，模板体I上设置有密封环11、接触件12和通气孔13，密封环11和接触件12固定在模板体I靠近透明导电材料的一侧，接触件12与透明导电材料5接触处内凹有压力腔121，接触件12位于密封环11内，密封环11和接触件12之间形成非接触腔，通气孔13设置在模板体I非接触腔处，通气孔13为两个以上;吸附平台2对应模板体I的非接触腔处设置有导气孔21，柔性保护膜4设置在吸附平台2和模板体I之间。
[0034]使用时，透明导电材料5吸附在吸附平台2上，透明导电材料5对应导气孔21处设置有通孔，柔性保护膜4覆盖在透明导电材料5上，模板体I在压紧件3作用下与柔性保护膜4充分接触，密封环11和接触件12充分抵持在柔性保护膜4上，柔性保护膜4与透明导电材料5在非接触腔处形成反应区域，通过导气孔21向反应区域导入反应气体，柔性保护膜4在反应区域形成鼓泡，反应结束后获得透明导电电极。
[0035]吸附平台2可以实现透明导电材料5的充分固定，压紧件3作用于模板体I，实现模板体I在柔性保护膜4上的压紧，保证模板体I与柔性保护膜4的充分接触，柔性保护膜4与透明导电材料5在非接触腔处形成反应区域，通气后，鼓泡内为反应气体与导电层反应提供空间，保证了反应正常进行;密封环11和接触件12抵持在柔性保护膜4处由于压紧无法进入反应气体，从而有效保护了导电层的非反应区域的导电性。
[0036]实施例4
[0037]如图6所示，本实用新型中透明导电电极加工装置包括模板体I，模板体I为辊型，模板体I上设置有密封环11、接触件12和通气孔13，密封环11和接触件12固定在模板体I靠近透明导电材料的一侧，接触件12位于密封环11内，密封环11和接触件12之间形成非接触腔，通气孔13设置在模板体I非接触腔处，通气孔13为两个以上。
[0038]使用时，通过外力牵引，模板体I可以与透明导电材料5充分接触，密封环11和接触件12充分抵持在透明导电材料5上，非接触腔在透明导电材料5表面形成反应区域，通过通气孔13向反应区域导入反应气体，反应结束后获得透明导电电极。反应区域为反应气体与导电层反应提供空间，保证了反应正常进行的同时，密封环11和接触件12充分抵持在透明导电材料5上，有效保护了导电层非反应区域的导电性。
[0039]上述实施例1-3中，吸附平台2内部可以设置有加热模块，实现反应时温度的有效控制。
[0040]上述实施例4中，模板体I内部可以设置有加热模块，也可以在导电材料背面处设置辅助加热装置，实现反应时温度的有效控制。
[0041]上述实施例1-4中，密封环11和接触件12可以为硅橡胶、天然橡胶、丁腈橡胶、氟橡胶、丙烯酸酯橡胶或聚氨酯材质，均能实现相应的保护导电层的效果。
[0042]本实用新型中模板体可以与透明导电材料充分接触，非接触腔在透明导电材料表面形成反应区域，为反应气体与导电层反应提供空间，通过反应使导电层中部分导电材料转化为不导电材料，从而得到图案化的电极，并且导电区域和非导电区域光学性能差异极低，能够实现完全消影蚀刻，在实际应用中效果显著，且采用本实用新型制备透明导电电极流程简单，制备成本低。
[0043]对本领域的技术人员来说，可根据以上描述的技术方案以及构思，做出其它各种相应的改变以及形变，而所有的这些改变以及形变都应该属于本实用新型权利要求的保护范围之内。
【主权项】
1.一种透明导电电极加工装置，其特征在于，包括模板体，所述模板体上设置有密封环、接触件和通气孔，所述密封环和接触件固定在模板体靠近透明导电材料的一侧，所述接触件位于密封环内，所述密封环和接触件之间形成非接触腔，所述通气孔设置在模板体非接触腔处，所述通气孔为两个以上。2.如权利要求1所述的透明导电电极加工装置，其特征在于，所述模板体为辊型。3.如权利要求1所述的透明导电电极加工装置，其特征在于，还包括吸附平台，所述模板体为平板型，所述模板体设置在吸附平台上。4.如权利要求3所述的透明导电电极加工装置，其特征在于，还包括用于将模板体压紧在吸附平台上的压紧件。5.如权利要求3所述的透明导电电极加工装置，其特征在于，所述吸附平台内部设置有加热模块。6.如权利要求5所述的透明导电电极加工装置，其特征在于，所述吸附平台对应模板体的非接触腔处设置有导气孔。7.如权利要求6所述的透明导电电极加工装置，其特征在于，还包括柔性保护膜，所述柔性保护膜设置在吸附平台和模板体之间。8.如权利要求1-7任一项所述的透明导电电极加工装置，其特征在于，所述密封环和接触件为硅橡胶、天然橡胶、丁腈橡胶、氟橡胶、丙烯酸酯橡胶或聚氨酯材质。9.如权利要求1-7任一项所述的透明导电电极加工装置，其特征在于，所述接触件与透明导电材料接触处内凹有压力腔。
【文档编号】H01B13/00GK205621518SQ201620348645
【公开日】2016年10月5日
【申请日】2016年4月22日
【发明人】陈初群
【申请人】陈初群