一种磁屏蔽装置的制作方法

文档序号:13940895阅读:来源:国知局
一种磁屏蔽装置的制作方法

技术特征:

1.一种磁屏蔽装置,用于双摄像头模组,所述双摄像头模组具有第一摄像头模组以及第二摄像头模组,其特征在于,所述磁屏蔽装置包括:

至少一个软磁材料壳体,所述软磁材料壳体位于所述第一摄像头模组与所述第二摄像头模组之间;

其中,所述软磁材料壳体具有空腔。

2.根据权利要求1所述的磁屏蔽装置,其特征在于,当所述磁屏蔽装置设置具有多个所述软磁材料壳体时,多个所述软磁材料壳体依次嵌套,相邻两个所述软磁材料壳体之间具有间隙。

3.根据权利要求1所述的磁屏蔽装置,其特征在于,所述软磁材料壳体为硅钢壳体或是坡莫合金壳体。

4.根据权利要求1所述的磁屏蔽装置,其特征在于,在所述第一摄像头模组与所述第二摄像头模组的连线方向上,所述磁屏蔽装置的厚度大于0.2mm。

5.根据权利要求1所述的磁屏蔽装置,其特征在于,所述第一摄像头模组、所述第二摄像头模组以及所述磁屏蔽装置位于一基板的同一侧;

其中,所述第一摄像头模组以及所述第二摄像头模组均具有永磁体,在垂直于所述基板的方向上,所述磁屏蔽装置的高度不小于所述永磁体的高度。

6.根据权利要求5所述的磁屏蔽装置,其特征在于,所述基板上固定有支架,所述支架具有用于容纳第一摄像头模组的第一腔室以及用于容纳第二摄像头模组的第二腔室;

其中,所述磁屏蔽装置固定在所述支架上。

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