一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机的制作方法

文档序号:10465892阅读:684来源:国知局
一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机的制作方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型涉及一种陶瓷基板的清洁机。
【背景技术】
[0002]陶瓷基板用于电路板中,在用划线机生产陶瓷基板的过程中,陶瓷基板在被切割后,陶瓷基板的火山口存在着突出部分,部分火山口高度偏大,在印刷制程中会造成部分产品印刷油墨重量超标,从而对产品阻值产生影响。油墨超标还会使电极变厚,排条制程中造成剥条不顺。
[0003]专利文献CN204497200U公开了一种集成电路基板的清洁机台,包括机台主体、装载端口、清洗腔、供液及动力系统,在清洗腔内设置有基板载盘、喷头和擦除器,基板载盘承载并带动基板旋转,喷头喷射气体和/或液体,擦除器包括驱动端、摆臂和擦头,该摆臂以驱动端为中心摆动,摆臂平行于基板载盘,擦头设置在摆臂上,擦头随着摆臂运动的过程中接触基板的表面并产生机械力以清洁基板。该清洁机台只有清洁作用,不能对陶瓷基板的火山口进行研磨调整。
【实用新型内容】
[0004]鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型目的在于提供一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,对陶瓷基板的火山口高度进行研磨清洁,管控火山口高度。
[0005]为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,包括供料系统、研磨清洁系统,所述研磨清洁系统包括圆盘、支架、毛刷、电动机,所述圆盘上设有四个定位装置,所述圆盘的下方设有伺服电机,所述圆盘靠近定位装置处设有收送料装置,所述收送料装置包括收料吸着手和放料吸着手,所述收料吸着手的上端设有收料机械手,所述毛刷位于所述支架上,所述毛刷与所述支架之间设有调整手轮,所述毛刷与所述电动机连接。圆盘转动时,毛刷会对陶瓷基板的火山口进行清洁,并利用摩擦力对火山口进行研磨。
[0006]优选地,所述调整手轮与所述毛刷之间设有调节百分表。
[0007]优选地,所述定位装置的一侧设有吹气除尘装置。
[0008]优选地,所述毛刷的上方设有抽风罩。
[0009]优选地,四个定位装置平均分布于所述圆盘的边缘。
[0010]优选地,所述供料系统包括供料马达、轨道、仓夹座,所述仓夹座位于所述轨道上并通过丝杆与所述供料马达连接,所述仓夹座上方设有仓夹,所述仓夹的顶端设有感应光纤,所述仓夹的顶端靠近所述收料机械手。
[0011 ]优选地,所述定位装置包括表层定位层、中心定位层和通真空平台层,所述通真空平台层上设有四根定位柱和“十”字形的真空流道,所述中心定位层设有四个定位孔,所述定位柱穿过所述定位孔,所述通真空平台层通过螺丝固定在所述圆盘上,所述表层定位层位于所述中心定位层的表面。四根定位柱、定位孔间距一样,方便调整进料方向,真空流道可通往所有真空口。
[0012]如上所述,本实用新型提供的一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,具有以下有益效果:采用本实用新型的清洁机对陶瓷基板的火山口进行研磨,研磨后的陶瓷基板平整,并且能使陶瓷基板在后道工序印刷制程中油墨超标现象明显降低,经过实验数据表明,研磨过火山口的陶瓷基板的堆栈收成率由原来的95%提升到99.9%。
【附图说明】
[0013]图1为陶瓷基板的火山口研磨清洁机的研磨清洁系统示意图。
[0014]图2为陶瓷基板的火山口研磨清洁机的供料系统示意图。
[0015]图3为陶瓷基板的火山口研磨清洁机的定位装置的爆炸图。
【具体实施方式】
[0016]以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式,熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。
[0017]请参阅图1至图3。须知,本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等,均仅用以配合说明书所揭示的内容,以供熟悉此技术的人士了解与阅读,并非用以限定本实用新型可实施的限定条件,故不具技术上的实质意义,任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整,在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下,均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时,本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语,亦仅为便于叙述的明了,而非用以限定本实用新型可实施的范围,其相对关系的改变或调整,在无实质变更技术内容下,当亦视为本实用新型可实施的范畴。
[0018]如图1至图3所示,本实用新型提供一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,包括供料系统、研磨清洁系统,所述研磨清洁系统包括圆盘1、支架、毛刷3、电动机7,所述圆盘I上设有四个定位装置2,所述圆盘I的下方设有伺服电机,所述圆盘I靠近定位装置2处设有收送料装置8,所述收送料装置8包括收料吸着手81和放料吸着手81,所述收料吸着手81的上端设有收料机械手,所述毛刷3位于所述支架上,所述毛刷3与所述支架之间设有调整手轮5,所述毛刷3与所述电动机7连接。圆盘I转动时,毛刷3会对陶瓷基板的火山口进行清洁,并利用摩擦力对火山口进行研磨。
