除胶渣处理装置的制造方法
【专利摘要】本发明的目的是提供一种即使排列配置的多个紫外线灯(21)的相互邻接的紫外线灯(21)的间距(P)大，也能够以高处理效率均匀地处理布线基板材料(1)的除胶渣处理装置(10)。本发明的除胶渣处理装置的特征在于，具备：多个紫外线灯(21)，沿布线基板材料(1)被处理面(1a)排列配置；板状的光透射性窗部件(31)；以及处理用气体供给机构，布线基板材料(1)被配置在处理用气体供给机构的气体供给口(15a)与气体排出口(16a)之间的位置，在形成于布线基板材料(1)与光透射性窗部件(31)之间的空间中，处理用气体沿多个紫外线灯(21)排列的方向流动，并形成该处理用气体的层流。
【专利说明】
除胶渣处理装置
技术领域
[0001] 本发明设及除胶渣(desmear)处理装置。更详细地讲，本发明设及去除绝缘层和导 电层被层叠而成的板状的布线基板材料中的胶渣（除胶渣）的处理中所使用的除胶渣处理 装置。
【背景技术】
[0002] 现在，作为进行绝缘层和导电层被层叠而成的板状的布线基板材料中的胶渣去除 处理即除胶渣处理的方法，已知有利用紫外线的干洗浄方法。并且，作为用于通过该方法进 行处理的除胶渣处理装置，提出了将准分子灯等的放射真空紫外线的紫外线灯作为紫外线 光源使用的技术(例如参照专利文献1)。该除胶渣处理装置为利用由真空紫外线生成的活 性种(具体而言，例如臭氧W及氧自由基)的装置。
[0003] 运种除胶渣处理装置的某一种被设为如下结构，经由光透射性窗部件对例如包含 氧气的处理用气体的气氛下所配置的布线基板材料的被处理面照射来自放射真空紫外线 的紫外线灯的光。
[0004] 在该除胶渣处理装置中，来自紫外线灯的紫外线经由光透射性窗部件向被处理面 放射，从而通过到达该被处理面的紫外线、W及由紫外线生成的活性种进行该被处理面的 处理。并且，利用多个紫外线灯作为紫外线光源，将运些多个紫外线灯W-定间隔并列排 列，使被处理面上的紫外线分布均匀，由此，能够W高处理效率均匀地处理布线基板材料。
[0005] 但是，在除胶渣处理装置中，为了削减装置制造成本W及处理成本，要求减少作为 紫外线光源利用的紫外线灯的个数。因此，作为除胶渣处理装置，即使构成紫外线光源的紫 外线灯的个数少的情况下，也要求W高的处理效率均匀地处理布线基板材料。
[0006] W往技术文献
[0007] 专利文献
[000引专利文献1:日本特开平8-180757号公報
【发明内容】
[0009] 发明所要解决的技术问题
[0010] 本发明即是基于W上的事实而做出的，其目的在于提供一种即使排列配置的多个 紫外线灯的相互邻接的紫外线灯的间距大时也能够W高处理效率均匀地处理布线基板材 料的除胶渣处理装置。
[0011] 用于解决技术问题的手段
[0012] 本发明的除胶渣处理装置，具备：
[0013] 多个紫外线灯，对层叠绝缘层和导电层而成的板状的布线基板材料的被处理面照 射紫外线，上述多个紫外线灯沿该被处理面排列配置；
[0014] 板状的光透射性窗部件，在上述布线基板材料和上述多个紫外线灯之间与该布线 基板材料平行地配置，上述板状的光透射性窗部件透射来自该紫外线灯的紫外线；W及
[0015] 处理用气体供给机构，从气体供给口对形成在上述布线基板材料与上述光透射性 窗部件之间的空间供给包含用于生成活性种的活性种源在内的处理用气体，并将在该空间 流动过的气体从气体排出口排出，
[0016] 该除胶渣处理装置的特征在于，
[0017] 上述布线基板材料被配置在上述处理用气体供给机构的气体供给口与气体排出 口之间的位置，
[0018] 在形成于上述布线基板材料与上述光透射性窗部件之间的空间中，处理用气体沿 上述多个紫外线灯排列的方向流动，并形成该处理用气体的层流。
[0019] 在本发明的除胶渣处理装置中，优选上述布线基板材料与上述光透射性窗部件之 间的间距为1mmW下，在该布线基板材料与该光透射性窗部件之间所形成的的空间流动的 处理用气体的气体流速为1~500mm/sec。
[0020] 在本发明的除胶渣处理装置中，优选在形成于上述布线基板材料与上述光透射性 窗部件之间的空间与上述气体供给口之间的位置，设置有压力缓和空间。
[0021] 发明的效果
[0022] 在本发明的除胶渣处理装置中，在布线基板材料的被处理面上，处理用气体沿多 个紫外线灯排列的方向流动，形成该处理用气体的层流。因此，在被处理面上，处理用气体 的气体流速分布能够得到高均匀性。并且，通过紫外线生成的活性种通过处理用气体的流 动而朝向处理用气体的流动方向下游侧移动。其结果，即使因多个紫外线灯的相互邻接的 紫外线灯的间距大而在被处理面产生了来自紫外线灯的紫外线的照度分布不均，也能够W 高处理效率均匀地处理布线基板材料。
