光场显示控制方法和装置、光场显示设备的制作方法
【专利摘要】本申请实施例公开了一种光场显示控制方法和装置以及一种光场显示设备，其中一种光场显示控制方法包括：根据源图像的感兴趣程度分布信息对所述源图像进行采样处理；确定与采样后的所述源图像对应的光场图像；至少根据所述感兴趣程度分布信息调整光场显示设备的显示器的显示像素密度分布；经调整后的所述光场显示设备显示所述光场图像。本申请实施例提供的技术方案，可充分利用光场显示设备的显示器的像素来呈现光场显示图像不同区域的差异化的空间分辨率。
【专利说明】光场显示控制方法和装置、光场显示设备
【技术领域】
[0001] 本申请涉及光场显示【技术领域】，特别是涉及一种光场显示控制方法和装置以及一 种光场显不设备。
【背景技术】
[0002] 光场显示技术早在20世纪初被提出，两种具有代表性的实现方式为：1908 年Lippmann基于子透镜（Lenslet)阵列的实现方式以及1903年Ives基于平行光栅 (ParallaxBarriers)的实现方式。近年来，伴随着消费级电子产品对显示设备的多样化需 求，光场显示技术被运用到不同的场景和设备中，例如：3D显示器、可穿戴式设备、视力矫 正的光场显示器等。目前，电子设备的计算能力、显示分辨率以及光场显示技术对硬件资源 需求的逐渐匹配，为光场显示技术的推广应用提供了良好的支持。
[0003] 光场显示技术可通过传统光场显示技术类似的硬件结构，实现相对灵活的显示效 果，例如：光场3D显示、光场投影显示、穿戴式设备上的光场近眼显示、光场显示的视力纠 正，等等，然而实现上述灵活显示特性的代价是牺牲显示分辨率，也就是说，基于相同显示 像素条件下，采用光场显示技术显示的图像的空间分辨率相比传统图像的空间分辨率低， 如何改善光场显示图像的空间分辨率问题，成为业内的研究热点。
【发明内容】
[0004] 在下文中给出了关于本申请的简要概述，以便提供关于本申请的某些方面的基本 理解。应当理解，这个概述并不是关于本申请的穷举性概述。它并不是意图确定本申请的 关键或重要部分，也不是意图限定本申请的范围。其目的仅仅是以简化的形式给出某些概 念，以此作为稍后论述的更详细描述的前序。
[0005] 本申请提供一种光场显示控制方法和装置以及一种光场显示设备。
[0006] 一方面，本申请实施例提供了一种光场显示控制方法，包括：
[0007] 根据源图像的感兴趣程度分布信息对所述源图像进行采样处理；
[0008] 确定与采样后的所述源图像对应的光场图像；
[0009] 至少根据所述感兴趣程度分布信息调整光场显示设备的显示器的显示像素密度 分布；
[0010] 经调整后的所述光场显示设备显示所述光场图像。
[0011] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显不控制方法，可选的，所述光场显 示控制方法还包括：获取所述源图像的所述感兴趣程度分布信息。
[0012] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，获取所述感 兴趣程度分布信息，包括：获取所述源图像的感兴趣程度指示信息；根据所述感兴趣程度 指示信息确定所述感兴趣程度分布信息。
[0013]结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，获取所述感 兴趣程度分布信息，包括：对所述源图像进行图像分析；根据所述图像分析的结果确定所 述感兴趣程度分布信息。
[0014] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，根据所述感 兴趣程度分布信息对所述源图像进行采样处理，包括：根据所述感兴趣程度分布信息确定 目标采样密度分布信息，所述目标采样密度分布信息中至少二个分别对应不同感兴趣程度 的目标采样密度存在差异；根据所述目标采样密度分布信息对所述源图像进行采样处理。
[0015] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显不控制方法，可选的，对应高于第 一阈值的各感兴趣程度的平均目标采样密度，高于对应低于第二阈值的各感兴趣程度的平 均目标采样密度，所述第一阈值大于或等于所述第二阈值。
