一种光学薄片及电子设备壳体的制作方法

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一种光学薄片及电子设备壳体的制作方法

本实用新型涉及一种光学薄片及电子设备壳体。



背景技术:

现有的薄片装饰工艺中,需要镀覆具有特定色彩的装饰膜层,色彩装饰膜层通常由Ti3O5、Nb2O5、TiO2、ZrO2、SiO2等材料镀覆而成。但这些材料在薄片上的附着力通常较差,膜层间的结合力和膜层的致密性都较为低下,在耐受性测试中通常难以达到需求。



技术实现要素:

本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述技术问题之一或至少提供一种有用的商业选择。

为此,本实用新型的一个目的在于提出一种光学薄片,所述光学薄片包括:一面含线纹的基片,以及位于基片线纹面上依次镀设的第一介质层、吸收层、第二介质层和油墨层;所述第一介质层与第二介质层的镀膜材料相同且为选自五氧化三钛、五氧化二铌、二氧化钛、二氧化锆中的至少一种;所述吸收层为含铝的二氧化硅层。

本实用新型的另一个目的在于提出一种电子设备壳体,所述电子设备壳体从内至外依次包括:壳体基材和光学薄片,所述壳体基材和光学薄片通过光学胶连接,所述光学薄片为本实用新型中的光学薄片。

本实用新型提供的光学薄片具有多层结构,层间的附着力和致密度都有明显提升,尤其是在第一介质层和第二介质层间设置的吸收层,能明显改善膜层的稳定性和耐受性。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:

图1是本实用新型一个实施例的光学薄片截面图;

图2是本实用新型另一个实施例的光学薄片截面图;

图3是本实用新型一个实施例的电子设备壳体截面图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。

本实用新型提出了一种光学薄片100,如图1所示,为本实用新型的一个示意图。所述光学薄片100包括:一面含线纹的基片101,以及位于基片线纹面依次镀设的第一介质层102、吸收层103、第二介质层104和油墨层105;所述第一介质层102与第二介质层104的镀膜材料相同且为选自五氧化三钛、五氧化二铌、二氧化钛、二氧化锆中的至少一种;所述吸收层为含铝的二氧化硅层。所述光学薄片用于贴合在透明壳体,如玻璃壳体上,能改善壳体的外观效果。

根据本实用新型的一个实施例,所述基片101的厚度为50-300μm。所述基片101为本领域常用的基片,具体可以为玻璃基片、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基片、聚碳酸酯(PC)基片、聚乙烯(PE)基片、热塑性聚氨酯(TPU)基片、聚氯乙烯(PVC)基片中的至少一种。

根据本实用新型的一个实施例,所述第一介质层102的厚度为5-50nm。所述第一介质层102可以由五氧化三钛(Ti3O5)、五氧化二铌(Nb2O5)、二氧化钛(TiO2)、二氧化锆(ZrO2)中的至少一种材料制成。

根据本实用新型的一个实施例,所述吸收层103的厚度为5-50nm。所述吸收层103采用混合材料制成,能有效提高膜层的结合力,能够有效增加膜层致密度,提高膜层稳定性。当所述吸收层103中同时含有Al和Si元素时,能有利于膜层致密性和附着力的提高。所述吸收层103可以用SiO2和Al2O3来进行镀膜获得。

根据本实用新型的一个实施例,所述第二介质层104的厚度为5-50nm。所述第二介质层104由五氧化三钛(Ti3O5)、五氧化二铌(Nb2O5)、二氧化钛(TiO2)、二氧化锆(ZrO2)中的至少一种材料制成。

根据本实用新型的一个实施例,所述油墨层105的厚度为8-40μm ,所述油墨层为保护油墨,可以保护膜层避免污染。所述油墨层为本领域内常用的油墨,具体可以为溶剂型油墨、UV油墨中的至少一种。

根据本实用新型的一个实施例,所述第二介质层104和油墨层105之间还镀设有氧化铝层106,所述氧化铝层厚度为1-5nm。所述氧化铝层具有加固作用,能有效提高膜层稳定性,同时可以阻隔外界空气对于膜层的氧化,进一步提高膜层耐受性。该氧化铝层106可以通过真空蒸镀方式附着在第二介质层104上。

本实用新型中提供的光学薄片100具有膜层稳固、不易爆膜,膜层间结合紧密的特点,可以通过在基片101上通过PVD方式镀覆相应的光学膜层而获得。具体操作方法可以为:(1)将基片101进行表面处理;(2)在基片101表面真空蒸发镀上依次镀上第一介质层102、吸收层103、第二介质层104;(3)丝印:在步骤(2)所述的光学薄膜上丝印至少一层油墨层105。