【附图说明】
[0023] 图1是表示本发明的除胶渣处理装置的结构的一例中的与构成该除胶渣处理装置 的紫外线灯的管轴方向垂直的方向的剖面的说明用剖面图。
[0024] 图2是表示构成图1的除胶渣处理装置的多个紫外线灯的排列状态的说明图。
【具体实施方式】
[0025] W下，对本发明的实施方式进行说明。
[0026] 图1是表示本发明的除胶渣处理装置的结构的一例中的与构成该除胶渣处理装置 的紫外线灯的管轴方向垂直的方向的剖面的说明用剖面图。图2是表示构成图1的除胶渣处 理装置的多个紫外线灯的排列状态的说明图。
[0027] 除胶渣处理装置10是将绝缘层和导电层被层叠而成的板状的布线基板材料1作为 被处理物处理的装置。
[0028] 在布线基板材料1中，绝缘层通过树脂构成，所述树脂含有由无机物构成的填充 物。运里，作为构成绝缘层的树脂，能够使用环氧树脂、双马来酷亚胺Ξ嗦(BT)树脂、聚酷亚 胺树脂、聚醋树脂等。并且，作为构成绝缘层的填充物的材料能够使用二氧化娃、氧化侣、云 母、娃酸盐、硫酸领、氨氧化儀、氧化铁等。
[0029] 并且，作为构成导电层的材料能够使用铜、儀、金等。
[0030] 在该图的例子中，布线基板材料1具有大致矩形平板状的形状。
[0031] 除胶渣处理装置10具备具有大致长方体状的外观形状的框体11。在该框体11的内 部，在上方侧配置有多个（图例中为5个)棒状的紫外线灯21，在下方侧配置有保持装置。该 保持装置具有配置布线基板材料1的长方体状的被处理物支承台18。并且，在多个紫外线灯 21与被处理物支承台18之间配置有矩形平板状的光透射性窗部件31，W将框体11的内部空 间划分为上下。该光透射性窗部件31相对于框体11的上壁部11AW及下壁部11B和被处理物 支承台18的被处理物载置面18a平行配置。运样，在框体11的内部，通过位于光透射性窗部 件31的上方侧的大致长方体状的密闭的空间形成灯室R，并且通过位于光透射性窗部件31 的下方侧的大致长方体状的密闭的空间形成处理室S。
[0032] 在该图的例子中，在框体11上遍及由四个侧壁部构成的内周面的整周而设置有向 内侧突出的窗部件支持部13。并且，光透射性窗部件31通过该窗部件支持部13被气密地支 承，由此形成光透射性窗部件31的气密结构。
[0033] 被处理物支承台18的被处理物载置面18a被设为平坦面，且具有比布线基板材料1 大的纵横尺寸。
[0034] 该被处理物支承台18配置在框体11的下壁部11B上，并成为与光透射性窗部件31 隔开间隔并对置的状态。
[0035] 并且，被处理物载置面l&i上形成有有效处理区域，该有效处理区域为能够通过来 自紫外线灯21的紫外线W及活性种(具体而言例如为臭氧W及氧自由基)对布线基板材料1 进行处理的区域。配置在该有效处理区域的布线基板材料1的被处理面la成为与光透射性 窗部件31隔开间隔而平行的状态，并且成为经由光透射性窗部件31与多个紫外线灯21对置 的状态。
[0036] 并且，在保持装置上设置有沿上下方向驱动被处理物支承台18的驱动机构。通过 该驱动机构使被处理物支承台18上下运动，由此调整布线基板材料1与光透射性窗部件31 之间的间距h。即，在除胶渣处理装置10中，无论布线基板材料1的厚度如何，能够使布线基 板材料1和光透射性窗部件31之间的间距h设为预期的大小。
[0037] 运里，布线基板材料1与光透射性窗部件31之间的间距h优选为1mmW下，更优选为 0.1 ~0.7mm。
[003引通过间距h为1mmW下，在处理室S能够使活性种稳定地生成，并且，能够使到达被 处理面la的来自紫外线灯21的紫外线为充分大的强度(光量）。
[0039] 在灯室R中，多个紫外线灯21沿该被处理物载置面18aW-定间隔排列，W使中屯、 轴在于被处理物载置面18a平行的同一水平面内互相平行地延伸。即，多个紫外线灯21沿被 处理面laW-定间隔排列配置。
[0040] 多个紫外线灯21的配置间隔优选为等间隔。
[0041] 并且，相互邻接的紫外线灯的间距下也称为"灯间距离"）P优选为5~50mm。
[0042] 在该图的例子中，多个紫外线灯21W等间隔排列配置。
[0043] 作为紫外线灯21只要是放射波长为220nmW下的真空紫外线的灯，则能够根据布 线基板材料1的种类，使用公知的各种灯。具体而言，作为紫外线灯21，能够例示出放射中屯、 波长为172nm的真空紫外线的氣准分子灯等。
