显示装置及显示装置的制造方法与流程

本发明关于一种显示装置及显示装置的制造方法。

背景技术：

专利文献1公开了在透明树脂基板与无机功能层(阻气层，sio2等)之间设置含有金属氧化物纳米粒子含有层(tio2)的构成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本国公开专利公报“特开2011-150803号(2011年8月4日公开)”

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题

柔性显示装置(以下，简称为“显示装置”)被激光切割，并且容易从切割面产生裂纹。当切割面暴露于外部空气时，随着时间的经过，产生的裂纹进展到显示装置的内部。当氧气、水分通过裂纹侵入到显示装置内部时，可能会出现显示缺陷。

用于解决技术问题的技术方案

本发明一形态涉及的显示装置，所述显示装置包括显示区域以及形成在所述显示区域的外侧的非显示区域即边框区域，在所述边框区域中，至少依次层叠柔性基板和防湿层，且在所述柔性基板和所述防湿层之间进一步设置金属氧化膜。

本发明一形态涉及的显示装置的制造方法，所述显示装置包括显示区域以及形成在所述显示区域外侧的非显示区域即边框区域，在所述边框区域中，至少依次层叠柔性基板和防湿层，在所述柔性基板和所述防湿层之间进一步设置金属氧化膜，在所述边框区域的切割面中，不需要的部分通过激光切割作为所述显示装置。

有益效果

根据本发明一形态，能够保护柔性基板的同时，防止裂纹的产生以及裂纹进展到显示面板内部。

附图说明

图1是表示本发明实施的一形态的显示装置的截面的结构的截面图。

图2是比较构成上述显示装置的各构成要素的材质、线性膨胀系数以及线性膨胀系数比的图。

图3是表示金属氧化膜的形成方法的变更的图。

图4是表示金属氧化膜的形成方法的一示例的图。

图5是表示金属氧化膜的形成方法的另一示例的图。

图6是表示金属氧化膜的形成方法的又一示例的图。

图7是表示金属氧化膜的形成方法的又一示例的图。

具体实施方式

显示装置10(柔性面板)包括图1的(a)所示的边框区域pf和图1的(b)所示的显示区域da。边框区域pf是形成在显示区域da的外侧的非显示区域。边框区域pf包围显示区域da。

如图1的(a)所示，在显示装置10的边框区域pf中，依次层叠层压层1、柔性基板2、金属氧化膜3、防湿层4和层压层5。层压层1和层压层5由pet(聚对苯二甲酸乙二酯)和粘接剂构成。本实施方式的柔性基板2的构成材料是聚酰亚胺。在本实施方式中，金属氧化膜3由氧化钛(tio2)构成。

防湿层4可以由例如通过cvd(chemicalvapordeposition，化学气相沉积)法形成的氧化硅(siox)膜或氧化硅(siox)膜和氮化硅(sinx)膜的层叠膜构成。

接着，在图1的(b)所示的显示区域da中，与边框区域pf的不同点在于，半导体层6和发光元件层7按这个顺序层叠在防湿层4和层压层5之间。

半导体层6由薄膜晶体管层[tft(thinfilmtransistor)]构成。此外，尽管在本实施方式中，发光元件层7是包括oled(organiclightemittingdiode：有机发光二极管)作为电气光学元件的有机el层，但是发光元件层7不限定于此。例如，发光元件层7也可以构成为由包括无机发光二极管作为电气光学元件的无机el层或包括qled(quantumdotlightemittingdiode:量子点发光二极管)作为电气光学元件的qled层构成。另外，上述有机el层容易因裂纹引起的防湿性降低。

在边框区域pf的切割面中，通过激光将作为柔性面板(显示装置10)不需要的部分切割而形成柔性面板(显示装置10)。重要的部分是例如耳朵的部分、角部的圆角面、凹口部、照相机孔。等。

层压层1和层压层5通过加热熔化，柔性基板2通过烧蚀切割。但是，由于由siox、sinx等构成的防湿层4耐热性强而不熔化，因此被在柔性基板2的烧蚀时产生的气体的压力等切割。