[0016] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显不控制方法，可选的，确定与米样 后的所述源图像对应的光场图像，包括：根据用户的视力信息对采样后的所述源图像进行 预处理以得到所述光场图像。
[0017] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，至少根据所 述感兴趣程度分布信息调整所述显示器的显示像素密度分布，包括：根据用户的视力信息 和所述感兴趣程度分布信息确定所述显示器的目标像素密度分布信息，所述目标像素密度 分布信息中至少二个分别对应不同感兴趣程度的目标像素密度存在差异；根据所述目标像 素密度分布信息调整所述显示器的显示像素密度分布。
[0018] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，根据所述视 力信息和所述感兴趣程度分布信息确定所述目标像素密度分布信息，包括：根据所述视力 信息对所述感兴趣程度分布信息进行预处理以得到光场感兴趣程度分布信息；根据所述光 场感兴趣程度分布信息确定所述目标像素密度分布信息。
[0019] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显不控制方法，可选的，对应高于第 一阈值的各光场感兴趣程度的平均目标像素密度，高于对应低于第二阈值的各光场感兴趣 程度的平均目标像素密度，所述第一阈值大于或等于所述第二阈值。
[0020] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，根据所述目 标像素密度分布信息调整所述显示器的显示像素密度分布，包括：根据所述目标像素密度 分布信息确定可控变形材料部的形变控制信息；根据所述形变控制信息控制所述可控变形 材料部发生形变，以通过所述可控变形材料部的形变相应调整所述显示器的显示像素密度 分布。
[0021] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，所述可控变 形材料部至少由以下一种或多种可控变形材料制备而成：压电材料、电活性聚合物、光致形 变材料、磁致伸缩材料。
[0022] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，所述光场显 示控制方法还包括：获取所述用户的视力信息。
[0023] 结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显不控制方法，可选的，所述光场显 示控制方法还包括：在经调整后的所述光场显示设备显示所述光场图像期间，对所述显示 器不同显示区域的显示亮度进行均衡控制。另一方面，本申请实施例还提供了一种光场显 示控制装置，包括：
[0024] -源图像采样处理模块，用于根据源图像的感兴趣程度分布信息对所述源图像进 行采样处理；
[0025] -光场图像确定模块，用于确定与采样后的所述源图像对应的光场图像；
[0026] -显示像素密度分布调整模块，用于至少根据所述感兴趣程度分布信息调整光场 显示设备的显示器的显示像素密度分布；
[0027] -显示控制模块，用于经调整后的所述光场显示设备显示所述光场图像。
[0028] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述光场 显示控制装置还包括：一感兴趣程度分布信息获取模块，用于获取所述源图像的所述感兴 趣程度分布信息。
[0029] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述感兴 趣程度分布信息获取模块包括：一感兴趣程度指示信息获取子模块，用于获取所述源图像 的感兴趣程度指示信息；一感兴趣程度分布信息获取子模块，用于根据所述感兴趣程度指 示信息确定所述感兴趣程度分布信息。
[0030] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述感兴 趣程度分布信息获取模块包括：一图像分析子模块，用于对所述源图像进行图像分析；一 图像分析结果确定子模块，用于根据所述图像分析的结果确定所述感兴趣程度分布信息。