[0044] 在该图的例子中，作为紫外线灯21，可W使用向特定方向（图1的下方)照射光的角 型的准分子灯。
[0045] 作为构成光透射性窗部件31的材料可W使用对于从紫外线灯21放射的紫外线具 有透射性且对处理用气体、由紫外线生成的活性种W及通过处理被处理面la而产生的反应 生成气体具有耐性的材料。
[0046] 作为构成光透射性窗部件31的材料的具体例例如可举出石英玻璃。
[0047] 并且，光透射性窗部件31的厚度优选为2~10mm。
[004引并且，在除胶渣处理装置10中设置有向处理室S供给处理用气体的气体供给机构。 气体供给机构在形成在被处理面la与光透射性窗部件31之间的大致矩形状的空间下也 称为"被处理面上空间"）中、朝向多个紫外线灯21排列的方向（图1中的右方向W及图2中的 单点划线的箭头方向）供给处理用气体。即，气体供给机构进行气体供给，W使处理用气体 至少在被处理面上空间中朝向多个紫外线灯21排列的方向W大致直线状流动。并且，在被 处理面上空间中，在一方（图1中的左方)形成上游侧开口，在另一方（图1中的右方)形成下 游侧开口。
[0049] 处理用气体供给机构具备处理用气体供给源(未图示），经由贯通框体11的下壁部 11B的气体供给用贯通孔15W及气体排出用贯通孔16,使处理室S流动处理用气体。处理用 气体供给源经由气体流路形成部件25与气体供给用贯通孔15连接，通过该气体流路形成部 件25形成气体供给用气体流路。并且，气体排出用贯通孔16上连接有气体流路形成部件26， 在通过该气体流路形成部件26形成的气体排出用气体流路中，自发地放出在处理室S流动 过的气体。
[0050] 气体供给用贯通孔15在下壁部11B的内表面的侧壁部11C与被处理物支承台18之 间，具有沿侧壁部11C的延伸方向（图1中的与纸面垂直的方向）配设的横长（日语:横長）的 气体供给口 15a。另一方面，气体排出用贯通孔16在下壁部11B的内表面的侧壁部UE与被处 理物支承台18之间，具有沿侧壁部UE的延伸方向（图1中的与纸面垂直的方向）配设的横长 的气体排出口 16a。并且，气体供给口 15a与气体排出口 16a为了在它们之间的位置配置被处 理物支承台18,而被形成在沿面方向（紫外线灯21的排列方向）相互隔开间隔的位置。即，配 置在被处理物支承台18上的布线基板材料1位于气体供给口 15a与气体排出口 16a之间。
[0051] 运里，气体供给口 15aW及气体排出口 16a可W分别通过一个横长狭缝形成，并且， 也可W由多个孔形成。
[0052] 在该图的例子中，气体供给口 15a W及气体排出口 16a由沿被处理物支承台18伸长 的横长狭缝构成。
[0053] 作为处理用气体，使用含有由从紫外线灯21放射的紫外线生成活性种的活性种源 的气体。运里，作为活性种源例如可W举出氧气W及臭氧气体。
[0054] 作为处理用气体的具体例，例如可W举出氧气、W及氧气与臭氧气体的混合气体 等。在它们之中，从处理时间的缩短的角度出发，优选的是氧气和臭氧气体的混合气体。并 且，处理用气体可W包含水蒸气。
[0055] 处理用气体的活性种源的浓度为50体积％ ^上，优选为88体积％ W上。
[0056] 通过使处理用气体中的活性种源的浓度为上述的范围，能够使由来自紫外线灯21 的紫外线(真空紫外线)生成的活性种的量增多而可靠地进行预期的处理。特别是，在处理 用气体为氧气和臭氧气体的混合气体时，通过氧气的浓度为88体积％ ^上，即臭氧气体的 浓度为12体积％ W下，能够获得高安全性。
[0057]处理用气体供给机构的处理用气体供给条件被确定为，被处理面上空间即在被处 理面la上流动的处理用气体成为沿被处理面la被整流的层流状态。即，处理用气体供给条 件被确定为在被处理面上空间形成有处理用气体的层流。
[005引具体而言，处理用气体供给条件根据布线基板材料1与光透射性窗部件31之间的 间距h，考虑被处理面la的大小、紫外线灯21的种类、处理用气体的种类W及组分等而被适 当地确定。
[0059] 运里，布线基板材料1与光透射性窗部件31之间的间距h为1mmW下的情况下，在被 处理面上空间流动的处理用气体的气体流速优选为1~500mm/sec。
[0060] 运样，当在被处理面上空间中使气体流速为1~500mm/sec时，能够使在被处理面 上空间中流动的处理用气体可靠地成为层流状态。