所述步骤(1)中对基片101进行表面处理目的在于形成线纹,使镀完膜层后的光学薄片能有更加丰富的装饰效果。所述表面处理方法为本领域内常用的表面处理方法,如UV转印、激光雕刻、CNC雕刻中的至少一种。

根据本发明的一个实施例,在步骤(2)的第二介质层104之后镀覆氧化铝层106。

本实用新型还提供了一种电子设备壳体200,如图3。所述电子设备壳体从内至外依次包括:壳体基材201,光学薄片100;所述壳体基材201和光学薄片100通过连接。所述壳体基材201的材料为玻璃壳体、聚碳酸酯(PC)壳体、聚乙烯(PE)壳体中的至少一种。所述胶黏剂为OCA光学胶。

本实用新型提供的光学薄片具有良好的致密度和耐受性,各膜层之间的附着力也大大提升,有效提高了产品的使用寿命。

实施例1

1、将透明的厚度为100μm 的PET薄片基材上转印UV胶线纹理,所述纹理为线径为0.2mm,5μm厚度,清洗干净,保持膜片表面干净;

2、用薄片放进真空镀膜机内,通过真空蒸镀镀膜机(韩国韩一机/Ф1350)抽空到1×10-4Torr左右或以上,进行离子清洗,并进行蒸发镀膜。镀膜顺序为第一介质材料(材料TiO2,充氧保压在8×10-5Torr;镀膜厚度30nm)、吸收层(SiO2:Al2O3=9:1;镀膜厚度为20nm)、第二介质层(材料:TiO2,充氧保压在8×10-5Torr,镀膜厚度25nm)、加固层AL2O3(6nm);

3、用380目的网版丝印两层油墨,遮蔽光透过薄片,制备得到光学薄片样品S1。

实施例2

按照实施例1中的步骤,除不镀覆氧化铝层外,其他与实施例1相同,制备得到光学薄片样品S2。

对比例1

按照实施例1中的步骤,除不镀覆吸收层外,其他与实施例1相同。制备得到光学薄片样品DS1。

性能测试:

1、 百格附着力测试

根据标准《GB/T9286-1998 色漆和清漆漆膜的划痕试验》中附着力测试方法,对S1-S2及DS1进行测试。附着力由大到小依次标记为:5B、4B、3B、2B、1B、0B。测试结果见表1。

2、 耐磨性能测试

1)准备3份RKF 10K(黄色圆锥体)和1份RKK15P(绿色棱锥体),共15L,加入到振动摩擦设备(ROSLER,型号为R180/530 TE-30,频率为50±0.5Hz,振幅为1.65±0.1mm)研磨槽内;

2)用移液管吸取FC120 10ml至研磨槽内,并加入0.5L水;

3)加入0.5L水到研磨槽内;测试过程中每隔30min加入0.5L水和10ml FC120;

4)将各样品S1-S2及DS1安装在整机上,放入振动摩擦测试设备进行测试,各样品每1小时检查一次,记录符合标准(连续锯齿磨损不超过10mm(锯齿定义:线性磨损区域有两个以上位置宽度在1-1.5mm之间,宽度超过1.5mm不接受);点磨损不超过1.5mm*1.5mm;1mm*1mm~1.5mm*1.5mm不超过2个;1mm*1mm以下不计)的最长时间。测试结果见表1。

3、 耐刮擦性能测试

用专用的钢丝绒(钢丝绒型号:#0000,厂家:Bon Star STEEL WOOL)施加1kgf的负载,测试压头面积为2*2cm,以40次/min的速度在样品S1-S2以及DS1表面来回摩擦,记录无明显划痕的最大次数,其中,单程行程为40mm,来回行程记为1次。测试结果见表1。

4、 盐水喷雾试验

在温度为35℃、湿度为90%的密闭环境中,使用pH值为6.8,5wt%的NaCl溶液连续对样品S1-S2以及DS1表面进行盐水喷雾;试验一定时间后,检查样品外观;然后使用38℃的温水进行轻柔的冲洗,并用无尘布擦拭干净,常温放置2小时后检查样品,记录膜层外观无异常、外观无明显变化(如锈蚀、变色及表面处理层剥落等)的最长时间。测试结果见表1。

表1:

通过上述测试结果中可以看出,通过本实用新型获得的光学薄片具有明显提高的附着力和耐腐蚀性能。

在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、 “示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管上面已经示出和描述了本实用新型的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本实用新型的限制,本领域的普通技术人员在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下在本实用新型的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

再多了解一些
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