有机发光元件的制造方法与工艺

本发明涉及有机发光元件、特别是涉及具有挠性透明基材和内部光取出层的挠性有机发光元件。

背景技术：
现在，有机发光元件作为薄型的发光材料受到关注。利用了有机材料的电致发光(ElectroLuminescence：EL)的有机发光元件(以下也称为有机EL元件)，为可在数V～数十V左右的低电压下发光的薄膜型的完全固体元件，具有高亮度、高发光效率、薄型、轻量这样的许多优异的特征。因此，作为各种显示器的背光、标牌、应急灯等的显示板、照明光源等的面发光体近年来受到关注。这样的有机电致发光元件为在2片电极间配置了由有机材料构成的发光层的构成，在发光层中产生了的发光光透过电极而被取出到外部。因此，2片电极中的至少一者以透明电极的形式构成，从透明电极侧取出发光光。另外，有机发光元件的特征是与以往的发光体不同的薄膜面发光，为了有效利用该特征，期望在挠性的透明基材上形成元件。针对这样的期望，对使用市场上广泛使用的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜这样的常用的树脂基材的有机发光元件的期望大。然而，若仅使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜这样的挠性透明基材来形成有机发光元件，则判明存在如下等的问题：由于将元件反复弯折，使用了例如氧化铟·锡(SnO2-In2O3：IndiumTinOxide：ITO)等的电极破裂、或产生自发光层的浮起、剥离。特别是判明：在将后述的内部光取出层设置在透明基材和电极之间时容易产生。有机发光元件可以以低的电力得到高亮度，在可见性、响应速度、寿命、消耗电力的方面优异，但还存在有机发光元件的光的利用效率为20％左右，元件内的损耗大这样的问题，在提高发光效率方面优选形成内部光取出层。图1为概略地表示以往的有机发光元件的构成和光传播的样子的剖面图。就有机发光元件100而言，自图中的下层依次层叠金属电极101、折射率约1.8的有机发光层102、折射率约1.8的透明电极103、折射率约1.6的透明基材104而构成。图中的符号110a～110e的箭头记号表示在由有机发光层102产生了的光中特征性的光。光110a为相对于作为发光面的有机发光层102为垂直方向的光，透过透明基材104而被取出到光取出侧(空气侧)。光110b为以临界角以下的小角度入射于透明基材104和空气的界面的光，在透明基材104和空气的界面进行折射而被取出到光取出侧。光110c为以大于临界角的角度入射于透明基材104和空气的界面的光，为在透明基材104和空气的界面进行全折射而没有被取出到光取出侧的光。将由此产生的损耗称为“基材损耗”，通常存在20％左右的损耗。光110d为在以大于临界角的角度入射于透明电极103和透明基材104的界面的光中满足了共振条件的光，为在透明电极103和透明基材104的界面进行全反射而产生导波模式、被封入于有机发光层102及透明电极103内的光。将由此产生的损耗称为“导波损耗”，通常存在20～25％左右的损耗。光110e为向金属电极101入射而与金属电极101内的自由电子作用、产生作为导波模式的一种的等离激元模式而封入于金属电极101的表面附近的光。将由此产生的损耗称为“等离激元损耗”，通常存在30～40％左右的损耗。如上所述，在以往的有机发光元件100中，存在发光光的基材损耗、导波损耗及等离激元损耗，尽可能降低这些损耗、取出更多的光正成为课题。针对该课题，在专利文献1中公开有在光取出面侧设置由透镜片材构成的光散射部的有机EL装置。另外，在专利文献2中公开有在至少一方的基材表面包含折射率为1.6以上且表面的平均粗糙度为10nm以上的高折射率凹凸层和1层以上的折射率为1.55以上的基材层的发光装置用基材及发光装置。然而，虽然这些技术从光取出的观点考虑为优选的方案，但到底为不具有挠性的玻璃基材用的光取出技术，在具有挠性的基材上不能实现。进而，在专利文献3中公开有以下的光取出膜：为由有机发光元件中所使用的单层膜或2层以上的层叠膜构成的光取出膜，其特征在于，在构成该光取出膜的层中至少1层为具有光散射功能的层，该光取出膜的利用纳米压痕法得到的表面硬度为0.05～20GPa。在专利文献3中，课题在于：通过规定该光取出膜的利用纳米压痕法得到的表面硬度，消除在有机发光元件的层叠工艺中的各膜内、或膜界面产生的变形，减少透明电极的微细的龟裂、剥离，改善耐暗点性及元件寿命；对于使用挠性透明基材而形成了有机发光元件时的、因弯折引起的电极的破裂、剥离等的问题没有提及。因此，等待在常用的挠性透明基材上具有内部光取出层、发光效率因光取出而高、且在将有机发光元件反复弯折时电极不破裂或不产生浮起、剥离的有机发光元件的出现。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第2931211号公报专利文献2：日本特开2004-20746号公报专利文献3：日本特开2007-35313号公报

技术实现要素：