[0061] 并且，在被处理面上空间中，通过处理用气体的流动，使在位于紫外线灯21的正下 方位置的区域下也称为"灯正下空间"）所生成的活性种的一部分移动至该灯正下空间 的近旁，在该近旁能够有效地用于被处理面la的处理中。具体而言，在灯正下空间生成的一 部分的活性种被移动至与该灯正下空间邻接的、位于相互邻接的紫外线灯21之间的间隙的 正下位置的区域下也称为"灯间正下空间"）。并且，在该灯间正下空间中，被供给到被处 理面la中的与该灯间正下空间相对的区域的处理。
[0062] 并且，在除胶渣处理装置10中，优选在被处理面上空间与气体供给口 15a之间的位 置、具体而言在被处理面上空间的上游侧开口与气体供给口 15a之间的位置，设置压力缓和 空间A。
[0063] 运里，所谓压力缓和空间A是指具有蓄积(reservoir)作用的空间，其用于缓和从 气体供给口 15a导入到处理室S的处理用气体的气体压力，并W-定压力对被处理面上空间 供给处理用气体。并且，该压力缓和空间A与被处理面上空间相比，具有处理用气体容易流 动的大小。
[0064] 通过设有压力缓和空间A，即使被处理面上空间的厚度（图1中上下方向的尺寸） 小，也能够W-定压力对该被处理面上空间供给处理用气体。因此，能够将被处理面上空间 中的处理用气体的气体流速设为预期的范围。
[0065] 并且，在除胶渣处理装置10中，优选在被处理物支承台18上设置加热布线基板材 料1的加热机构(未图示）。
[0066] 通过设置该加热机构，能够伴随被处理面la的溫度上升促进活性种的作用，因此 能够进行高效处理。
[0067] 并且，在被处理物支承台18中，由于被处理物载置面18a的纵横尺寸比布线基板材 料1的纵横尺寸大，因此能够均匀地加热被处理面la。
[0068] 基于加热机构的加热条件为，被处理物载置面l&i的溫度例如为100~150°C的条 件。
[0069] 并且，在除胶渣处理装置10中，优选在灯室R设置例如清除氮气等惰性气体的惰性 气体清除机构(省略图示）。
[0070] 通过设置该惰性气体清除机构，能够W高效从光透射性窗部件31出射来自紫外线 灯21的紫外线（真空紫外线）。即，在灯室R中，能够防止来自紫外线灯21的紫外线被构成灯 室R的气氛的气体吸收。
[0071] 在运种结构的除胶渣处理装置10中，经由光透射性窗部件31对配置在处理用气体 气氛下的布线基板材料1的被处理面la照射来自紫外线灯21的紫外线，从而进行布线基板 材料1的表面处理。
[0072] 具体说明的话，从气体供给口 15aW预期的气体供给条件对配置有布线基板材料1 的处理室S供给处理用气体(具体而言为氧气）。运样，不间断地对处理室S供给处理用气体， 由此，处理室S成为处理用气体氛围。并且，通过使在灯室R并排配置的多个紫外线灯21同时 点灯，从而来自该多个紫外线灯21的紫外线经由光透射性窗部件31朝向被处理面la放射。 由此，通过到达被处理面la的紫外线、W及由紫外线生成的活性种(具体而言为臭氧W及氧 自由基），进行被处理面la的处理。并且，在处理室S中，在该处理用气体在处理室S流动的过 程，在从气体供给口 15a供给的处理用气体中混入了通过处理被处理面la而产生的反应生 成气体(具体而言例如二氧化碳气体）。然后，混入了该反应生成气体的气体被从气体排出 口 16a排出到处理室S的外部。
[0073] 在图1中，由箭头表示除胶渣处理装置10内的气体的流动方向。
[0074] 而且，在除胶渣处理装置10中，在被处理面上空间中，处理用气体沿多个紫外线灯 21排列的方向流动，并形成该处理用气体的层流。因此，在被处理面上空间中，处理用气体 的气体流速分布能够获得高均匀性。并且，由紫外线生成的活性种通过处理用气体的流动 而朝向处理用气体的流动方向下游侧、即与紫外线灯21的管轴垂直的一方向移动。结果，即 使因灯间距离P大，在被处理面la,来自紫外线灯21的紫外线的照度分布产生了不均匀，也 能抑制与紫外线照度大的灯正下空间相对的区域的处理效率、和与紫外线照度小的灯间正 下空间相对的区域的处理効率之间产生差。即，能够高效且短时间处理被处理面la。
[0075] 具体说明的话，在除胶渣处理装置10中，在由于灯间距离P大而在被处理面la产生 了紫外线的照度分布不均的情况下，当然在被处理面la,到达与灯间正下空间相对的区域 的紫外线的照射量小于到达与灯正下空间相对的区域的紫外线的照射量。并且，在被处理 面上空间中，在灯间正下空间生成的活性种的生成量比在灯正下空间生成的活性种的生成 量小。然而，在被处理面上空间中，通过具有高气体流速分布均匀性的处理用气体的流动， 能够使在灯正下空间生成的活性种的一部分移动到位于该灯正下空间的处理用气体的流 动方向下游侧位置的灯间正下空间。因此，能够抑制在灯正下空间与灯间正下空间产生活 性种的浓度差，因此，能够实现被处理面上空间的活性种的浓度均匀化。其结果，由于能够 抑制在被处理面la上供给到与灯间正下空间相对的区域的处理中的活性种的量小于供给 到与灯正下空间相对的区域的处理中的活性种的量的情况，因此能够抑制在与灯间正下空 间相对的区域的处理中需要长时间的情况。