[0031] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述源图 像采样处理模块包括：一目标采样密度分布信息确定子模块，用于根据所述感兴趣程度分 布信息确定目标采样密度分布信息，所述目标采样密度分布信息中至少二个分别对应不同 感兴趣程度的目标采样密度存在差异；一采样处理子模块，用于根据所述目标采样密度分 布信息对所述源图像进行采样处理。
[0032] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，对应高于 第一阈值的各感兴趣程度的平均目标采样密度，高于对应低于第二阈值的各感兴趣程度的 平均目标采样密度，所述第一阈值大于或等于所述第二阈值。
[0033] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述光场 图像确定模块包括：一光场图像确定子模块，用于根据用户的视力信息对采样后的所述源 图像进行预处理以得到所述光场图像。
[0034] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述显示 像素密度分布调整模块包括：一目标像素密度分布信息确定子模块，用于根据用户的视力 信息和所述感兴趣程度分布信息确定所述显示器的目标像素密度分布信息，所述目标像素 密度分布信息中至少二个分别对应不同感兴趣程度的目标像素密度存在差异；一显示像素 密度分布调整子模块，用于根据所述目标像素密度分布信息调整所述显示器的显示像素密 度分布。
[0035] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述目标 像素密度分布信息确定子模块包括：一光场感兴趣程度分布信息确定单元，用于根据所述 视力信息对所述感兴趣程度分布信息进行预处理以得到光场感兴趣程度分布信息；一目标 像素密度分布信息确定单元，用于根据所述光场感兴趣程度分布信息确定所述目标像素密 度分布信息。
[0036] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，对应高于 第一阈值的各光场感兴趣程度的平均目标像素密度，高于对应低于第二阈值的各光场感兴 趣程度的平均目标像素密度，所述第一阈值大于或等于所述第二阈值。
[0037] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述显示 像素密度分布调整子模块包括：一形变控制信息确定单元，用于根据所述目标像素密度分 布信息确定可控变形材料部的形变控制信息；一形变控制单元，用于根据所述形变控制信 息控制所述可控变形材料部发生形变，以通过所述可控变形材料部的形变相应调整所述显 示器的显示像素密度分布。
[0038] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述可控 变形材料部至少由以下一种或多种可控变形材料制备而成：压电材料、电活性聚合物、光致 形变材料、磁致伸缩材料。
[0039] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述光场 显示控制装置还包括：一视力信息获取模块，用于获取所述用户的视力信息。
[0040] 结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述光场 显示控制装置还包括：一亮度均衡控制模块，用于在经调整后的所述光场显示设备显示所 述光场图像期间，对所述显示器不同显示区域的显示亮度进行均衡控制。再一方面，本申请 实施例提供了一种光场显不设备，包括：
[0041] -显不器；
[0042] 一子透镜阵列；
[0043] 一上述任一所述的光场显示控制装置，所述光场显示控制装置与所述显示器通信 连接。
[0044] 结合本申请实施例再一方面提供的任一种光场显示控制设备，可选的，所述显示 器包括多个显示区域，一所述显示区域包括多个显示像素；所述子透镜阵列靠近所述显示 器设置，包括多个子透镜，一所述子透镜与至少一所述显示区域对应。