发明要解决的课题本发明是鉴于上述问题·状况而完成的，其解决课题在于提供在挠性的透明基材上具有内部光取出层、发光效率因光取出而高、且在将机发光元件反复弯折时没有电极破裂、或不产生浮起、剥离的有机发光元件。用于解决课题的技术方案本发明人在为了解决上述课题而针对上述问题的原因等进行研究的过程中发现：通过为在挠性透明基材上依次具有内部光取出层、透明电极、及有机发光层的有机发光元件、且为该内部光取出层的表面的弹性模量和该透明基材的有机发光层侧的表面的弹性模量之比在特定的范围内的有机发光元件，可提供在挠性的透明基材上具有内部光取出层、发光效率因光取出而高、且在将有机发光元件反复弯折时没有电极破裂、或不产生浮起、剥离的有机发光元件，以至完成了本发明。即，本发明涉及的上述课题，可通过以下的手段来解决。1.有机发光元件，其特征在于，其为在挠性透明基材上依次具有内部光取出层、透明电极、及有机发光层的有机发光元件，该内部光取出层的表面的弹性模量(EMl)和该透明基材的透明电极侧的表面的弹性模量(EMs)的由下述式1表示的比的值D为100±30％的范围内。式1D(％)＝(EMl/EMs)×100(％)2.第1项所述的有机发光元件，其特征在于，上述挠性透明基材依次具有膜基材和至少1层气体阻隔层，上述内部光取出层具有光散射层和平滑层。3.第2项的有机发光元件，其特征在于，上述光散射层含有光散射粒子，该光散射粒子的平均粒径为0.2～1μm的范围内，该光散射层的光波长550nm测定中的折射率为1.7～3.0的范围内。4.第1项或第2项所述的有机发光元件，其特征在于，上述内部光取出层的光波长550nm测定中的折射率在1.7～2.5的范围内、光波长450nm～700nm的平均光透射率为50％以上、且雾度为30％以上。发明的效果根据本发明的上述手段，可提供在挠性透明基材上具有内部光取出层、发光效率因光取出而高、且在将有机发光元件反复弯折时没有电极破裂、或不产生浮起、剥离的柔性的有机发光元件。本发明的效果的呈现机制乃至作用机制，尚未明确，但推测如以下。就本发明而言，通过将挠性透明基材的表面的弹性模量和内部光取出层的表面的弹性模量调整为特定的范围的关系而进行组合，飞跃地改善对将具有挠性透明基材和内部光取出层的有机发光元件反复弯曲了时的电极的破裂、浮起、剥离等的耐性，根据本技术，提供实现市场所期待的高效率的柔性的有机发光元件的技术。一般而言，在对挠性基材施加力使形成曲面状的情况下，基材的中心部分几乎未施加应力，随着从中心在厚度方向进行远离，应力变大。在凸方向的表面施加拉伸的力，在凹方向的表面施加挤压的力。在挠性基材的表面具有内部光取出层的本发明中，在对基材表面施加内部应力的同时对内部光取出层施加大致相同的力。此时各层的原材料有时也不同，各层的物性不同。即使基材表面的物性和内部光取出层的物性不同，也并不立即产生浮起、破裂，但在作为本申请的优选的实施方式的具有光散射层和平滑层的内部光取出层中，优选基材表面和内部光取出层的弹性模量接近，而且优选两层的粘接强度高。另外，有机发光元件对氧·水分等非常敏感，即使形成仅仅在一般的挠性基材表面具有内部光取出结构的有机发光元件也并不耐实用。因此，各公司开发有各种气体阻隔技术，挠性基材上所形成的气体阻隔技术也正达到实用阶段。就这样的气体阻隔技术而言，由于作为其遮断对象的气体的分子小，因此，需要非常致密的膜，一般而言多为接近于金属氧化物、具体而言玻璃的高弹性体。对于作为这样的高弹性体的气体阻隔层，在该气体阻隔层上形成的内部光取出层也在高弹性体上形成是重要的，为了实现这样的高弹性体，深入研究中得知在将产生的应力进行缓和的方面优选：(1)也优选使光散射层及平滑层都为高弹性模量；(2)特别是通过将平滑层形成为高弹性模量而使内部光取出层整体为高弹性体是非常有效的；(3)光散射层形成为低于平滑层的弹性模量的1/2的弹性体。另一方面，推测在将柔性有机发光元件反复弯曲了时、因对电极施加应力而破裂、或产生浮起、剥离，但得知在具有柔性的内部光取出层的有机发光元件的情况下特别明显地产生。本发明人对该现象进行了详细研究，结果发现：在该内部光取出层的表面的弹性模量比具有气体阻隔层的挠性透明基材的表面的弹性模量低的情况下或相反高的情况下，由于该弹性模量的偏差而在该两者的层界面产生变形，因此产生的应力作用于在内部光取出层上形成的薄膜的电极而产生电极的破裂、浮起、剥离。因此，推测：通过将具有气体阻隔层的挠性透明基材的表面的弹性模量和内部光取出层的表面的弹性模量调整为特定范围的关系，可降低该变形引起的应力的产生，可飞越地改善对将有机发光元件反复弯曲了时的电极的破裂、浮起、剥离等的耐性。附图说明图1为概略地表示以往的有机发光元件的构成和光传播的样子的剖面图。图2为表示依据典型的纳米压痕法所得到的负载-位移曲线的一个例子的图。图3为表示利用纳米压痕法的测定中的金刚石压头和试样的接触状态的一个例子的图。图4为表示有机发光元件的概略构成的剖面图。图5为表示光散射层和平滑层的层叠体的剖面的显微镜照片，为光散射层的层厚T和光散射粒子的平均粒径D的T/D的值为2时的一个例子。图6为表示俯视·透视光散射层的状态的显微镜照片，为光散射粒子在光散射层中的面内占有率为70％时的一个例子。图7为表示以AFM测定了的散射层和平滑层的层叠体的平均粗糙度的测定结果的一个例子的图。图8为表示内部光取出层的制造装置的概略构成的图。图9为表示波长控制红外线加热器的概略构成的剖面图。图10为表示波长控制红外线加热器的变形例的剖面图。图11为表示石英玻璃滤光器的红外线透射率的图表。图12为概略地表示波长控制红外线加热器的辐射光谱的图表，为虚线部表示没有滤光器的光谱、实线部表示具有滤光器的光谱的图表。具体实施方式本发明的有机发光元件在挠性透明基材上依次具有内部光取出层、透明电极、及有机发光层，其特征在于，该内部光取出层的表面的弹性模量((EMl)和该透明基材的透明电极侧的表面的弹性模量((EMs)的由上述式1表示的比的值D在100±30％的范围内。该特征为与本发明第一方案～第四方案的发明共通的技术特征。作为本发明的实施方式，从本发明的效果呈现的观点考虑，上述挠性透明基材依次具有膜基材和至少1层气体阻隔层，上述内部光取出层具有光散射层和平滑层可进一步优选地控制上述弹性模量，因此优选。特别是，如果内部光取出层为上述2层构成，则用平滑层可提高弹性、用光散射层可缓和应力，因此可减少变形所引起的应力的产生，可改善对将有机发光元件反复弯曲了时的电极的破裂、浮起、剥离等的耐性，因此为优选的实施方式。另外，上述光散射层含有光散射粒子、该光散射粒子的平均粒径为0.2～1μm的范围内、该光散射层的光波长550nm测定中的折射率为1.7～3.0的范围内的光取出效率高，可提高有机发光元件的发光效率，因此优选。