[0076] 因此，根据除胶渣处理装置10,在多个紫外线灯21的灯间距离P大时，即使到达被 处理面la中的与灯间正下区域相对的区域的紫外线的照射量变小，也能够抑制因灯间距离 P大而供给到该区域的活性种的量变小。其结果，能够W高处理效率均匀地处理布线基板材 料1。
[0077] 并且，在除胶渣处理装置10中，将布线基板材料1与光透射性窗部件31之间的间距 h设为1mmW下，并且将被处理面上空间的气体流速设为1~500mm/sec，由此在该被处理面 上空间中形成处理用气体的层流。由此，能够W更高的处理效率均匀地处理布线基板材料 1〇
[007引具体说明的话，布线基板材料1与光透射性窗部件31之间的间距h为1mmW下、比较 小，因此，到达被处理面la的紫外线成为充分大的強度(光量），并在被处理面上空间中稳定 地生成活性种。
[0079] 并且，由于被处理面上空间的气体流速为1~500mm/sec、比较小，因此，在该被处 理面上空间中，在处理用气体的流动方向上游侧（图1的左侧)所生成的活性种不会向下游 侦U(图1中的右侧)较大移动。因此，在被处理面la,能够充分抑制位于处理用气体的流动方 向上游侧位置的部分与位于下游侧的部分相比处理不充分。而且，使在灯正下空间生成的 活性种的一部分向与该灯正下空间邻接的灯间正下空间移动，从而能够有效地利用到被处 理面la中的与该灯间正下空间相对的区域的处理中。
[0080] 本发明的光源装置W及除胶渣处理装置并不限定于上述实施方式，能够加入各种 变更。
[0081] 例如，除胶渣处理装置可W不为图1所示那样被处理物支承台向上下方向运动。
[0082] 并且，除胶渣处理装置并不限于图1所示那样使布线基板材料水平(横向）地进行 搬送的结构，也可W为使布线基板材料垂直(纵向）地进行搬送的结构。
[0083] 并且，除胶渣处理装置并不限于如图1所示那样对布线基板材料的一面照射紫外 线的结构，也可W为对布线基板材料的两面照射紫外线的结构。
[0084] 并且，处理用气体供给机构只要是在被处理面上空间中，W处理用气体沿多个紫 外线灯排列的方向流动并形成该处理用气体的层流的方式，供给处理用气体即可。具体而 言，在例如图1所设及的除胶渣处理装置中，可W为将气体供给口 W及气体排出口设置于相 互对置的侧壁部上的结构。
[0085] 实施例
[0086] W下，对本发明的具体的实施例进行说明，但是本发明并不限于运些实施例。
[0087] 读施例U
[0088] 按照图1的结构，制作出具备5个紫外线灯（21)的除胶渣处理装置下，也称为 "除胶渣处理装置(Α1Γ)。在该除胶渣处理装置(A1)中，处理用气体沿多个紫外线灯(21)排 列的方向、即与紫外线灯(21)的管轴方向垂直的方向下也称为"灯垂直方向"）流动。
[0089] 并且，在除胶渣处理装置(A1)中，作为紫外线灯(21)使用了灯宽为70mm、放射中屯、 波长为172nm的真空紫外线的氣准分子灯。而且，W灯间距(P)为14mm的的方式等间隔配置5 个紫外线灯(21)。并且，作为处理用气体使用了氧气。而且，W使光透射性窗部件(31)与布 线基板材料(1)之间的空间的气体流速为5mm/sec的方式供给了处理用气体。
[0090] 首先，在制做出的除胶渣处理装置(A1)的处理室(S)中，W与光透射性窗部件(31) 的间距化)为0.5mm的方式，配置了纵横尺寸为600mmX500mm且层叠绝缘层与导电层而成的 矩形板状的布线基板材料（1)。之后，从气体供给口（15a)对处理室(S)供给氧气。然后，在布 线基板材料(1)与光透射性窗部件(31)之间的空间形成了处理用气体的层流。
[0091] 接着，在处理室(S)成为氧气气氛后，继续从气体供给口（15a)供给氧气，并同时点 灯5个紫外线灯(21)，由此对布线基板材料(1)进行除胶渣处理。