[0045] 结合本申请实施例再一方面提供的任一种光场显示控制设备，可选的，所述显示 器包括：阵列分布的多个显示像素；一可控变形材料部，分别与多个所述显示像素连接；所 述可控变形材料部在外场作用下可发生形变、并通过所述形变相应调整多个所述显示像素 的密度分布；所述外场由所述光场显示控制装置控制。本申请实施例提供的技术方案，可充 分利用光场显示设备的显示器的像素来呈现光场图像不同区域的差异化的空间分辨率，由 此满足用户对图像局部清晰度的差异化显示需求，提高显示效率，满足用户多样化的实际 应用需求。此外，本申请实施例提供的技术方案，至少根据感兴趣程度分布信息采样所述源 图像以及调整所述显示器的显示像素密度分布，以尽量减小因所述源图像和所述显示器的 像素差异化分布可能造成的实际显示图像局部区域显示比例等变形，由此改善显示效果， 提升用户体验。。
[0046] 通过以下结合附图对本申请的可选实施例的详细说明，本申请的这些以及其它的 优点将更加明显。
【专利附图】
【附图说明】
[0047] 本申请可以通过参考下文中结合附图所给出的描述而得到更好的理解，其中在所 有附图中使用了相同或相似的附图标记来表示相同或者相似的部件。所述附图连同下面的 详细说明一起包含在本说明书中并且形成本说明书的一部分，而且用来进一步举例说明本 申请的可选实施例和解释本申请的原理和优点。在附图中：
[0048] 图la为本申请实施例提供的一种光场显示控制方法的流程图；
[0049] 图lb为本申请实施例提供第一种像素密度可调的显示器的结构示意图；
[0050] 图lc为本申请实施例提供第二种像素密度可调的显示器的结构示意图；
[0051] 图Id为本申请实施例提供第三种像素密度可调的显示器的结构示意图；
[0052] 图le为本申请实施例提供第四种像素密度可调的显示器的结构示意图；
[0053] 图If?为本申请实施例提供显示器在不均匀光场激励情形时进行像素密度调整的 场景不例；
[0054] 图lg为本申请实施例提供第五种像素密度可调的显示器的结构示意图；
[0055] 图lh为本申请实施例提供第六种像素密度可调的显示器的结构示意图；
[0056] 图li为本申请实施例提供第七种像素密度可调的显示器的结构示意图；
[0057] 图lj为本申请实施例提供第八种像素密度可调的显示器的结构示意图；
[0058] 图2为本申请实施例提供的光场显示的可选光路示例；
[0059] 图3a为本申请实施例提供的源图像示例；
[0060] 图3b为本申请实施例提供的感兴趣程度分布信息热度图示例；
[0061]图3c为本申请实施例提供的目标采样密度分布信息示例；
[0062] 图3d为本申请实施例提供的采样后的所述源图像示例；
[0063] 图3e为本申请实施例提供的光场图像示例；
[0064] 图3f为本申请实施例提供的光场感兴趣程度分布信息热度图示例；
[0065] 图3g为本申请实施例提供的目标像素密度分布信息示例；
[0066] 图3h为本申请实施例提供的清晰度差异化分布的图像显示效果示例；
[0067] 图4a为本申请实施例提供的光场显不的另一可选光路不例；
[0068] 图4b为本申请实施例提供的基于调整后的显示器的光场显示的一可选光路示 例；
[0069] 图5为本申请实施例提供的第一种光场显示控制装置的逻辑框图；
[0070] 图6为本申请实施例提供的第二种光场显示控制装置的逻辑框图；
[0071] 图7为本申请实施例提供的第三种光场显示控制装置的逻辑框图；
[0072] 图8为本申请实施例提供的一种光场显示设备的结构示意图。
[0073] 本领域技术人员应当理解，附图中的元件仅仅是为了简单和清楚起见而示出的， 而且不一定是按比例绘制的。例如，附图中某些元件的尺寸可能相对于其他元件放大了，以 便有助于提高对本申请实施例的理解。
【具体实施方式】
[0074] 在下文中将结合附图对本申请的示范性实施例进行详细描述。为了清楚和简明起 见，在说明书中并未描述实际实施方式的所有特征。然而，应该了解，在开发任何这种实际 实施例的过程中必须做出很多特定于实施方式的决定，以便实现开发人员的具体目标，例 如，符合与系统及业务相关的那些限制条件，并且这些限制条件可能会随着实施方式的不 同而有所改变。此外，还应该了解，虽然开发工作有可能是非常复杂和费时的，但对得益于 本公开内容的本领域技术人员来说，这种开发工作仅仅是例行的任务。
[0075] 在此，还需要说明的一点是，为了避免因不必要的细节而模糊了本申请，在附图和 说明中仅仅描述了与根据本申请的方案密切相关的装置结构和/或处理步骤，而省略了对 与本申请关系不大的、本领域普通技术人员已知的部件和处理的表示和描述。
