防辐射型核电机柜的制作方法

本实用新型涉及电器设备领域技术，尤其是指一种防辐射型核电机柜。

背景技术：

核电站在运行和维修过程中，放射性物质会在核电站系统的设备部件及工器具上沉积聚集，从而形成放射性污染。为了保障核电站系统的正常运行和操作人员的健康安全，必须将设备部件及工器具上的放射性物质进行去污处理。在这方面，对于防止工作人员受到核辐射的防护措施已经有很多，但是，现有用于控制核电用的核电机柜在自身防核辐射上仍有缺陷，由于核电机柜后侧盖多采用拼装式生产，必然存在缝隙，核污染源很容易由缝隙进入机柜内部对机柜内的电子元件的运行造成影响。因此，应对现有核电机柜进行改进，以提高核电机柜的防核辐射性能。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型针对现有技术存在之缺失，其主要目的是提供一种防辐射型核电机柜，其通过于机柜内设置屏蔽板，采用衔接结构使机上壳体和下壳体无缝隙结合形成后侧盖，并于后侧盖上设置防辐射涂层，提高了机柜整体的抗辐射性能。

为实现上述目的，本实用新型采用如下之技术方案：

一种防辐射型核电机柜，包括有主柜体和可拆卸式安装于主柜体上的后侧盖，该主柜体内具有用于安装电子元器件的容置腔，于该容置腔上方覆盖有一用于防止机柜内部电子元器件受到核辐射的屏蔽板；该后侧盖包括有上壳体和与之衔接的下壳体，该上壳体包括有顶板和上侧板，该下壳体包括有底板和下侧板，于上侧板和下侧板之间设置有使两者紧密结合的衔接结构，该衔接结构包括有设置于上侧板下端的U形部和设置于下侧板顶端与U形部相匹配的L形部，该U形部安装于L形部上，并于上壳体和下壳体内外壁面上分别涂覆有用于提高机柜防核辐射性能的防辐射涂层。

作为一种优选方案：所述上侧板和下侧板边沿设置有用于提高上壳体和下壳体彼此结合稳固性的加固条。

作为一种优选方案：所述加固条包括有横向固定部和一体设置于横向固定部上的竖直部，该横向固定部固定于上述上壳体和下壳体外壁上。

作为一种优选方案：所述主柜体前侧设置有复数个柜门，于主柜体上边沿向外延伸设置有一外檐，该外檐位于各柜门上方。

本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果，具体而言，由上述技术方案可知，通过于主柜体内设置屏蔽板，采用U形部和L形部相互衔接将上壳体和下壳体组合形成无缝隙结合的后侧盖，并于后侧盖内外壁面上分别涂覆防辐射涂层，提高机柜整体的抗辐射性能，提高机柜的工作稳定性。

为更清楚地阐述本实用新型的结构特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对其进行详细说明。

附图说明

图1为本实用新型之机柜立体示意图；

图2为本实用新型之机柜另一视角立体示意图；

图3为本实用新型之机柜分解示意图；

图4为本实用新型之后侧盖横向剖视示意图；

图5为图4之M处放大示意图。

附图标识说明：

10、主柜体 11、容置腔

12、屏蔽板 13、柜门

14、外檐 20、后侧盖

21、上壳体 211、顶板

212、上侧板 22、下壳体

221、底板 222、下侧板

30、衔接结构 31、U形部

32、L形部 40、防辐射涂层

50、加固条 51、横向固定部

52、竖直部。

具体实施方式

本实用新型如图1至图5所示，一种防辐射型核电机柜，包括有主柜体10和可拆卸式安装于主柜体10上的后侧盖20，其中：

该主柜体10内具有用于安装电子元器件的容置腔11，于该容置腔11上方覆盖有一用于防止机柜内部电子元器件受到核辐射的屏蔽板12；该后侧盖20包括有上壳体21和与之衔接的下壳体22，该上壳体21包括有顶板211和上侧板212，该下壳体22包括有底板221和下侧板222，于上侧板212和下侧板222之间设置有使两者紧密结合的衔接结构30，该衔接结构30包括有设置于上侧板212下端的U形部31和设置于下侧板222顶端与U形部31相匹配的L形部32，该U形部31安装于L形部32上，U形部31和L形部32的组合可使上壳体21和下壳体22之间无缝隙结合，并于上壳体21和下壳体22内外壁面上分别涂覆有用于提高机柜防核辐射性能的防辐射涂层40。

于上侧板212和下侧板222边沿设置有用于提高上壳体21和下壳体22彼此结合稳固性的加固条50，该加固条50包括有横向固定部51和一体设置于横向固定部51上的竖直部52，该横向固定部51固定于上述上壳体21和下壳体22外壁上；并且，该主柜体10前侧设置有复数个柜门13，于主柜体10上边沿向外延伸设置有一外檐14，该外檐14位于各柜门13上方。

本实用新型的设计重点在于，通过于主柜体内设置屏蔽板，采用U形部和L形部相互衔接将上壳体和下壳体组合形成无缝隙结合的后侧盖，并于后侧盖内外壁面上分别涂覆防辐射涂层，提高机柜整体的抗辐射性能，提高机柜的工作稳定性。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型的技术范围作任何限制，故凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何细微修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。