[0092] 在该除胶渣处理中，测量了光透射性窗部件(31)的光出射面（图1中的下面）中的、 位于紫外线灯(21)的正下的区域的照度下也称为"灯正下照度及位于相互邻接的 紫外线灯(21)之间的间隙下也称为"灯间隙"）的正下的区域的照度下也称为"灯间 正下照度"）。并且，测量了处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的正下的 区域所需的时间。将结果表示在表1中。
[0093] 〔比较例1)
[0094] 制作出除了处理用气体沿与多个紫外线灯(21)排列的方向垂直的方向、即紫外线 灯(21)的管轴方向下也称为"灯平行方向"）流动W外与除胶渣处理装置(A1)具有同样 结构的比较用的除胶渣处理装置下也称为"比较用除胶渣处理装置(Bin。
[00M]通过制作出的比较用除胶渣处理装置(B1)，通过与实施例1相同的条件进行了除 胶渣处理。并且，测量了光透射性窗部件(31)的光出射面的灯正下照度W及灯间正下照度。 并且，测量了用于处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的正下的位置的 区域所需的时间。将结果表示在表1中。
[0096] 读施例2)
[0097] 制作出除了按照表1变更了灯间距(P)W外与除胶渣处理装置(A1)具有同样结构 的除胶渣处理装置（W下也称为"除胶渣处理装置(Α2Γ )。
[0098] 利用制作出的除胶渣处理装置(A2)，通过与实施例1同样的条件进行了除胶渣处 理。在该除胶渣处理中，在布线基板材料（1)与光透射性窗部件(31)之间的空间形成有处理 用气体的层流。然后，测量了光透射性窗部件（31)的光出射面的灯正下照度W及灯间正下 照度。并且，测量用于处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的正下的位置 的区域所需的时间。将结果表示在表1中。
[0099] 〔比较例2)
[0100] 制作出除了处理用气体沿灯平行方向流动W外与除胶渣处理装置(A2)具有相同 结构的比较用的除胶渣处理装置下也称为"比较用除胶渣处理装置(Β2Γ)。
[0101] 利用制作出的比较用除胶渣处理装置(B2)，通过与实施例2同样的条件进行了除 胶渣处理。并且，测量了光透射性窗部件(31)的光出射面的灯正下照度W及灯间正下照度。 并且，测量了用于处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的正下的位置的 区域所需的时间。将结果表示在表1中。
[0102]
[0103]根据表1的结果，显而易见，根据实施例及实施例2所设及的除胶渣处理装置， 能够缩短被处理面中的与灯间正下空间相对的区域的处理所需的时间。并且显而易见，实 施例2所设及的除胶渣处理装置相比实施例1所设及的除胶渣处理装置，灯间距(P)大，但是 与灯间正下空间相对的区域的处理所需的时间与实施例1所设及的除胶渣处理装置大致相 同。
[0104] 另一方面，在比较例IW及比较例2所设及的除胶渣处理装置中，为了处理被处理 面中的与灯间正下空间相对的区域，需要较长的时间。并且，比较例2所设及的除胶渣处理 装置相比比较例1所设及的除胶渣处理装置灯间距(P)大，因此相比比较例1所设及的除胶 渣处理装置，与灯间正下空间相对的区域的处理所需的时间变得相当长。
[0105] 因此可确认，根据本发明的除胶渣处理装置，能够W高处理效率均匀地处理布线 基板材料。
[0106] 〔实施例3)
[0107] 制作出除了使光透射性窗部件(31)与布线基板材料(1)之间的空间的处理用气体 的气体流速为表2所示的气体流速W外与除胶渣处理装置(A1)具有同样结构的除胶渣处理 装置（W下也称为"除胶渣处理装置(Α3Γ )。
[0108] 首先，在制作出的除胶渣处理装置(A3)的处理室(S)中，W与光透射性窗部件(31) 之间的间距化)为0.5mm的方式配置纵横尺寸为600mmX500mm且层叠绝缘层和导电层而成 的板状的布线基板材料(1)。之后，从气体供给口（15a)对处理室(S)供给氧气。然后，在布线 基板材料(1)与光透射性窗部件(31)之间的空间形成处理用气体的层流。
[0109] 接着，在处理室(S)成为氧气气氛后，继续从气体供给口（15a)供给氧气，并同时点 亮5个紫外线灯(21)，由此对布线基板材料(1)进行除胶渣处理。
[0110] 在该除胶渣处理中测量了光透射性窗部件(31)的光出射面中的灯正下照度W及 灯间正下照度。并且，测量了用于处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的 正下的位置的区域所需的时间。将结果表示在表2中。