另外，上述内部光取出层的光波长550nm测定中的折射率为1.7～2.5的范围内、光波长450nm～700nm的平均光透射率为50％以上、且雾度为30％以上的光取出效率高，可提高有机发光元件的发光效率，因此优选。以下，对本发明和其构成要素、及用于实施本发明的方式·式样进行详细的说明。需要说明的是，在本申请中，“～”以含有其前后所记载的数值作为下限值及上限值的含义来使用。<<本发明的有机发光元件的概要>>本发明的有机发光元件为在挠性透明基材上依次具有内部光取出层、透明电极、及有机发光层的有机发光元件，其特征在于，该内部光取出层的表面的弹性模量(EMl)和该透明基材的透明电极侧的表面的弹性模量((EMs)的由下述式1表示的比的值D在100±30％的范围内。式1D(％)＝(EMl/EMs)×100(％)本发明中的挠性透明基材及内部光取出层的表面的弹性模量可通过纳米压痕法来测定。所谓纳米压痕法，为对于试样用超微小的负载连续地对压头进行加载、卸载、由得到的负载-位移曲线同时测定弹性模量(ReducedModulus)、硬度(Hardness)的方法。〈纳米压痕法的测定原理〉所谓纳米压痕法，为可以通过对原子力显微镜(AFM)附加压入硬度测定用模块(由转换器和压入芯片构成)来进行纳米级的压入硬度测定的测定方法。一边施加最大负载20μN以下的负载一边对作为测定对象物的试样压入尖端半径为0.1～1μm左右的金刚石压头、以纳米的精度测定压入深度。由该测定得到负载-位移曲线图，可以定量地评价关于材料的弹性塑性变形的特性。在薄膜的情况下，为了不受基材的影响地进行测定，需要压入至膜厚的1/10～1/3的深度。在该纳米压痕法中，可以使用超低负载、例如最大负载20μN、负载分辨率1nN的头组件而作为位移分辨率以0.01nm的高精度来进行测定。图2表示依据典型的纳米压痕法得到的负载-位移曲线的一个例子。其中图2中，所谓斜率S是指卸载曲线的斜度(＝dP/dh)，具体而言，关注可以说是简单弹性恢复的卸载的初期、使用最大负载Pmax中的卸载曲线的斜度而求出。图3为表示利用纳米压痕法的硬度及弹性模量测定中的金刚石压头和试样的接触状态的一个例子的图。在图3中，N1为压头未接触时的试样的初期表面，N2为经由压头而施加负载时的试样表面的轮廓，N3为去除了压头后的试样表面的轮廓。例如，硬度H通常由H＝W/A(W为负载，A为接触面积)的式求出。但是，在纳米压痕法中，由于负载非常小，因此不能由压痕等直接求出A。在本发明中，具体而言，利用下述方法。如图3中所示，就hc而言，hc＝ht-ε·W/S(ε为压头固有的常数，S为图2中记载的斜率)的式成立，在此ε为由压头的几何形状所确定的压头固有的常数，在圆锥及Berkovich压头、角锥压头等的三棱锥压头中使用ε＝0.726，在球状压头中使用ε＝0.75，在圆柱压头中使用ε＝1。在三棱锥压头的情况下，如果将三棱锥的中心轴和侧面所形成的角设为α，则从几何学形状考虑A，由下式表示。式A＝C1hc2、C1＝3×31/2tan2α由于在Berkovich压头中α＝65.27°，因此C1为24.56，A＝24.56hc2。另外，在角锥压头中，α＝45°，C1为5.196，A＝5.196hc2。因此，若ht、W、S已知，则可以求出H。另外，弹性模量Er可由Er＝S·π1/2/2/A1/2算出。可推定：若Er大则容易塑性变形，若小则容易弹性变形。在本发明中，弹性模量及硬度使用MTSシステム公司制的纳米压痕计(NanoIndenterTMXP/DCM)来测定。使用压头为cubecornertip(90°)。试样尺寸最大为φ20mm×10mm，用粘接剂或其它固定于试样台。本装置的负载范围为～10mN这样的非常低的负载，因此适于膜厚数10nm～1μm左右的薄膜的弹性模量及硬度测定。[纳米压痕测定的具体的方法]设备、方法、环境条件如下所述。作为具体的测定方法，使用以下的设备、用以下的方法测定。测定设备：HYSITRON公司制TriboScope使用压头：CubeCornerTip最大负载：20μN或者30μN(1)样品试样膜厚测定在基材上首先均匀地涂布试样、干燥、(固化)而制作，将其一部分用刮铲除去，露出基材表面。使用DektakXT(Bruker公司制)的触针式粗糙度测定机由涂布面和露出了的基材面之差求出涂布膜厚。测定以N＝3进行，求出其平均值。(2)最大负载设定选择压入至以Dektak求得的膜厚的10％的最大负载(20～30μN)。(3)试样调整将纳米压痕测定用的试样在23℃·50％RH的环境的测定室中调湿2小时以上后进行测定。(4)测定使用上述的Hysitron公司制TriboScope实施纳米压痕下的测定。测定以N＝5进行，除去最大/最小值，求出N＝3数据的平均值。(5)数据处理由通过上述的测定得到的各试样的负载-位移曲线进行数据处理，求出硬度(GPa)和弹性模量(GPa)。压头使用尖端角度90°的cubecornertip，预先使用熔融石英标准试样进行校准。对于各试样，至最大负载20μN，从0压入5秒后，用5秒时间卸载至0。由得到的负载-位移曲线，硬度(H)可使用(1)式求出，弹性模量(Er)可使用(2)式求出。[数学式1](1)(2)Pmax：最大负载A：接触面积β：压头固有的常数S：卸载曲线的初期梯度[形成了气体阻隔层的透明基材及内部光取出层的表面的弹性模量/硬度]用如上所述的测定法分别实施挠性透明基材表面(内部光取出层形成面侧)的测定和内部光取出层的干燥/固化后的表面弹性模量/硬度的测定。透明基材表面和内部光取出层为基本进行邻接的层，在两者之间可根据目的设置粘接层/光学系数(折射率)调整层/吸收降低层等。作为本发明的实施方式，优选为上述挠性透明基材依次具有膜基材和至少1层气体阻隔层、上述内部光取出层具有光散射层和平滑层的层叠构成。