大型晶圆uv擦除设备的制造方法
【专利摘要】本实用新型揭示了一种大型晶圆UV擦除设备，包括有，盖板、壳体、灯管层和托盘，所述托盘和灯管层从下到上依次设置在所述壳体内，所述盖板设置在所述壳体顶端，所述灯管层和所述盖板之间还设置有反射层。本实用新型的有益效果是：减低对UV灯管的要求，可以使用普通UV灯管来替代高质量的UV灯管，降低企业生产成本，提高企业竞争力；增强了设备的散热能力，提高设备使用寿命。
【专利说明】
大型晶圆UV擦除设备
技术领域
[0001]本实用新型涉及半导体处理领域，特别是涉及一种大型晶圆UV擦除设备。【背景技术】
[0002]现有的专用于集成电路的uv擦除设备动辄二、三十万元一套，价格高昂，且需要定期更换灯管，市场上的进口灯管价格较高，一整套全部更换需数万元的费用，使用成本过尚。【实用新型内容】
[0003]本实用新型的主要目的为提供一种大型晶圆UV擦除设备，降低使用成本，散热性能好，同时保证UV能量的充足和可靠性。
[0004]本实用新型提出了一种大型晶圆uv擦除设备，包括有盖板、壳体、灯管层和托盘， 所述托盘和灯管层从下到上依次设置在所述壳体内，所述盖板设置在所述壳体顶端，所述灯管层下方设置有灯管，所述灯管层下表面和所述灯管之间还设置有反射层。
[0005]进一步地，所述反射层为铝箱纸。
[0006]进一步地，所述壳体底部固接有多个支撑用的脚杯。
[0007]进一步地，所述壳体左右两侧面上开有通孔，所述一侧通孔为进气口，另一侧通孔为出气口。
[0008]进一步地，所述壳体通孔位置外表面安装有横流风扇。
[0009]进一步地，所述盖板上开有排气孔。
[0010]本实用新型的有益效果是:减低对UV灯管的要求，可以使用普通UV灯管来替代高质量的UV灯管，降低企业生产成本，提高企业竞争力；增强了设备的散热能力，提高设备使用寿命。【附图说明】
[0011]图1是本实用新型一实施例的结构爆炸图；
[0012]图2是本实用新型一实施例的结构示意图；
[0013]图3是本实用新型一实施例的灯管层下表面结构示意图。
[0014]本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。 【具体实施方式】
[0015]应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0016]参照图1和图2,提出本实用新型一实施例，一种大型晶圆UV擦除设备，包括有，盖板1、壳体5、灯管层2和托盘3,托盘3上放置有用于擦除的晶圆7,灯管层2上设置有UV灯，托盘3和灯管层2从下到上依次设置在壳体5内，盖板1盖在壳体5顶端，位于灯管层2上方，灯管层2下方设置有灯管9，灯管层2下表面和灯管9之间还设置有反射层8。
[0017]反射层8反射UV灯的光线，起到增强UV能量作用，此反射层8增加后可增强UV能量，即可减低整个设备对于UV灯的要求，降低企业使用成本，提高企业竞争力。
[0018]参照图1和图2，提出本实用新型一实施例，一种大型晶圆UV擦除设备，包括有，盖板1、壳体5、灯管层2和托盘3，托盘3上放置有用于擦除的晶圆7，灯管层2上设置有UV灯，托盘3和灯管层2从下到上依次设置在壳体5内，盖板I盖在壳体5顶端，位于灯管层2上方，位于灯管层2上方，灯管层2下方设置有灯管9，灯管层2下表面和灯管9之间还设置有反射层8。
[0019]反射层8为铝箔纸，铝箔纸反射UV灯的光线，起到增强UV能量作用，此反射层8增加后可增强50%以上的UV能量，即可减低整个设备对于UV灯的要求，降低企业使用成本，提高企业竞争力。
[0020]壳体5底部固接有多个支撑用的脚杯4，脚杯4为设备整体支撑用，将设备垫高，可方便设备内部热风流动，防止设备能量堆积在底部，提高设备的散热性。
[0021]壳体5左右两侧面上对应开有通孔，左侧通孔为进气口，右侧通孔为出气口，在壳体5进气口和出气口位置外表面对应安装有横流风扇6，横流风扇6相较于普通风扇，有着排气体沿风机宽度方向分布均匀，作用距离远等优点。本结构是为了设备内部的灯管9和镇流器散热，防止灯管9过热，影响UV灯管9使用寿命。
[0022]盖板I上上方左右两侧各开一排排气口，主要为了设备内部降温散热用，增强设备顶部的透气和降温性能，提高设备的使用寿命。
[0023]本实用新型的有益效果是:减低对UV灯管9的要求，可以使用普通UV灯管9来替代高质量的UV灯管9，降低企业生产成本，提高企业竞争力;增强了设备的散热能力，提高设备使用寿命。
[0024]以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种大型晶圆UV擦除设备，其特征在于，包括有盖板、壳体、灯管层和托盘，所述托盘和灯管层从下到上依次设置在所述壳体内，所述盖板设置在所述壳体顶端，所述灯管层下方设置有灯管，所述灯管层下表面和所述灯管之间还设置有反射层。2.如权利要求1所述的大型晶圆UV擦除设备，其特征在于，所述反射层为铝箔纸。3.如权利要求1所述的大型晶圆UV擦除设备，其特征在于，所述壳体底部固接有多个支撑用的脚杯。4.如权利要求1所述的大型晶圆UV擦除设备，其特征在于，所述壳体左右两侧面上开有通孔，所述一侧通孔为进气口，另一侧通孔为出气口。5.如权利要求4所述的大型晶圆UV擦除设备，其特征在于，所述壳体通孔位置外表面安装有横流风扇。6.如权利要求1所述的大型晶圆UV擦除设备，其特征在于，所述盖板上开有排气孔。
【文档编号】H01L21/67GK205657047SQ201620444448
【公开日】2016年10月19日
【申请日】2016年5月16日 公开号201620444448.7, CN 201620444448, CN 205657047 U, CN 205657047U, CN-U-205657047, CN201620444448, CN201620444448.7, CN205657047 U, CN205657047U
【发明人】林延海
【申请人】深圳市立能威微电子有限公司