因此，防湿层4易于在切割面产生裂纹。当切割面暴露于外部空气(空气、湿气)时，产生的裂纹随着时间的经过而进展到面板内部。

图2表示柔性面板所使用的材料与线性膨胀系数(或线性膨胀系数比)的关系。线性膨胀系数比是某种材料的线性膨胀系数相对于绝缘层(防湿层4等)的线性膨胀系数之比。如同图所示，金属氧化膜3的线性膨胀系数大于防湿层4的线性膨胀系数，并且小于柔性基板2的线性膨胀系数。

另外，金属氧化膜3的构成材料也可以不是氧化钛，但优选线性膨胀系数在柔性基板2与防湿层4之间。

在以往的切割面中，由于在柔性基板2(pi：聚酰亚胺)和防湿层4(siox、sinx)之间不存在金属氧化膜3，因此，防湿层4与柔性基板2相邻。由于柔性基板2与防湿层4之间的线性膨胀系数的差非常大，通过激光加热时容易产生裂纹，并且随着时间的经过，裂纹容易进展到面板内部。

因此，在本实施方式的柔性面板中，通过在柔性基板2与防湿层4之间设置金属氧化膜3，该金属氧化膜3的线性膨胀系数比较接近于防湿层4的线性膨胀系数，能够防止在切割面产生裂纹和进展到面板内部。

金属氧化膜3的厚度优选为100nm～300nm左右。当金属氧化膜3的厚度为1μm以上时，在金属氧化膜3产生的裂纹可能会传播到防湿层4。

另外，为了防止因切割引起在防湿层4产生裂纹，如图1的(a)所示，通过蚀刻等去除切割面附近的防湿层4。即，优选地，在边框区域pf中，防湿层4的端面的形成位置比边框区域pf的端面(显示装置10的端面)的形成位置更偏移显示区域da侧。此外，优选地，金属氧化膜3的端面的形成位置与边框区域pf的端面的形成位置相互对齐。

另外，不限定于上述的形态，在边框区域pf中，防湿层4的端面的形成位置、金属氧化膜3的端面的形成位置以及边框区域pf的端面的形成位置也可以相互对齐。

如图1的(b)所示，也可以在显示区域da设置金属氧化膜3。此外，也可以相反地在显示区域da不设置金属氧化膜3。

此外，金属氧化膜3也可以设置在显示区域da的周缘的一部分上。进一步地，金属氧化膜3也可以设置在从边框区域pf的端面的形成位置向显示区域da侧偏移1mm以内的位置。

另外，如果不存在金属氧化膜3，则柔性基板2露出，因此，当剥离层压层5时，可能会发生柔性基板2被剥离等缺陷，但是，金属氧化膜可以起到保护柔性基板2的作用。因此，金属氧化膜3起到保护柔性基板2和防止裂纹产生/进展的两个作用。

接着，将基于图3说明柔性面板中的金属氧化膜3的形成图案的变化。如图3的(a)所示，柔性面板由边框区域pf、显示区域da和端子区域ta构成。在图3的(b)中，示出了在边框区域pf、显示区域da和端子区域ta的整个表面形成金属氧化膜3的示例。

在图3的(c)中，示出了在边框区域pf和端子区域ta的整个表面形成金属氧化膜3，但是在显示区域da未形成金属氧化膜3的示例。在图3的(d)中，示出了在边框区域pf的整个表面和端子区域ta的一部分形成金属氧化膜3，但在显示区域da未形成金属氧化膜3的示例。

在图3的(e)中，示出了在边框区域pf和端子区域ta的整个表面上形成金属氧化膜3，并且在显示区域da的周缘的一部分上形成金属氧化膜3的示例。

接着，将基于图4～图7说明在载体基板(母基板)上的金属氧化膜3的形成图案的变化。在图4所示的示例中，以覆盖切割线的方式在载体基板上形成金属氧化膜3。

这样，也可以以覆盖多条切割线的方式形成金属氧化膜3。此外，也可以在除了显示区域da以外的边框区域pf、被切掉(不保留在最终产品)的耳朵eg的部分、弯折部形成金属氧化膜3。即，在显示装置10的弯折部中，至少依次层叠柔性基板2和防湿层4，也可以在柔性基板2和防湿层4之间进一步设置金属氧化膜3。

在图5所示的示例中，在显示区域da(特别是中央部)未设置金属氧化膜3。金属氧化膜3设置在因切割而受到裂纹影响的区域。具体地，也可以仅在边框区域pf形成金属氧化膜3，也可以仅在边框区域pf的端部形成金属氧化膜3，也可以仅在边框区域pf和显示区域da的一部分形成金属氧化膜。