因此，就本发明涉及的挠性透明基材及内部光取出层的表面的弹性模量的测定而言，在上述膜基材上形成气体阻隔层的情况下，对于气体阻隔层的表面侧进行。另外，在上述内部光取出层由光散射层和平滑层构成的情况下，对平滑层的表面侧进行测定。本发明涉及的挠性透明基材优选为可使用于有机发光元件的氧、水分遮断能力高的、依次具有膜基材和至少1层气体阻隔层的气体阻隔膜。本申请中所谓的气体阻隔层或气体阻隔膜，是指用依据JISK7129：1992的方法测定的温度25±0.5℃、相对湿度90±2％下的水蒸气透过度为1×10-3g/m2·24h以下的气体阻隔层或气体阻隔膜，进而是指用依据JISK7126：1987的方法测定的氧透过度为1×10-3ml/m2·24h·atm(1atm为1.01325×105Pa)以下，且温度25±0.5℃、相对湿度90±2％下的水蒸气透过度为1×10-5g/m2·24h以下的气体阻隔层或气体阻隔膜。另外，所谓挠性，作为该气体阻隔膜本身，是指卷绕于φ(直径)50mm辊，在以一定的张力卷绕前后不产生破裂等的基材，更优选是指可卷绕于φ30mm辊、特别优选φ10mm辊的基材。这样的气体阻隔膜优选其表面的弹性模量为20GPa以上，更优选为25GPa以上，特别优选为30GPa以上。另一方面，内部光取出层优选具有光散射层和平滑层，内部光取出层的表面的弹性模量优选为15GPa以上，更优选为20GPa以上，进一步优选为25GPa以上，特别优选为30GPa以上。就上述内部光取出层的表面的弹性模量(EMl)和该透明基材的有机发光层侧的表面的弹性模量(EMs)的由上述式1表示的比的值D而言，从显现本发明的效果的方面考虑，需要在100±30％的范围内，优选为100±25％的范围内。通过两者的弹性模量在这样的范围，在形成了本发明涉及的气体阻隔层的透明基材上形成了内部光取出层后的弯曲性试验中，两层的弯曲时的行为一致，抑制电极的破裂、浮起、剥离等，进而可大幅改善各构成层的脱落·剥离·裂纹·褶皱的产生。另外，作为单独的上述平滑层的表面的弹性模量，优选为20GPa以上，更优选为25GPa以上，特别优选为30GPa以上，优选光散射层与平滑层相比弹性模量低，光散射层的弹性模量为0.5～25GPa，更优选为1～20GPa，进一步优选为1.5～15GPa，特别优选为1.5～10GPa。通过形成为以上，光散射层作为应力松弛层发挥作用、不仅抑制电极的破裂、浮起、剥离，而且从各构成层的脱落·剥离·裂纹·褶皱的产生的观点考虑也是有利的。另外，该透明基材及内部光取出层的表面硬度并不是本发明的要件，特别是数值没有限定，因此，在本发明中构成有机发光元件的层的弹性模量的设计及控制是重要的。若为上述的物性，则各层的原材料没有特别限制，但就构成透明基板及内部光取出层的平滑层而言，从得到上述的物性的观点考虑，优选含有低于50nm的纳米粒子和含有无机聚合物的粘结剂、特别是具有硅氧烷结构的树脂，同样地气体阻隔层也优选使用同样的含有无机聚合物的粘结剂。就这样的气体阻隔层和内部光取出层的构成原材料类似而言，从两层的粘接性的观点考虑，优选；当然优选在上述的物性的同时两层间的粘接强度高。以下，对本发明的有机发光元件的各构成要素详细地进行说明。<<有机发光元件>>如图4中所示，本发明涉及的有机发光元件10设置在挠性透明基材13上，从透明基材13侧依次层叠内部光取出层2、透明金属电极1、使用有机材料等而构成了的有机发光层3、及对置电极5a而构成。在透明金属电极1(电极层1b)的端部设置有取出电极16。透明金属电极1和外部电源(省略图示)经由取出电极16而电连接。有机发光元件10以至少从透明基材13侧取出产生了的光(发光光h)的方式构成。另外，有机发光元件10的层结构没有限定，可以为一般的层结构。在此，透明金属电极1作为正极(即阳极)发挥作用，对置电极5a作为负极(即阴极)发挥作用。此时，例如，有机发光层3可例示从作为正极的透明金属电极1侧依次层叠了空穴注入层3a/空穴传输层3b/发光层3c/电子传输层3d/电子注入层3e的构成，但其中需要至少具有使用有机材料而构成了的发光层3c。空穴注入层3a及空穴传输层3b也可以作为空穴传输注入层而设置。电子传输层3d及电子注入层3e也可以作为电子传输注入层而设置。另外，这些有机发光层3中，例如电子注入层3e也有时由无机材料构成。另外，就有机发光层3而言，除这些层以外，也可以根据需要在必要处层叠空穴阻挡层、电子阻挡层等。进而，发光层3c可以形成具有产生各波长区域的发光光的各色发光层、使这些各色发光层经由非发光性的中间层而被层叠了的结构。中间层也可以作为空穴阻挡层、电子阻挡层而发挥作用。进而，作为负极的对置电极5a也可以为根据需要的层叠结构。在这样的构成中，仅仅用透明金属电极1和对置电极5a夹持了有机发光层3的部分成为有机发光元件10中的发光区域。另外，在如上所述的层构成中，以谋求透明金属电极1的低电阻化为目的，也可以与透明金属电极1的电极层1b相接而设置辅助电极15。就如上所述构成的有机发光元件10而言，以防止使用有机材料等而构成了的有机发光层3的劣化为目的，在透明基板13上用后述的密封材料17进行密封。该密封材料17经由粘接剂19而固定于透明基材13侧。但是，透明金属电极1(取出电极16)及对置电极5a的端子部分以如下状态来设置：在透明基材13上由有机发光层3互相保持了绝缘性的状态下从密封材料17露出。以下，对上述的用于构成有机发光元件10的主要各层的详细情况和其制造方法进行说明。(1)透明基材就本发明涉及的透明基材的表面的弹性模量而言，为20GPa以上、更优选为25GPa以上、特别优选为30GPa以上，从呈现强度或柔软性等的作为基材的优选的物性方面考虑，优选的是，优选为20～50GPa的范围。本发明的透明基材可没有特别限制地使用具有挠性的以往公知的玻璃基材/膜基材，本发明的光散射层/平滑层的结构当然与基材无关地发生作用。