电机磁瓦固定结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电机行业，特别是涉及电机中的磁瓦。
【背景技术】
[0002]目前，磁瓦与电机壳体(下称机壳)的固定方式是通过在磁瓦与机壳配合表面涂结构胶。在涂结构胶之前一般要对壳体进行清洁、去油处理，所使用的结构胶一般为A、B双组成，也有A、B、C三组成。因为结构胶暴露在空气中易于固化失效，故AB胶或ABC胶必须现用现配(根据要求按一定的比例进行配置)，首先，配置的比例不易掌握，其次两或三组分不能保证充分地混合均匀，再加上如果壳体与磁瓦清洗得不好，就很难保证磁瓦与壳体的牢固贴合，就会在电机运行过程中，由于电机发热、振动而导致磁瓦脱落，在频繁起动，频繁正反转、大电流、大转矩的情况下将会更加严重。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是如何防止磁瓦从机壳中脱落，消除电机的安全隐患。
[0004]针对上述技术问题，本实用新型提供了一种电机磁瓦固定结构，包括机壳，机壳内表面通过结构胶贴合有两块磁瓦，机壳内表面还设置有两个W型卡片;卡片由两个V形弹片，及连接在这两个V形弹片之间的弧形片组成；卡片的一个V形弹片抵压在一块磁瓦的一端、另一个V形弹片抵压在另一块磁瓦的一端，弧形片贴合在机壳内表面上。
[0005]进一步的是，两块磁瓦通过AB结构胶贴合在机壳内表面。
[0006]在磁瓦安装时，先使用结构胶将两个磁瓦黏在机壳内表面，再将两个W型卡片放置在两块磁瓦之间的空隙中，使弧形片贴合在机壳内表面上，并使V形弹片抵压在磁瓦的端头上。由于V形弹片具有弹力，因此，V形弹片受到磁瓦挤压所形成的弹簧力会作用给磁瓦，将磁瓦进一步的固定在机壳内上。综上所述，本实用新型提供的电机磁瓦固定结构不仅结构简单，还有效地防止磁瓦脱落、移位，保证了磁瓦可靠得固定在机壳内表面上。
【附图说明】
[0007]为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
[0008]图1为本实用新型实施例所公开的一种电机磁瓦固定结构的主视图；
[0009]图2为图1中A-A的剖视图；
[0010]图3为本实用新型实施例所公开的卡片的主视图。
【具体实施方式】
[0011]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0012]参见图1-3，一种电机磁瓦固定结构，包括机壳1，机壳内表面通过AB结构胶贴合有两块磁瓦2和2’，机壳内表面还设置有两个W型卡片3和3’ ；卡片由两个V形弹片4和4’，及连接在这两个V形弹片之间的弧形片5组成;卡片的一个V形弹片抵压在一块磁瓦的一端、另一个V形弹片抵压在另一块磁瓦的一端，弧形片贴合在机壳内表面上。
[0013]在磁瓦安装时，先使用结构胶将两个磁瓦黏在机壳内表面，再将两个W型卡片放置在两块磁瓦之间的空隙中，使弧形片贴合在机壳内表面上，并使V形弹片抵压在磁瓦的端头上。由于V形弹片具有弹力，因此，V形弹片受到磁瓦挤压所形成的弹簧力会作用给磁瓦，将磁瓦进一步的固定在机壳内上。综上所述，本实用新型提供的电机磁瓦固定结构不仅结构简单，还有效地防止磁瓦脱落、移位，保证了磁瓦可靠得固定在机壳内表面上。
[0014]对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
【主权项】
1.一种电机磁瓦固定结构，包括机壳，所述机壳内表面通过结构胶贴合有两块磁瓦，其特征在于，所述机壳内表面还设置有两个W型卡片;所述卡片由两个V形弹片，及连接在这两个V形弹片之间的弧形片组成;所述卡片的一个V形弹片抵压在一块磁瓦的一端、另一个V形弹片抵压在另一块磁瓦的一端，所述弧形片贴合在所述机壳内表面上。2.根据权利要求1所述的一种电机磁瓦固定结构，其特征在于，两块所述磁瓦通过AB结构胶贴合在机壳内表面。
【专利摘要】本实用新型涉及电机行业，为解决现有技术中如何防止磁瓦从机壳中脱落，消除电机的安全隐患这一技术问题，本实用新型提供了一种电机磁瓦固定结构，该结构包括机壳，机壳内表面通过结构胶贴合有两块磁瓦，机壳内表面还设置有两个W型卡片；卡片由两个V形弹片，及连接在这两个V形弹片之间的弧形片组成；卡片的一个V形弹片抵压在一块磁瓦的一端、另一个V形弹片抵压在另一块磁瓦的一端，弧形片贴合在机壳内表面上。由于V形弹片具有弹力，因此，V形弹片受到磁瓦挤压所形成的弹簧力会作用给磁瓦，将磁瓦进一步的固定在机壳内上。
【IPC分类】H02K5/04, H02K1/28, H02K1/18
【公开号】CN205141877
【申请号】CN201520984104
【发明人】刘桂明, 刘建军
【申请人】江苏欧邦电机制造有限公司
【公开日】2016年4月6日
【申请日】2015年12月2日