[0076] 下面结合附图（若干附图中相同的标号表示相同的元素）和实施例，对本申请的
【具体实施方式】作进一步详细说明。以下实施例用于说明本申请，但不用来限制本申请的范 围。
[0077] 本领域技术人员可以理解，本申请中的"第一"、"第二"等术语仅用于区别不同步 骤、设备或模块等，既不代表任何特定技术含义，也不表示它们之间的必然逻辑顺序。
[0078] 本申请发明人在实践本申请实施例的过程中发现，通常光场显示设备在进行光场 显示时，光场显示设备的显示器的显示像素密度分布是固定不变的，基于此，显示器显示能 力在满足用户多样化应用需求方面存在一定的局限性。在某些场景下，某帧图像中各个区 域通常对用户而言具有不同的意义和/或重要性，即用户对显示的图像不同区域的感兴趣 程度不尽相同。例如：在人物光场显示场景下，用户对图像中人脸的感兴趣程度要高于图像 中的景物；等等。由于光场显示技术在显示图像的同时会牺牲所显示的图像一定程度的空 间分辨率，因此，在基于光场显示技术进行光场显示时所显示的图像的空间分辨率较低。如 果要提高感兴趣区的光场显示质量，可以采用高分辨率显示器来提高所显示图像的整体清 晰度，但需要消耗的功耗较大，而如果用户对一图像不同区域的显示清晰度的要求不尽相 同，如用户可能只关注一图像中的局部（如人脸、车牌号、其他感兴趣区等）的清晰度，而对 该图像中的其他部分（如背景、道路等）的清晰度要求较低，此时，如果简单的采用高分辨 率显示器显示该图像，可能导致显示像素的实际利用率较低，增加功耗。
[0079] 为此，本申请实施例提供了一种光场显示控制方法，可充分利用光场显示设备的 显示器的像素来呈现光场显示图像不同区域的差异化的空间分辨率，由此更好满足用户多 样化的应用需求。下面结合【专利附图】
【附图说明】技术方案。
[0080] 图la为本申请实施例提供的一种光场显示控制方法的流程图。本申请实施例提 供的光场显示控制方法的执行主体可为某一光场显示控制装置，所述光场显示控制装置可 在但不限于涉及图像呈现、视频播放等应用过程中通过执行该光场显示控制方法进行图像 的显示控制。所述光场显示控制装置的设备表现形式不受限制，例如所述光场显示控制装 置可为某一独立的部件，该部件与包括有显示器的光场显示设备配合通信；或者，所述光场 显示控制装置可作为某一功能模块集成在一包括有显示器的显示设备中，所述光场显示设 备可包括但不限于具有光场显示能力且包括有所述显示器的电视机、电脑、照相机、手机、 录像机等等。
[0081] 具体如图la所示，本申请实施例提供的一种光场显示控制方法包括：
[0082] S101 :根据源图像的感兴趣程度分布信息对所述源图像进行采样处理。
[0083] 所述感兴趣程度分布信息用于表征用户或设备对所述源图像不同局部区域的感 兴趣程度的分布情况。如果所述用户或设备对所述源图像不同局部区域的感兴趣程度不完 全相同，则所述感兴趣程度分布信息对应不同图像区域的感兴趣程度也不尽相同，即所述 感兴趣程度信息呈非均匀分布。
[0084] 根据所述感兴趣程度分布信息对所述源图像进行采样，使得所述源图像不同图像 区域的采样密度与相应图像区域对应的感兴趣程度匹配。例如，在对源图像采样处理的过 程中：对于感兴趣程度较高的图像区域的采样密度较大，采样得到的图像像素越多；对于 感兴趣程度较小的图像区域的采样密度较小，采样得到的图像像素越少。
[0085]S102 :确定与采样后的所述源图像对应的光场图像。
[0086] 与传统的显示设备不同，光场显示设备在邻近显示器处可设置有一子透镜阵列， 如图2所示，所述子透镜阵列也可称为微透镜阵列，包括多个阵列分布的子透镜（或称为微 透镜），来自显示器的光线经所述子透镜阵列中的至少一个子透镜改变传播方向，传播方向 改变后的光线经用户的眼睛（类似透镜）汇聚以在用户的视网膜上成像。显示器包括多个 显示区域，一显示区域内包括多个显示像素且一显示区域与一子透镜对应，也就是说，在光 场显示设备中，子透镜阵列和显示器的显示像素之间是呈现一对多的对应关系，可通过显 示器多个显示像素显示待显示图像同一局部不同视角的信息，由此可实现光场图像丰富的 显示特性。实际应用中，可根据期望的呈现效果对采样后的所述源图像进行光场采集或预 处理来得到所述光场图像，使得根据光路可逆原理经显示器和子透镜阵列在人眼视网膜获 取该光场图像的成像时，是消除了像差的图像。