本发明中优选使用的透明基材优选具有有机发光元件所需要的耐湿性/耐气体透过性等的气体阻隔性能，在膜基材中，优选设置用于提高阻隔性能的气体阻隔层。此时，上述表面的弹性模量为形成了气体阻隔层的气体阻隔膜表面的弹性模量。为了将本发明涉及的透明基材的弹性模量控制在上述范围内，可通过透明树脂基材的种类的选择及形成气体阻隔层的材料的选择来进行。本发明的所谓“透明基材”，是指透射率70％以上的基材，其透射率优选为80％以上，进一步优选为90％以上，特别优选为95％以上。在此所谓的“透射率”为全光线透射率，可依据JISK7375：2008“塑料-全光线透射率及全光线反射率的求出方法”来测定。本发明的“透明基材”具有挠性。就如上所述的可卷绕于辊的挠性透明基材而言，作为以往公知的基材，例如可以举出：丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚芳酯、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、尼龙(Ny)、芳香族聚酰胺、聚醚醚酮、聚砜、聚醚砜、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺等的各树脂膜、以具有有机无机共混结构的倍半硅氧烷为基本骨架的耐热透明膜(例如制品名Sila-DEC；チッソ株式会社制)、进而将上述树脂层叠2层以上而成的树脂膜等。从成本、获得的容易性方面考虑，可优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)等，另外，从光学透明性、耐热性、与无机层、气体阻隔性层的密合性方面考虑，优选使用以具有有机无机共混结构的倍半硅氧烷为基本骨架的耐热透明膜。其中从透明性、耐热性、操作容易性、强度及成本的方面考虑，优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、双轴拉伸聚萘二甲酸乙二醇酯膜、聚醚砜膜、聚碳酸酯膜，更优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、双轴拉伸聚萘二甲酸乙二醇酯膜。进而，为了最大限度地抑制热膨胀时的收缩，最优选进行了热退火等的处理的低热吸收处理品。透明基材的厚度优选在10～500μm的范围内，更优选在20～250μm的范围内，进一步优选在30～150μm的范围内。通过透明基材的厚度在10～500μm的范围，可得到稳定的气体阻隔性，另外，变得适于卷对卷方式的输送。(2)气体阻隔层(2.1)特性及形成方法在本发明的透明基材为膜基材的情况下，为了达到本发明的优选的弹性模量，优选设置1层以上的气体阻隔层。作为这样的气体阻隔层，可没有特别限制地使用公知的原材料，可优选使用例如如下的原材料。本发明涉及的气体阻隔层具有上述的氧透过度及水蒸气透过度是重要的，优选：为含有无机前体化合物的层、且通过在透明基材上涂布至少1层含有无机前体化合物的涂布液后进行改性处理而形成。作为涂布方法，可采用任意适当的方法。作为具体例，可以举出：辊涂法、流涂法、喷墨法、喷涂法、印刷法、浸涂法、流延成膜法、棒涂法、凹版印刷法等。涂布厚度可根据目的适当设定。例如，涂布厚度可以以干燥后的厚度优选为1nm～10μm左右、进一步优选为10nm～10μm左右、最优选为30nm～1μm左右的方式设定。(2.2)无机前体化合物所谓本发明中所使用的无机前体化合物，只要为可在特定的气氛下通过真空紫外线照射而形成金属氧化物、金属氮化物、金属氮氧化物的化合物就没有特别限定，作为适于本发明的制造方法的化合物，优选如日本特开平8-112879号公报中所记载的那样可在较低温下进行改性处理的化合物。具体而言，可以举出具有Si-O-Si键的聚硅氧烷(包含聚倍半硅氧烷)、具有Si-N-Si键的聚硅氮烷、含有Si-O-Si键和Si-N-Si键的两者的聚硅氧氮烷(シロキサザン)等。这些物质可混合使用2种以上。另外，也可将不同的化合物逐次层叠或同时层叠来使用。(2.2.1)聚硅氧烷作为本发明中所使用的聚硅氧烷，可含有作为一般结构单元的[R3SiO1/2]、[R2SiO]、[RSiO3/2]、及[SiO2]。在此，R独立地选自由氢原子、含有1～20个碳原子的烷基的例如甲基、乙基及丙基等、芳基的例如苯基、不饱和烷基的例如乙烯基组成的组。在特定的聚硅氧烷基的例子中，可以举出[PhSiO3/2]、[MeSiO3/2]、[HSiO3/2]、[MePhSiO]、[Ph2SiO]、[PhViSiO]、[ViSiO3/2]、[MeHSiO]、[MeViSiO]、[Me2SiO]及[Me3SiO1/2]等。另外，也可使用聚硅氧烷的混合物、共聚物。(2.2.2)聚倍半硅氧烷在本发明中，上述的聚硅氧烷中优选使用聚倍半硅氧烷。聚倍半硅氧烷为在结构单元中含有倍半硅氧烷的化合物。所谓“倍半硅氧烷”，为由[RSiO3/2]表示的化合物，通常为RSiX3(R为氢原子、烷基、烯基、芳基、芳烷基等，X为卤素及烷氧基等)型化合物进行水解-缩聚而合成的聚硅氧烷。作为倍半硅氧烷的分子排列的形状，代表地已知无定形结构、梯状结构、笼形结构或其部分开裂结构体(由笼形结构除去了一个硅原子的结构、笼形结构的一部分硅-氧键被切断了的结构)等。这些聚硅氧烷中，优选使用所谓氢倍半硅氧烷。在氢倍半硅氧烷聚合物中，可以举出式：HSi(OH)x(OR)yOz/2的氢化物硅氧烷聚合物，各个R为有机基团或被取代了的有机基团，在通过氧原子键合于硅的情况下，形成水解性取代基，x＝0～2、y＝0～2、z＝1～3、x+y+z＝3。在R的例子中，可以举出烷基的例如甲基、乙基、丙基及丁基等、芳基的例如苯基、烯基的例如烯丙基及乙烯基。作为这样的物质，这些树脂可完全被缩合(HSiO3/2)n、或者仅部分被水解(即，含有一部分Si-OR)及/或部分被缩合(即，含有一部分Si-OH)。