高温电热膜的制备工艺的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及高温电热膜制备工艺领域，具体涉及一种高温电热膜的制备工艺。
【背景技术】
[0002]半导体电热膜(SemiconductorElectroheafing Film，简称 SE1-1F)，又称金属氧化物电热膜，是一种极具应用潜力的电热膜，它本身具有自限温特性，能保证各处的温度均匀，避免出现温度不均的现象。成为安全的“智能”型发热材料。与传统的发热材料相比，具有熔点高、硬度大、电阻低、热效率高、化学稳定性好的特点，低温电热膜的研宄已经相当成熟，但是高温电热膜的研宄特别是热转化的研宄较少，因此寻找易行的合成方式对进一步研宄电热膜的各种性能具有重要意义。
【发明内容】
[0003]为解决上述问题，本发明提供了一种高温电热膜的制备工艺，采用高温固相法，以石英玻璃为基材制备四氧化锡电热膜。
[0004]为实现上述目的，本发明采取的技术方案为:
[0005]高温电热膜的制备工艺，包括如下步骤:
[0006]S1、取酒精10ml置于锥形瓶中，加热至80°C，加入17.529g的四氯化锡和0.57g三氯化锑密闭，在80°C恒温下搅拌一个小时；
[0007]S2、将步骤SI所得的溶液静置2个小时后，使用匀胶机石英基片上以5.0kr/min的速度匀胶镀膜15-20层，完成镀膜后，自然降温至室温，沉积胶体；
[0008]S3、将步骤S2所得的石英基片置于气氛高温炉内，450°C，烧结4小时后，既得成品O
[0009]本发明具备以下有益效果:可以在较低的温度条件下制备薄膜，可以准确的控制掺杂物的量，并且在制备较大面积的31!02薄膜的时候是别的方法所无法比拟的；所制备的薄膜结构较致密，微晶发育完好，能制得结晶性能性能稳定，热转化率高的电热膜。
【附图说明】
[0010]图1为本发明实施例中所制备的薄膜结构在温度450°C下的XRD图谱。
【具体实施方式】
[0011]为了使本发明的目的及优点更加清楚明白，以下结合实施例对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0012]实施例1
[0013]S1、取酒精10ml置于锥形瓶中，加热至80°C，加入17.529g的四氯化锡和0.57g三氯化锑密闭，在80°C恒温下搅拌一个小时；
[0014]S2、将步骤SI所得的溶液静置2个小时后，使用匀胶机石英基片上以5.0kr/min的速度匀胶镀膜15层，完成镀膜后，自然降温至室温，沉积胶体；
[0015]S3、将步骤S2所得的石英基片置于气氛高温炉内，450°C，烧结4小时后，既得成品O
[0016]实施例2
[0017]取酒精10ml置于锥形瓶中，加热至80°C，加入17.529g的四氯化锡和0.57g三氯化锑密闭，在80°C恒温下搅拌一个小时；
[0018]S2、将步骤SI所得的溶液静置2个小时后，使用匀胶机石英基片上以5.0kr/min的速度匀胶镀膜20层，完成镀膜后，自然降温至室温，沉积胶体；
[0019]S3、将步骤S2所得的石英基片置于气氛高温炉内，450°C，烧结4小时后，既得成品O
[0020]实施例3
[0021]取酒精10ml置于锥形瓶中，加热至80°C，加入17.529g的四氯化锡和0.57g三氯化锑密闭，在80°C恒温下搅拌一个小时；
[0022]S2、将步骤SI所得的溶液静置2个小时后，使用匀胶机石英基片上以5.0kr/min的速度匀胶镀膜18层，完成镀膜后，自然降温至室温，沉积胶体；
[0023]S3、将步骤S2所得的石英基片置于气氛高温炉内，450°C，烧结4小时后，既得成品O
[0024]经检测，实施例1-3所得的薄膜结构在温度450°C下的XRD图谱如图1所示。
[0025]本发明可以在较低的温度条件下制备薄膜，可以准确的控制掺杂物的量，并且在制备较大面积的SnCV薄膜的时候是别的方法所无法比拟的；所制备的薄膜结构较致密，微晶发育完好，能制得结晶性能性能稳定，热转化率高的电热膜。
[0026]以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.高温电热膜的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤: s1、取酒精10ml置于锥形瓶中，加热至80°C，加入17.529g的四氯化锡和0.57g三氯化锑密闭，在80°C恒温下搅拌一个小时； s2、将步骤SI所得的溶液静置2个小时后，使用匀胶机石英基片上以5.0kr/min的速度匀胶镀膜15-20层，完成镀膜后，自然降温至室温，沉积胶体； s3、将步骤S2所得的石英基片置于气氛高温炉内，450°C，烧结4小时后，既得成品。
【专利摘要】本发明公开了一种高温电热膜的制备工艺，包括如下步骤：取酒精100ml置于锥形瓶中，加热至80℃，加入17.529g的四氯化锡和0.57g三氯化锑密闭，在80℃恒温下搅拌一个小时；静置2个小时后，使用匀胶机石英基片上以5.0kr/min的速度匀胶镀膜15-20层，完成镀膜后，自然降温至室温，沉积胶体；将所得的石英基片置于气氛高温炉内，450℃，烧结4小时后，既得成品。本发明所制备的电热膜性能稳定，热转化率高。
【IPC分类】H05B3-34
【公开号】CN104837224
【申请号】CN201510161959
【发明人】徐敏
【申请人】西南民族大学
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年4月4日