[0019]在本实施例,所述调整手轮5与所述毛刷3之间设有调节百分表6。
[0020]在本实施例,所述定位装置2的一侧设有吹气除尘装置9。
[0021]在本实施例,所述毛刷3的上方设有抽风罩7。
[0022]在本实施例,四个定位装置2平均分布于所述圆盘I的边缘。
[0023]在本实施例,所述供料系统包括供料马达10、轨道11、仓夹座13,所述仓夹座13位于所述轨道11上并通过丝杆12与所述供料马达10连接,所述仓夹座13上方设有仓夹14,所述仓夹14的顶端设有感应光纤15,所述仓夹14的顶端靠近所述收料机械手。
[0024]在本实施例,所述定位装置2包括表层定位层21、中心定位层22和通真空平台层23,所述通真空平台层23上设有四根定位柱25和“十”字形的真空流道26,所述中心定位层22设有四个定位孔24,所述定位柱25穿过所述定位孔24,所述通真空平台层23通过螺丝固定在所述圆盘I上,所述表层定位层21位于所述中心定位层22的表面。四根定位柱25、定位孔24间距一样,方便调整进料方向,真空流道26可通往所有真空口。
[0025]综上所述,本实用新型提供一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,采用本实用新型的清洁机对陶瓷基板的火山口进行研磨,研磨后的陶瓷基板平整,并且能使陶瓷基板在后道工序印刷制程中油墨超标现象明显降低,经过实验数据表明,研磨过火山口的陶瓷基板的堆栈收成率由原来的95%提升到99.9%。所以,本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
[0026]上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效,而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。
【主权项】
1.一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,其特征在于:包括供料系统、研磨清洁系统,所述研磨清洁系统包括圆盘、支架、毛刷、电动机,所述圆盘上设有四个定位装置,所述圆盘的下方设有伺服电机,所述圆盘靠近定位装置处设有收送料装置,所述收送料装置包括收料吸着手和放料吸着手,所述收料吸着手的上端设有收料机械手,所述毛刷位于所述支架上,所述毛刷与所述支架之间设有调整手轮,所述毛刷与所述电动机连接。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,其特征在于:所述调整手轮与所述毛刷之间设有调节百分表。3.根据权利要求1所述的一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,其特征在于:所述定位装置的一侧设有吹气除尘装置。4.根据权利要求1所述的一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,其特征在于:所述毛刷的上方设有抽风罩。5.根据权利要求1所述的一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,其特征在于:四个定位装置平均分布于所述圆盘的边缘。6.根据权利要求1至5任意一权利要求所述的一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,其特征在于:所述供料系统包括供料马达、轨道、仓夹座,所述仓夹座位于所述轨道上并通过丝杆与所述供料马达连接,所述仓夹座上方设有仓夹,所述仓夹的顶端设有感应光纤,所述仓夹的顶端靠近所述收料机械手。7.根据权利要求5所述的一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,其特征在于:所述定位装置包括表层定位层、中心定位层和通真空平台层,所述通真空平台层上设有四根定位柱和“十”字形的真空流道,所述中心定位层设有四个定位孔,所述定位柱穿过所述定位孔,所述通真空平台层通过螺丝固定在所述圆盘上,所述表层定位层位于所述中心定位层的表面。
【专利摘要】本实用新型提供一种陶瓷基板的火山口研磨清洁机,包括供料系统、研磨清洁系统,所述研磨清洁系统包括圆盘、支架、毛刷、电动机,所述圆盘上设有四个定位装置,所述圆盘的下方设有伺服电机,所述圆盘靠近定位装置处设有收送料装置,所述收送料装置包括收料吸着手和放料吸着手,所述收料吸着手的上端设有收料机械手,所述毛刷位于所述支架上,所述毛刷与所述支架之间设有调整手轮,所述毛刷与所述电动机连接。采用本实用新型的清洁机对陶瓷基板的火山口进行研磨,研磨后的陶瓷基板平整,并且能使陶瓷基板在后道工序印刷制程中油墨超标现象明显降低,经过实验数据表明,研磨过火山口的陶瓷基板的堆栈收成率由原来的95%提升到99.9%。
【IPC分类】H05K3/00
【公开号】CN205378361
【申请号】CN201521123027
【发明人】邵群峰
【申请人】旺诠科技(昆山)有限公司
【公开日】2016年7月6日
【申请日】2015年12月31日
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