技术总结
本发明涉及发声装置技术领域，尤其涉及一种热致发声装置的制备方法及装置。该热致发声装置的制备方法主要为在基底表面旋涂光刻胶，利用有多个成阵列排列的不透光图案的光刻板对基底曝光、显影溶解，以在基底上形成包括多个成阵列排列的柱体光刻胶体的刻蚀掩膜层，然后对其进行刻蚀，以在刻蚀掩膜层和基底之间形成包括多个成阵列排列的锥体结构的基底结构层；去除刻蚀掩膜层后，在基底结构层上溅射一金属薄膜层，并在其上覆盖一通过基底结构层的椎体顶点支撑的石墨烯层；该热致发声装置是通过如上所述的制备方法制备而成。该热致发声装置的制备方法制备出的热致发声装置具有阵列型点-面接触结构，该热致发声装置具有高效的发声效率和发声强度。
技术研发人员：任天令;陈源泉;杨轶
受保护的技术使用者：清华大学
文档号码：201510705537
技术研发日：2015.10.27
技术公布日：2017.05.03