[0087]S103 :至少根据所述感兴趣程度分布信息调整光场显示设备的显示器的显示像素 密度分布。
[0088] 本申请实施例中，光场显示设备的显示器为像素密度可调的显示器，所述显示器 可包括但不限于柔性显示器，所述柔性显示器至少包括柔性衬底以及在所述柔性衬底上形 成的多个显示像素，其中所述柔性衬底在满足一定条件时可以发生伸缩、弯曲等变化来调 整其显示像素密度分布。一所述显示像素可包括但不限于至少一发光单元；所述发光单元 可包括但不限于发光二极管（LightEmittingDiode，简称LED)发光单元、有机发光二极管 (OrganicLightEmittingDiode,简称0LED)发光单元；一所述发光单元的发光颜色可根 据实际需要确定，可包括但不限于一个或多个发光子单元，所述发光子单元可包括LED发 光子单元、0LED发光子单元；所述多个发光子单元可包括但不限于红（R)、绿（G)、蓝（B)等 不同颜色的LED发光子单元、0LED发光子单元。
[0089] 在光场图像实现丰富、灵活的显示效果的同时，其显示的光场图像的空间分辨率 相对传统显示技术有所降低。例如，假设所述子透镜阵列包括MXN个子透镜，所述显示器 的分辨率为AXB，所述显示器AXB个像素划分为MXN个显示区域（A大于M，B大于N)。 在一子透镜对应显示器的一显示区域的情形下，一显示区域的显示像素发出的光线经与该 显示区域对应的子透镜改变传播方向后在用户的眼睛汇聚。每个显示区域包括XXY个像 素，显示的光场图像的空间分辨率与子透镜阵列的子透镜分布对应，为MXN，该空间分辨率 相对显示器的分辨率为AXB较低。类似的，在一子透镜对应显示器的多个显示区域的情形 下，该显示器显示的光场图像的空间分辨率通常介于MXN和AXB之间，相对显示器的分辨 率为AXB也较低。不同显示区域的显示像素发出的光线经相应子透镜改变传播方向后在 用户的眼睛汇聚，即可形成相对该用户的光场图像，根据光场图像信息的丰富性，最终呈现 给用户的光场图像可能是针对该用户的不同深度的对焦图像、视力矫正图像等等，但通常 所显示的光场图像相对采用传统显示技术显示的图像清晰度较低。
[0090] 结合显示器显示像素密度分布可调的这一特性，本申请实施例可至少根据所述感 兴趣程度分布信息调整光场显示设备的显示器的显示像素密度分布，相当于对所述显示器 的显示像素分布根据对应显示内容的感兴趣程度的不同进行重新调整，使得调整后的所述 显示器的像素密度分布与光场图像的空间分辨率（或清晰度）的差异化分布匹配且尽可能 减小显示比例等变形。具体而言：采样前的所述源图像通常均是较为清晰的图像，不同图像 区域的分辨率相同；根据所述感兴趣程度分布信息对所述源图像进行采样处理后，采样处 理后的所述源图像的分辨率感兴趣程度的不同而呈差异化分布，如果不考虑驱动方式等其 他可能影响图像显示的因素，分辨率较大的图像区域可能存在放大等显示比例的变形；在 基于光场显示设备显示所述光场图像的情形下，待显示的光场图像和显示器的显示像素之 间存在一定的对应关系，而由于所述光场图像与根据所述感兴趣程度分布信息进行采样处 理后的所述源图像确定的，因此，所述光场图像的分辨率也呈现一定程度的非均匀分布；为 了在经光场显示设备的光路显示所述光场图像的过程中减小因对所述源图像差异化采样 可能造成局部区域显示比例等变形，可根据所述感兴趣程度分布信息对所述显示器的显示 像素密度进行调整，以使得所述光场图像经包括调整后的显示器的光场显示设备进行光场 显示的过程中，调整后的显示器的显示像素分布与所述光场图像的图像像素分布对应，人 眼经光场显示设备的子透镜阵列看显示器显示的光场图像时，是抵消了相差和显示比例等 局部变形的图像。
[0091] S104 :经调整后的所述光场显示设备显示所述光场图像。
[0092] 人眼不经过子透镜阵列而直接看所述显示显示的光场图像，所述光场图像通常是 一副模糊图像，而人眼经光场显示设备的子透镜阵列看显示器显示的光场图像时，则是抵 消了相差和显示比例等变形的图像，该图像局部区域的分辨率较高、较清晰，局部区域的分 辨率较低、较模糊，即图像整体的空间分辨率呈现出差异化分布，且该图像空间分辨率的差 异化分布与所述源图像的感兴趣程度分布信息对应。