作为笼形倍半硅氧烷的例子，可以举出：由[RSiO3/2]8的化学式表示的下述通式(1)的倍半硅氧烷、由[RSiO3/2]10的化学式表示的下述通式(2)的倍半硅氧烷、由[RSiO3/2]12的化学式表示的下述通式(3)的倍半硅氧烷、由[RSiO3/2]14的化学式表示的下述通式(4)的倍半硅氧烷及由[RSiO3/2]16的化学式表示的下述通式(5)的倍半硅氧烷。[化学式1]作为由[RSiO3/2]n表示的笼形倍半硅氧烷中的n的值，为6～20的整数，优选为8、10或12，特别优选为8或8、10及12的混合物。另外，作为笼形倍半硅氧烷的一部分硅-氧键部分地开裂了的由[RSiO3/2]n-m(O1/2H)2+m(n为6～20的整数，m为0或1。)表示的笼形倍半硅氧烷的优选的例子，可以举出：通式(1)的一部分开裂了的三硅烷醇体、由[RSiO3/2]7(O1/2H)3表示的下述通式(6)的倍半硅氧烷、由[RSiO3/2]8(O1/2H)2的化学式表示的下述通式(7)的倍半硅氧烷及由[RSiO3/2]8(O1/2H)2的化学式表示的下述通式(8)的倍半硅氧烷。[化学式2]作为上述通式(1)～(8)中的R，可以举出：氢原子、碳数1～20的饱和烃基、碳数2～20的烯基、碳数7～20的芳烷基及碳数6～20的芳基。其中R优选为可聚合反应的聚合性官能团。作为碳数1～20的饱和烃基的例子，可以举出：甲基、乙基、正丙基、异丙基、丁基(正丁基、异丁基、叔丁基、仲丁基等)、戊基(正戊基、异戊基、新戊基、环戊基等)、己基(正己基、异己基、环己基等)、庚基(正庚基、异庚基等)、辛基(正辛基、异辛基、叔辛基等)、壬基(正壬基、异壬基等)、癸基(正癸基、异癸基等)、十一烷基(正十一烷基、异十一烷基等)及十二烷基(正十二烷基、异十二烷基等)等。若考虑成形时的熔融流动性、阻燃性及操作性的平衡，则优选为碳数1～16的饱和烃，特别优选为碳数1～12的饱和烃。作为碳数2～20的烯基，可以举出非环式烯基及环式烯基。作为其例子，可以举出：乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、环己烯基、环己烯基乙基、降冰片烯基乙基、庚烯基、辛烯基、壬烯基、癸烯基、十一烯基及十二烯基等。若考虑成形时的熔融流动性、阻燃性及操作性的平衡，则优选为碳数2～16的烯基，特别优选为碳数2～12的烯基。作为碳数7～20的芳烷基的例子，可以举出：苄基及苯乙基或被碳数1～13、优选碳数1～8的烷基中的1个或多个取代了的苄基及苯乙基等。作为碳数6～20的芳基的例子，可以举出：苯基及甲苯基或被碳数1～14、优选碳数1～8的烷基取代了的苯基、甲苯基及二甲苯基等。上述的笼形倍半硅氧烷类可直接使用由Aldrich公司、HybridPlastic公司、チッソ株式会社、Azmax公司等市售的化合物，另外，也可以使用基于JournalofAmericanChemicalSociety杂志、第111卷、1741页(1989年)等而合成了的化合物。所谓聚倍半硅氧烷的笼形结构的部分开裂结构体，表示从由[RSiO3/2]8的化学式表示的一个笼型单元中Si-O-Si键开裂而生成了的Si-OH为3个以下的化合物、或从由[RSiO3/2]8的化学式表示的密闭了的笼形结构中Si原子的缺损为一个以下的化合物。在笼形倍半硅氧烷中，也可优选使用[HSiO3/2]8等的氢倍半硅氧烷。(2.2.3)聚硅氮烷所谓本发明中所使用的聚硅氮烷，为具有硅-氮键的聚合物，为由Si-N、Si-H、N-H等构成的SiO2、Si3N4及两者的中间固溶体SiOxNy(x：0.1～1.9、y：0.1～1.3)等的无机前体聚合物。作为本发明中优选使用的聚硅氮烷，由下述通式(A)表示。通式(A)-[Si(R1)(R2)-N(R3)]-式中，R1、R2、R3各自表示氢原子、烷基、烯基、环烷基、芳基、烷基甲硅烷基、烷基氨基或烷氧基。在本发明中，从作为得到的气体阻隔层的致密性的观点考虑，特别优选R1、R2及R3全部为氢原子的全氢聚硅氮烷。另一方面，就与其Si进行键合的氢部分的一部分被烷基等取代了的有机聚硅氮烷而言，通过具有甲基等的烷基，与基底基材的粘接性得到改善、且可使硬且脆的聚硅氮烷形成的陶瓷层具有韧性，因此具有即使在进一步增加层厚的情况下也可抑制开裂的产生的优点。可根据用途适宜选择这些全氢聚硅氮烷和有机聚硅氮烷，也可以混合使用。推定全氢聚硅氮烷为存在直链结构和以6及8元环为中心的环结构的结构。其分子量以数均分子量(Mn)计为约600～2000左右(聚苯乙烯换算)，为液体或固体的物质，根据分子量而不同。这些物质以溶解于有机溶剂的溶液状态被市售，也可以将市售品直接作为含有聚硅氮烷涂布液而使用。作为在低温下进行陶瓷化的聚硅氮烷的其它的例子，可以举出：使硅醇盐与上述聚硅氮烷反应而得到的硅醇盐加成聚硅氮烷(日本特开平5-238827号公报)、使缩水甘油反应而得到的缩水甘油加成聚硅氮烷(日本特开平6-122852号公报)、使醇反应而得到的醇加成聚硅氮烷(日本特开平6-240208号公报)、使金属羧酸盐反应而得到的金属羧酸盐加成聚硅氮烷(日本特开平6-299118号公报)、使含有金属的乙酰丙酮络合物反应而得到的乙酰丙酮络合物加成聚硅氮烷(日本特开平6-306329号公报)及添加金属微粒而得到的金属微粒添加聚硅氮烷(日本特开平7-196986号公报)等。作为制备含有聚硅氮烷的液体的有机溶剂，不优选使用含有容易与聚硅氮烷反应这样的醇系或水分的有机溶剂。具体而言，可使用脂肪族烃、脂环式烃及芳香族烃等的烃溶剂、卤代烃溶剂、脂肪族醚及脂环式醚等的醚类。具体而言，有戊烷、己烷、环己烷、甲苯、二甲苯、Solvesso、松节油等的烃、二氯甲烷及三氯乙烷等的卤代烃、二丁基醚、二烷及四氢呋喃等的醚类等。这些溶剂可以根据聚硅氮烷的溶解度、溶剂的蒸发速度等目的来选择、混合多种溶剂。