[0111] 〔比较例3)
[0112] 制作出除了处理用气体沿灯平行方向流动W外与除胶渣处理装置(A3)具有同样 结构的比较用的除胶渣处理装置下也称为"比较用除胶渣处理装置(Β3Γ)。
[0113] 利用制作出的比较用除胶渣处理装置(B3)，通过与实施例3相同的条件进行了除 胶渣处理。然后测量了光透射性窗部件（31)的光出射面中的灯正下照度W及灯间正下照 度。并且测量了用于处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的正下的位置 的区域所需的时间。并将结果表示在表2中。
[0114] 〔实施例4)
[0115] 制作出除了使光透射性窗部件(31)与布线基板材料(1)之间的空间的气体流速为 表2所示的气体流速W外与除胶渣处理装置(A3)具有同样结构的除胶渣处理装置下也 称为"除胶渣处理装置(Α4Γ)。
[0116] 利用制作出的除胶渣处理装置(A4)，通过与实施例3同样的条件进行了除胶渣处 理。在该除胶渣处理中，在布线基板材料（1)与光透射性窗部件(31)之间的空间形成了处理 用气体的层流。然后测量了光透射性窗部件(31)的光出射面中的灯正下照度W及灯间正下 照度。并且测量了用于处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的正下的位 置的区域所需的时间。并将结果表示在表2中。
[0117] 〔比较例4)
[0118] 制作出除了处理用气体在灯平行方向流动W外与除胶渣处理装置(A4)具有同样 结构的比较用的除胶渣处理装置（W下也称为"比较用除胶渣处理装置(Β4Γ )。
[0119] 利用制作出的比较用除胶渣处理装置(B4)，通过与实施例4同样的条件进行了除 胶渣处理。然后测量了光透射性窗部件（31)的光出射面中的灯正下照度W及灯间正下照 度。并且测量了用于处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的正下的位置 的区域所需的时间。并将结果表示在表2中。
[0120] 〔实施例引
[0121] 制作出除了使光透射性窗部件(31)与布线基板材料(1)之间的空间的气体流速为 表2所示的气体流速W外与除胶渣处理装置(A3)具有同样结构的除胶渣处理装置下也 称为"除胶渣处理装置(Α5Γ)。
[0122] 利用制作出的除胶渣处理装置(A5)，通过与实施例3同样的条件进行了除胶渣处 理。在该除胶渣处理中，在布线基板材料（1)与光透射性窗部件(31)之间的空间中形成了处 理用气体的层流。然后测量了光透射性窗部件(31)的光出射面中的灯正下照度W及灯间正 下照度。并且测量了用于处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的正下的 位置的区域所需要的时间。并将结果表示在表2中。
[0123] 〔比较例引
[0124] 制作出除了处理用气体沿灯平行方向流动W外与除胶渣处理装置(A5)具有同样 结构的比较用的除胶渣处理装置下也称为"比较用除胶渣处理装置(Β5Γ)。
[0125] 利用制作出的比较用除胶渣处理装置(B5)，通过与实施例5同样的条件进行了除 胶渣处理。然后测量了光透射性窗部件（31)的光出射面中的灯正下照度W及灯间正下照 度。并且，测量了用于处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的正下的位置 的区域所需的时间。并将结果表示在表2中。
[0126] 〔参考例1)
[0127] 制作出除了使光透射性窗部件(31)与布线基板材料(1)之间的空间的气体流速为 表2所示的气体流速W外与除胶渣处理装置(A3)具有同样结构的参考用的除胶渣处理装置 (W下也称为"参考用除胶渣处理装置(A6))。
[0128] 利用制作出的参考用除胶渣处理装置(A6)，通过与实施例3同样的条件进行了除 胶渣处理。在该除胶渣处理中，在布线基板材料（1)与光透射性窗部件(31)之间的空间形成 处理用气体的素流。然后测量了光透射性窗部件(31)的光出射面中的灯正下照度W及灯间 正下照度。并且测量了用于处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的正下 的位置的区域所需的时间。并将结果表示在表2中。
[0129] 〔比较例6)
[0130] 制作出除了处理用气体沿灯平行方向流动W外与参考用除胶渣处理装置(A6)具 有同样结构的比较用的除胶渣处理装置下也称为"比较用除胶渣处理装置(Β6Γ)。