[0093] 可见，本申请实施例提供的技术方案，可充分利用光场显示设备的显示器的像素 来呈现光场图像不同区域的差异化的空间分辨率，由此满足用户对图像局部清晰度的差异 化显示需求，提高显示效率，满足用户多样化的实际应用需求。此外，本申请实施例提供的 技术方案，至少根据感兴趣程度分布信息采样所述源图像以及调整所述显示器的显示像素 密度分布，以尽量减小因所述源图像和所述显示器的像素差异化分布可能造成的实际显示 图像局部区域显示比例等变形，由此改善显示效果，提升用户体验。
[0094] 本申请实施例提供的技术方案中，可选的，所述光场显示控制方法还包括：获取所 述源图像的所述感兴趣程度分布信息。所述感兴趣程度分布信息的获取方式可根据实际需 要确定，非常灵活。
[0095] 一种可选的实现方式，获取所述感兴趣程度分布信息可包括：获取所述源图像的 感兴趣程度指示信息；根据所述感兴趣程度指示信息确定所述感兴趣程度分布信息。所述 感兴趣程度指示信息可从用户或设备获取，作为确定所述源图像的感兴趣程度分布信息的 依据。所述感兴趣程度指示信息的内容和表现方式可根据实际需要确定，所述感兴趣程度 用来表征用户或设备对所述源图像不同图像区域的感兴趣强弱程度的相对值，所述源图像 的感兴趣区（RegionofInterest，简称R0I)的感兴趣程度通常较高，非感兴趣区的感兴趣 程度通常较低，所述感兴趣区可包括但不限于以下一种或多种：用户选择的所述源图像的 至少一个区域（即所述源图像的用户选择区）、用户注视的所述源图像的至少一个区域（即 所述源图像的用户注视区）、图像显示控制装置对所述源图像自动检测得到的感兴趣区。该 方案根据所述感兴趣程度指示信息确定所述源图像的感兴趣程度分布信息，使得所述感兴 趣程度分布信息的确定与实际用户需求更为吻合，可更好满足用户个性化的应用需求。
[0096] 另一种可选的实现方式，获取所述感兴趣程度分布信息可包括：对所述源图像进 行图像分析；根据所述图像分析的结果确定所述感兴趣程度分布信息。例如：对所述源图 像进行人脸识别，根据识别结果赋予所述源图像对应人脸的图像区域较高的感兴趣程度， 而赋予所述源图像的其他图像区域较低的感兴趣程度，等等。该方案可根据所述源图像的 图像分析结果自动确定所述感兴趣程度分布信息，使得所述感兴趣程度分布信息的确定更 为智能，提高所述感兴趣程度分布信息确定的效率和普适性。
[0097] 获取了所述感兴趣程度分布信息之后，可根据所述感兴趣程度分布信息对所述源 图像进行采样处理。可选的，根据所述感兴趣程度分布信息对所述源图像进行采样处理，包 括：根据所述感兴趣程度分布信息确定目标采样密度分布信息，所述目标采样密度分布信 息中至少二个分别对应不同感兴趣程度的目标采样密度存在差异；根据所述目标采样密度 分布信息对所述源图像进行采样处理，采样后的所述源图像的像素或分辨率分布与所述目 标采样密度分布信息相同或尽可能相同。该方案可实现所述源图像的差异化采样，使得采 样后的所述源图像的像素或分辨率的差异化分布与所述源图像差异化的感兴趣程度分布 相匹配。例如，所述源图像通常为一分辨率较高的清晰图像，如图3a所示，图中线条标出的 部分不妨作为感兴趣程度较高的图像区域。所述源图像的感兴趣程度分布信息可采用但 不限于热度图的方式表示，如图3b所示，图3b中各点位置对应所述源图像的至少一个像素 点，可见，所述源图像不同图像区域对应的感兴趣程度可能相同，也可能不完全相同，等感 兴趣程度线内区域的各点对应的像素点的感兴趣程度相同。根据所述感兴趣程度分布信息 确定所述源图像的目标采样密度分布信息，所述目标采样密度分布信息也相应呈非均匀分 布，如图3c所示。所述目标采样密度分布信息通常用来表征用户或设备对源图像不同区域 的分辨率的相对预期，对所述源图像的分辨率预期较高的区域，对应该区域的采样密度较 大；而对所述源图像的分辨率预期较低的区域，对应该区域的采样密度较小。可选的，所述 目标采样密度分布信息中，对应高于第一阈值的各感兴趣程度的平均目标采样密度，高于 对应低于第二阈值的各感兴趣程度的平均目标采样密度，所述第一阈值大于或等于所述第 二阈值。也就是说，所述感兴趣程度分布信息中的感兴趣程度和所述目标采样密度分布信 息中的目标采样密度之间存在一定的对应关系，该对应关系可根据实际需要确定，实现方 式非常灵活。例如，可为不同的感兴趣程度确定不同的目标采样密度；或者，又例如，可确定 一个或多个感兴趣程度阈值，如所述第一阈值和/或第二阈值，为高于或低于相对阈值的 感兴趣程度确定相应的平均目标采样密度，由此提高实际采样的灵活性。