含有聚硅氮烷涂布液中的聚硅氮烷浓度也根据目标二氧化硅层厚、涂布液的适用期而不同，为0.2～35质量％左右。有机聚硅氮烷也可以为与其Si进行键合的氢部分的一部分被烷基等取代了的衍生物。通过具有烷基、特别是分子量最小的甲基，与基底基材的粘接性得到改善、且可使硬且脆的二氧化硅层具有韧性，即使在进一步增加层厚的情况下也可抑制开裂的产生。为了促进向氧化硅化合物的改性处理，也可以添加胺、金属的催化剂。具体而言，可以举出：AZエレクトロニックマテリアルズ(株)制アクアミカNAX120-20、NN110、NN310、NN320、NL110A、NL120A、NL150A、NP110、NP140、SP140等。(2.2.4)聚硅氧氮烷本发明中所使用的聚硅氧氮烷为主要重复单元由-[(SiH2)n(NH)r]-和-[(SiH2)mO]-(式中n、m、r为1、2或3)表示的化合物。(2.2.5)催化剂本发明中所使用的含有无机前体的溶液(也称为涂布液)中，可以根据需要含有催化剂。若具体地示出，则可以举出：1-甲基哌嗪、1-甲基哌啶、4,4'-三亚甲基二哌啶、4，4'-三亚甲基双(1-甲基哌啶)、二氮杂双环-[2,2,2]辛烷、顺式-2,6-二甲基哌嗪、4-(4-甲基哌嗪)吡啶、吡啶、联吡啶、α-甲基吡啶、β-甲基吡啶、γ-甲基吡啶、哌啶、二甲基吡啶、嘧啶、哒嗪、4,4'-三亚甲基联吡啶、2-(甲基氨基)吡啶、吡嗪、喹啉、喹喔啉、三嗪、吡咯、3-吡咯啉、咪唑、三唑、四唑、1-甲基吡咯烷等的N-杂环状化合物；甲胺、二甲胺、三甲胺、乙胺、二乙胺、三乙胺、丙胺、二丙胺、三丙胺、丁胺、二丁胺、三丁胺、戊胺、二戊胺、三戊胺、己胺、二己胺、三己胺、庚胺、二庚胺、辛胺、二辛胺、三辛胺、苯胺、二苯胺、三苯胺等的胺类；进而DBU(1,8-二氮杂双环[5,4,0]7-十一碳烯)、DBN(1,5-二氮杂双环[4,3,0]5-壬烯)、1,5,9-三氮杂环十二烷及1,4,7-三氮杂环壬烷等。另外，有机酸、无机酸、金属羧酸盐、乙酰丙酮络合物及金属微粒也可作为优选的催化剂举出。作为有机酸，可以举出：乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、马来酸及硬脂酸等，另外，作为无机酸，可以举出：盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、过氧化氢、氯酸及次氯酸等。作为金属羧酸盐，为由式：(RCOO)nM[式中，R为脂肪族基团、或脂环族基团，表示碳数1～22的基团，M表示选自由Ni、Ti、Pt、Rh、Co、Fe、Ru、Os、Pd、Ir及Al组成的组中的至少1种金属，n表示M的原子价。]表示的化合物。金属羧酸盐可以为酐也可以为水合物。作为乙酰丙酮络合物，为由乙酰丙酮(2,4-戊二酮)通过酸解离而产生了的阴离子acac-配位于金属原子的络合物，一般而言，作为由式(CH3COCHCOCH3)nM[式中，M表示离子价n的金属。]所示。作为优选的金属M，例如可以举出：镍、铂、钯、铝及铑等。作为金属微粒，优选Au、Ag、Pd及Ni，特别优选Ag。金属微粒的粒径优选小于0.5μm，更优选0.1μm以下，进一步优选小于0.05μm。除这些以外，也可使用过氧化物、金属卤化物、二茂铁、二茂锆等的有机金属化合物等。另外，也可使用作为有机硅聚合物的固化剂而使用的铂乙烯基硅氧烷。这些催化剂优选相对于无机前体化合物在0.01～10质量％的范围内配合，更优选在0.05～2质量％的范围内配合。(2.3)改性处理就本发明中所使用的无机前体化合物的改性处理而言，在使用紫外线的情况下，可利用由超高压水银灯、高压水银灯、低压水银灯、碳弧、氙弧、金属卤化物等的光线发出的紫外线等，优选的是，优选使用后述的利用受激准分子灯的真空紫外线(VUV)。关于真空紫外线(VUV)照射的详细情况，可以参照日本特开2014-083691号公报的段落[0150]～[0167]的记载。例如，在使用聚硅氮烷作为无机前体的情况下，聚硅氮烷层涂膜受到的涂膜面处的真空紫外线的照度优选为30～200mW/cm2的范围内，更优选为50～160mW/cm2的范围内。若为30mW/cm2以上，则没有改性效率降低的担心，若为200mW/cm2以下，则在涂膜不产生磨损，对基材不造成损伤，故优选。聚硅氮烷层涂膜面中的真空紫外线的照射能量优选为200～10000mJ/cm2的范围内，更优选为500～5000mJ/cm2的范围内。若为200mJ/cm2以上，则可充分地进行改性，若为10000mJ/cm2以下，则不形成过量改性而防止开裂产生、树脂基材的热变形。(3)内部光取出层(3.1)构成及特性就内部光取出层2而言，优选配设在透明基材13和透明金属电极1之间、从透明基材13侧依次层叠光散射层2a和平滑层2b而构成。平滑层的主要目的在于：在气体阻隔层或光散射层之上设有透明电极及有机发光层的情况下，防止该气体阻隔层或光散射层的表面的凹凸所引起的高温·高湿气氛下的保存性的劣化、电短路(短路)等的弊端。因此，内部光取出层优选具有光散射层和平滑层，但内部光取出层的表面的弹性模量为15GPa以上，更优选为20GPa以上，进一步优选为25GPa以上，特别优选为30GPa以上，优选在20～50GPa的范围内。另外，作为单独的该平滑层的表面的弹性模量优选为20GPa以上，更优选为25GPa以上，特别优选为30GPa以上。优选散射层与平滑层相比、弹性模量低，光散射层的弹性模量为0.5～25GPa，更优选为1～20GPa，进一步优选为1.5～15GPa，特别优选为1.5～10GPa。为了将内部光取出层、光散射层及平滑层的表面的弹性模量控制在上述范围内，可根据使用的粘结剂的种类、光散射粒子的种类及填充率等而进行形成的材料的种类、使用量的选择来适宜进行。另外，内部光取出层2的光波长550nm下的折射率优选在1.7～2.5的范围内。