[0131] 利用制作出的比较用除胶渣处理装置(B6)，通过与参考例1同样的条件进行了除 胶渣处理。然后测量了光透射性窗部件（31)的光出射面中的灯正下照度W及灯间正下照 度。并且，测量了用于处理布线基板材料（1)的被处理面（la)中的位于灯间隙的正下的位置 的区域所需要的时间。并将结果表示在表2中。
[0132] 表2
[0133]
[0134] 根据表2的结果，显而易见，根据实施例3~实施例5所设及的除胶渣处理装置，能 够缩短被处理面中的与灯间正下空间相对的区域的处理所需的时间。
[0135] 另一方面，在比较例3~比较例5所设及的除胶渣处理装置中，为了处理被处理面 中的与灯间正下空间相对的区域，需要较长的时间。
[0136] 并且，对于参考例1所设及的除胶渣处理装置而言，被处理面中的与灯间正下空间 相对的区域的处理所需的时间与比较例6所设及的除胶渣处理装置几乎没有差别、并且与 处理用气体的气体流速为1/2倍的实施例5所设及的除胶渣处理装置同等。运里，在参考例1 所设及的除胶渣处理装置中，处理所需的时间与比较例6所设及的除胶渣处理装置几乎没 有差别的理由是因为，通过处理用气体的素流，活性种被分散，由此缓和了在被处理面上因 产生照度分布不均而引起的处理効率之差。即，是因为在参考例1所设及的除胶渣处理装置 中不能通过处理用气体的流动方向控制活性种的变化(移动）。
[0137] 因此可确认，根据本发明的除胶渣处理装置，能够W高处理效率均匀地处理布线 基板材料。
[013引〔比较例7~11)
[0139] 使用在实施例1~实施例5中制作出的除胶渣处理装置(A1)~除胶渣处理装置 (A5)的每一个，在除胶渣处理中，通过除了使光透射性窗部件(31)与布线基板材料（1)之间 的空间的处理用气体的气体流速为Omm/sec(具体而言，没有从气体供给口（15a)供给氧气） W外与各实施例同样的条件进行了除胶渣处理。其结果，不管在哪个除胶渣处理装置中，均 不能完成除胶渣处理。其理由是因为没有供给用于完成除胶渣处理所需的氧气。
[0140] 标号说明
[0141] 1 布线基板材料
[0142] la 被处理面
[0143] 10 除胶渣处理装置
[0144] 11 框体
[0145] 11A 上壁部
[0146] IIB 下壁部
[0147] llCaiE 侧壁部
[0148] 13 窗部件支持部
[0149] 15 气体供给用贯通孔
[0150] 15a 气体供给口
[0151] 16 气体排出用贯通孔
[0152] 16a 气体排出口
[0153] 18 被处理物支承台
[0154] 18a 被处理物载置面
[0155] 21 紫外线灯
[0156] 25,26 气体流路形成部件
[0157] 31 光透射性窗部件
[015引 A 压力缓和空间
[0159] R 灯室
[0160] S 处理室
【主权项】
1. 一种除胶渣处理装置，具备： 多个紫外线灯，对层叠绝缘层和导电层而成的板状的布线基板材料的被处理面照射紫 外线，上述多个紫外线灯沿该被处理面排列配置； 板状的光透射性窗部件，在上述布线基板材料和上述多个紫外线灯之间与该布线基板 材料平行地配置，上述板状的光透射性窗部件透射来自该紫外线灯的紫外线；以及 处理用气体供给机构，从气体供给口对形成在上述布线基板材料与上述光透射性窗部 件之间的空间供给包含用于生成活性种的活性种源在内的处理用气体，并将在该空间流动 过的气体从气体排出口排出， 该除胶渣处理装置的特征在于， 上述布线基板材料被配置在上述处理用气体供给机构的气体供给口与气体排出口之 间的位置， 在形成于上述布线基板材料与上述光透射性窗部件之间的空间中，处理用气体沿上述 多个紫外线灯排列的方向流动，并形成该处理用气体的层流。2. 如权利要求1所述的除胶渣处理装置，其特征在于， 上述布线基板材料与上述光透射性窗部件之间的间距为1mm以下，在该布线基板材料 与该光透射性窗部件之间所形成的的空间流动的处理用气体的气体流速为1~500mm/sec。3. 如权利要求1所述的除胶渣处理装置，其特征在于， 在上述布线基板材料和上述光透射性窗部件之间形成的空间、与上述气体供给口之间 的位置，设置有压力缓和空间。
【文档编号】H05K3/26GK105874892SQ201580003124
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2015年1月19日
【发明人】竹添法隆, 远藤真, 远藤真一, 羽生智行
【申请人】优志旺电机株式会社