根据所述目标采 样密度分布信息对所述源图像进行采样处理，相当于对所述源图像不同区域实现差异化采 样，对应感兴趣程度较高的图像区域的采样密度可能高于感兴趣程度较低的图像区域，使 得采样后的所述源图像的分辨率呈现差异化分布，如果不考虑驱动方式等其他可能影响图 像显示的因素，分辨率较大的图像区域可能存在放大等显示比例的变形，如图3d所示。 [0098] 在获取采样后的所述源图像之后，可确定与采样后的所述源图像对应的光场图 像。可选的，确定与采样后的所述源图像对应的光场图像包括：根据用户的视力信息对采样 后的所述源图像进行预处理以得到所述光场图像。该方案可针对用户的视力信息对采样后 的所述源图像的内容进行预处理，将采样后的所述源图像转换为依据光路可逆原理经光场 显示设备进行内容大致还原显示的光场图像，显示的光场图像相对该用户而言是焦点对准 的清晰图像。该方案不仅可应用在与相对视力正常用户而言的观看的图像对应的光场图像 的预处理场景，还可应用在与相对视力需要矫正（如远视、近视等）的用户而言观看的图像 对应的光场图像的预处理，实现方式灵活。
[0099] 不妨结合图2所示的可选光路为例对采样后的所述源图像进行预处理得到所述 光场图像的可选实现方式。可选的，可根据用户的视力信息构建转换矩阵的方式预处理采 样后的所述源图像，以得到具有一定像差的光场图像，而该像差经所述子透镜阵列的光路 改变是可抵消并形成相对所述视力信息的重对焦的图像，简化的物理模型如下：
【权利要求】
1. 一种光场显不控制方法，其特征在于，包括： 根据源图像的感兴趣程度分布信息对所述源图像进行采样处理； 确定与采样后的所述源图像对应的光场图像； 至少根据所述感兴趣程度分布信息调整光场显示设备的显示器的显示像素密度分 布； 经调整后的所述光场显示设备显示所述光场图像。
2. 根据权利要求1所述的光场显示控制方法，其特征在于，还包括：获取所述源图像的 所述感兴趣程度分布信息。
3. 根据权利要求2所述的光场显示控制方法，其特征在于，获取所述感兴趣程度分布 信息，包括： 获取所述源图像的感兴趣程度指示信息； 根据所述感兴趣程度指示信息确定所述感兴趣程度分布信息。
4. 根据权利要求2所述的光场显示控制方法，其特征在于，获取所述感兴趣程度分布 信息，包括： 对所述源图像进行图像分析； 根据所述图像分析的结果确定所述感兴趣程度分布信息。
5. 根据权利要求1-4任一所述的光场显示控制方法，其特征在于，根据所述感兴趣程 度分布信息对所述源图像进行采样处理，包括： 根据所述感兴趣程度分布信息确定目标采样密度分布信息，所述目标采样密度分布信 息中至少二个分别对应不同感兴趣程度的目标采样密度存在差异； 根据所述目标采样密度分布信息对所述源图像进行采样处理。
6. -种光场显示控制装置，其特征在于，包括： 一源图像采样处理模块，用于根据源图像的感兴趣程度分布信息对所述源图像进行采 样处理； 一光场图像确定模块，用于确定与采样后的所述源图像对应的光场图像； 一显示像素密度分布调整模块，用于至少根据所述感兴趣程度分布信息调整光场显示 设备的显示器的显示像素密度分布； 一显示控制模块，用于经调整后的所述光场显示设备显示所述光场图像。
7. 根据权利要求6所述的光场显示控制装置，其特征在于，还包括： 一感兴趣程度分布信息获取模块，用于获取所述源图像的所述感兴趣程度分布信息。
8. -种光场显不设备，其特征在于，包括： 一显不器； 一子透镜阵列； 一如权利要求6或7所述的光场显示控制装置，所述光场显示控制装置与所述显示器 通信连接。
9. 根据权利要求8所述的光场显示设备，其特征在于， 所述显示器包括多个显示区域，一所述显示区域包括多个显示像素； 所述子透镜阵列靠近所述显示器设置，包括多个子透镜，一所述子透镜与至少一所述 显示区域对应。
10.根据权利要求8或9所述的光场显示设备，其特征在于，所述显示器包括： 阵列分布的多个显示像素； 一可控变形材料部，分别与多个所述显示像素连接；所述可控变形材料部在外场作用 下可发生形变、并通过所述形变相应调整多个所述显示像素的密度分布；所述外场由所述 光场显示控制装置控制。
【文档编号】H04N9/31GK104519347SQ201410837411
【公开日】2015年4月15日 申请日期:2014年12月29日 优先权日:2014年12月10日
【发明者】杜琳, 周梁 申请人:北京智谷睿拓技术服务有限公司