在图6所示的示例中，示出了在显示区域da的整个表面未设置有金属氧化膜3，在边框区域pf的一部分和端子区域ta的一部分也形成有未设置金属氧化膜3的区域的示例。

图7示出了在边框区域pf、显示区域da和端子区域ta的整个表面上形成金属氧化膜3的示例。

〔总结〕

包括本实施方式涉及的显示装置的电气光学元件(通过电流控制亮度、透射率的电气光学元件)没有特别限定。作为本实施方式的显示装置，可以例举例如，具备oled作为电气光学元件的有机el(electroluminescence：电致发光)显示器、具备无机发光二极管作为电气光学元件的无机el显示器、具备qled作为电气光学元件的qled显示器等。

〔形态1〕

显示装置包括显示区域以及形成在所述显示区域的外侧的非显示区域即边框区域，在所述边框区域中，至少依次层叠有柔性基板和防湿层，且在所述柔性基板和所述防湿层之间进一步设置有金属氧化膜。

〔形态2〕

根据形态1所述的显示装置，例如，在所述显示区域中，至少依次层叠有柔性基板和防湿层，且在所述柔性基板和所述防湿层之间进一步设置有金属氧化膜，进一步地，在所述防湿层的与所述金属氧化膜相反的一侧设置有半导体层，在所述半导体层的与所述防湿层相反的一侧设置有发光元件层。

〔形态3〕

根据形态1或2所述的显示装置，例如，所述柔性基板包含聚酰亚胺。

〔形态4〕

根据形态1～3中任一项所述的显示装置，例如，所述金属氧化膜包含氧化钛。

〔形态5〕

根据形态1～4中任一项所述的显示装置，例如，所述防湿层包含氧化硅，或者所述防湿层包含氧化硅和氮化硅。

〔形态6〕

根据形态1～5中任一项所述的显示装置，例如，所述金属氧化膜的线性膨胀系数大于所述防湿层的线性膨胀系数，并且小于所述柔性基板的线性膨胀系数。

〔形态7〕

根据形态1～6中任一项所述的显示装置，例如，在所述边框区域中，所述防湿层的端面的形成位置比所述边框区域的端面的形成位置更偏移至所述显示区域侧，并且所述金属氧化膜的端面的形成位置与所述边框区域的端面的形成位置对齐。

〔形态8〕

根据形态1～6中任一项所述的显示装置，例如，在所述边框区域中，所述防湿层的端面的形成位置、所述金属氧化膜的端面的形成位置和所述边框区域的端面的形成位置相互对齐。

〔形态9〕

根据形态1～8中任一项所述的显示装置，例如，所述金属氧化膜设置在所述显示区域。

〔形态10〕

根据形态9所述的显示装置，例如，所述金属氧化膜设置在所述显示区域的周缘的一部分。

〔形态11〕

根据形态10所述的显示装置，例如，所述金属氧化膜设置在从距所述边框区域的端面的形成位置1mm以内到偏移所述显示区域侧的位置。

〔形态12〕

根据形态1～11中任一项所述的显示装置，例如，在所述显示装置的弯折部中，至少依次层叠柔性基板和防湿层，且在所述柔性基板和所述防湿层之间进一步设置金属氧化膜。

〔形态13〕

根据形态2所述的显示装置，例如，所述发光元件层是有机el层。

〔形态14〕

一种显示装置的制造方法，所述显示装置包括显示区域以及形成在所述显示区域外侧的非显示区域即边框区域，在所述边框区域中，至少依次层叠柔性基板和防湿层，在所述柔性基板和所述防湿层之间进一步设置金属氧化膜，在所述边框区域的切割面中，作为所述显示装置不需要的部分通过激光切割。

〔附记事项〕

本发明不限于上述各实施方式，能在权利要求所示的范围中进行各种变更，将不同的实施方式中分别公开的技术手段适当组合得到的实施方式也包含于本发明的技术范围。而且，能够通过组合各实施方式分别公开的技术方法来形成新的技术特征。

附图标记说明

1：层压层

2：柔性基板

3：金属氧化膜

4：防湿层

5：层压层

6：半导体层

7：发光元件层

10：显示装置

da：显示区域

eg：耳朵

pf：边框区域

ta：端子区域