封入于有机发光元件的发光层内的导波模式光、从阴极反射的等离激元光为特异的光学模式的光，为了取出这些光，需要至少1.7以上的折射率。另一方面，即使为最高次侧的模式，也几乎不存在折射率超过2.5的区域的光，即使形成为其以上的折射率，取出的光的量也不增加。实际上，光散射层2a及平滑层2b的折射率分别优选为1.7～2.5的范围内，许多情况下难以分别测定各层的折射率，因此作为内部光取出层2整体，只要折射率满足上述范围即可。予以说明，就折射率的测定而言，在25℃的气氛下照射来自发光单元的发光光的发光极大波长中最短的发光极大波长的光线、使用阿贝折射率计(ATAGA公司制、DR-M2)进行(光散射层及平滑层的折射率的测定也相同。)。另外，内部光取出层2的雾度值(散射透射率相对于全光线透射率的比例)优选为30％以上。若雾度值为30％以上，则可使发光效率提高。予以说明，所谓雾度值，为受到(i)层中的组合物的折射率差产生的影响和(ii)表面形状产生的影响而算出的物性值。在本发明中，测定作为在光散射层2a上层叠了平滑层2b的内部光取出层2的雾度值。即，将表面粗糙度抑制在低于一定程度而测定雾度值，由此可测定排除了上述(ii)产生的影响的雾度值。雾度值可依据JISK7136、例如用雾度仪NDH-2000(日本电色工业公司制)进行测定。雾度仪的光源采用5V9W的卤素灯，受光部采用硅光电池(带相对可见度滤光器)。雾度的测定可在23℃·55％RH的条件下进行。另外，本发明的内部光取出层2优选光波长450nm～700nm的平均透射率为50％以上，更优选为55％以上，特别优选为60％以上。在此所谓的平均透射率是指全光线透射率，可依据JISK7375：2008来进行测定。内部光取出层2的透射率优选高者，实际上设想为限于低于80％的数值。内部光取出层2的透射率更优选低于85％，特别优选低于90％。(3.2)光散射层(3.2.1)折射率光散射层2a优选为在光波长550nm测定中折射率在1.7～3.0的范围内的高折射率层。此时，光散射层2a可以由具有折射率1.7～3.0的范围的单独的原材料来形成层，也可以与2种以上的化合物混合而形成折射率1.7～3.0的范围的层。在这样的混合体系的情况下，就光散射层2a的折射率而言，也可以用通过对各种原材料固有的折射率乘以混合比率而得的合计值所算出的计算折射率来代用。另外，此时，各个原材料的折射率可以低于1.7或者超过3.0，作为混合了的层的折射率，只要满足1.7～3.0的范围即可。另外，本发明的光散射层2a为利用了层介质和光散射粒子的混合物产生的折射率差的混合光散射层(散射膜)。光散射层2a为使光取出效率提高的层，形成于透明基材13的透明金属电极1侧的最表面。光散射层2a由层介质和该层介质中所含有的光散射粒子构成。就作为层介质的后述的树脂材料(单体或粘合剂)和所含有的光散射粒子的折射率差而言，为0.03以上，优选为0.1以上，更优选为0.2以上，特别优选为0.3以上。若层介质和光散射粒子的折射率差为0.03以上，则在层介质和光散射粒子的界面产生散射效果。折射率差越大，界面处的折射变得越大，散射效果提高，故优选。(3.2.2)光散射粒子的平均粒径就光散射层2a而言，如上所述，为通过层介质和光散射粒子的折射率不同而使光散射的层。因此，作为所含有的光散射粒子，优选为具有产生可见光区域的Mie散射的区域以上的粒径的透明的粒子，其平均粒径为0.2μm以上。另一方面，作为平均粒径的上限，在粒径比较大的情况下，也需要增厚使含有光散射粒子的光散射层2a的粗糙度进行平坦化的平滑层2b的层厚，从工序的负荷、层的吸收的观点考虑，存在不利的方面，因此，低于1μm。在此，作为高折射率粒子(光散射粒子)的平均粒径的测定方法，可使用公知的方法。例如可使用通过透射型电子显微镜(TEM)进行光散射粒子的粒子观察、然后作为粒径分布的数均粒径而求出的方法；使用原子力显微镜(AFM)而求出平均粒径的方法；利用动态光散射法的粒径测定装置、例如Malvern公司制、“ZETASIZERNanoSeriesNano-ZS”进行测定。在本发明中，优选使用如下方法：通过透射型电子显微镜照片(TEM剖面)的图像处理将粒径作为投影面积而进行圆换算、将其直径作为平均粒径进行测定。(3.2.3)光散射粒子的种类等作为光散射粒子，没有特别限制，可根据目的适宜选择，可以为有机微粒，也可以为无机微粒，其中优选为具有高折射率的无机微粒。作为具有高折射率的有机微粒，例如可以举出：聚甲基丙烯酸甲酯珠粒、丙烯酸类-苯乙烯共聚物珠粒、三聚氰胺珠粒、聚碳酸酯珠粒、苯乙烯珠粒、交联聚苯乙烯珠粒、聚氯乙烯珠粒及苯并胍胺-三聚氰胺甲醛珠粒等。作为具有高折射率的无机微粒，例如可以举出：由选自锆、钛、铟、锌、锑、铈、铌及钨等中的至少一种的氧化物构成的无机氧化物粒子。作为无机氧化物粒子，具体而言，可以举出：ZrO2、TiO2、BaTiO3、In2O3、ZnO、Sb2O3、ITO、CeO2、Nb2O5及WO3等，其中，优选TiO2、BaTiO3、ZrO2、CeO2及Nb2O5，最优选TiO2。另外，TiO2中，与锐钛矿型相比，金红石型的催化剂活性低，因此高折射率层、邻接的层的耐候性变高，进而，折射率高，故优选。另外，就这些粒子而言，由于在高折射率的光散射层2a中含有，因此从形成了后述的分散液的情况下的分散性、稳定性提高的观点考虑，可以选择从抑制催化剂活性等的观点考虑实施了表面处理的粒子或者未实施表面处理的粒子。在进行表面处理的情况下，作为表面处理的具体的材料，可以举出：氧化硅、氧化锆等的不同种类无机氧化物、氢氧化铝等的金属氢氧化物、有机硅氧烷、硬脂酸等的有机酸等。这些表面处理材料可单独使用1种，也可以组合使用多种。其中，从分散液的稳定性的观点考虑，作为表面处理材料，优选不同种类无机氧化物及/或金属氢氧化物，更优选金属氢氧化物。特别是在使用TiO2粒子的情况下，优选进行表面处理，优选通过表面处理来完全抑制T...