一种vgf法砷化镓单晶用脱舟器的制作方法

文档序号:8127631阅读:432来源:国知局
专利名称:一种vgf法砷化镓单晶用脱舟器的制作方法
技术领域
本实用新型属半导体材料制备设备领域,特别涉及一种VGF法 砷化镓单晶用脱舟器。
背景技术
在VGF法砷化镓单晶生长过程中,常使用热解氮化硼坩埚(PBN 柑埚)做生长容器,氧化硼作液封剂,以避免砷化镓单晶分解。通常, 氧化硼在氮化硼坩埚和砷化镓晶体(GaAs晶体)之间形成一层厚度 几微米 几十微米的薄膜,如图l所示。 一般采用甲醇、乙醇等化学 溶剂,通过浸泡的方法,慢慢溶解氧化硼薄膜。由于氧化硼薄膜处于 坩埚壁和晶体之间,厚度很小,溶解只能依靠扩散机制进行,速度慢, 所需时间很长, 一般为7 10天,才能将氧化硼薄膜完全溶解,使PBN 坩埚,GaAs晶体分离,俗称"脱舟"。
如图2所示,采用喷射甲醇等化学溶剂的方法,利用流动的化学 试剂不断冲击氧化硼薄层,可加速氧化硼的溶解,从而縮短脱舟时间。
实用新型内容
本实用新型的目的为了解决背景技术中利用流动的化学试剂不 断冲击氧化硼薄层,加速氧化硼的溶解,提供一种VGF法砷化镓单 晶用脱舟器,其特征在于,所述VGF法砷化镓单晶用脱舟器的主体 为长方形箱体,脱舟器箱体5的一个端面上焊接一排3~5个喷射管8,喷射管8呈半圆状排列,其半圆弧向下,喷射管8穿过脱舟器箱体壁, 喷射管8在脱舟器箱体外的一端焊接在半圆弧形的进液管6上,进液 管6的一端封闭,另一端为进液口 10,和磁力泵的液体出口连接, 喷射管8在脱舟器箱体内的另一端为喷射口 9,喷射口 9在脱舟器箱 体内排列成半圆,喷射管8在脱舟器箱体5内的长度为0.8~1.2厘米, 出液管7焊接在脱舟器箱体壁的底部。
所述喷射口 9在脱舟器箱体内排列成半圆,此半圆的直径比要脱 舟的PBN坩埚1的内径小1~3毫米。
本实用新型的有益效果为,采用喷射甲醇等化学溶剂的方法,利 用流动的化学试剂不断冲击氧化硼薄层,加速氧化硼的溶解,从而縮 短脱舟时间。和浸泡方式相比,由于冲刷过程的存在,脱舟速度明显 提高,化学溶剂也很少浪费,使用效果良好。


图1为PBN坩埚,GaAs晶体和氧化硼薄膜位置示意图; 图2为本实用新型设计原理示意图; 图3为本实用新的主体结构俯视示意图; 图4为本实用新型的主体结构示意图。
图中,1为PBN坩埚,2为氧化硼薄膜,3为GaAs晶体,4为 喷射的化学溶剂液流,5为脱舟器箱体,6为进液管,7为出液管,8 为喷射管,9为喷射口, IO为进液口, ll为出液口。
具体实施方式
如图3和图4所示,VGF法砷化镓单晶用脱舟器的主体为长方 形箱体,脱舟器箱体5的一个端面上焊接一排3~5个喷射管8,喷射 管8呈半圆状排列,其半圆弧向下,喷射管8穿过脱舟器箱体壁,喷 射管8在脱舟器箱体外的一端焊接在以半圆弧形的进液管6上,进液 管6的一端封闭,另一端为进液口 10,和磁力泵的液体出口连接, 喷射管8在脱舟器箱体内的另一端为喷射口 9,喷射口 9在脱舟器箱 体内排列成半圆,喷射管8在脱舟器箱体5内的长度为0.8-1.2厘米, 出液管7焊接在脱舟器箱体壁的底部。
喷射口呈半圆状排列,喷射口的最外缘轮廓线亦半圆状,该半圆 的直径略小于埘埚内径1 3毫米。
要脱舟的PBN坩埚1水平放置于专用的坩埚托上,放于脱舟器 箱体5内,并使喷射口 9可以进入坩埚口内1厘米左右,且坩埚口 内壁和喷射口 9外缘间隔在0.5 lmm,化学溶剂(如甲醇)在磁力泵 的推动下,从进液口 10依次进入进液管6和喷射管8,从喷射口 9 喷出,从坩埚口的上半部分进入PBN坩埚1,喷射的化学溶剂液流4 顺着坩埚壁冲击氧化硼薄膜2,然后沿两侧的坩埚壁流出,完成氧化 硼薄膜2的溶解、冲刷过程,使GaAs晶体3和PBN坩埚1脱离, 化学溶剂从出液管7的出液口 11流回磁力泵。由于喷射的化学溶剂 冲刷氧化硼薄膜,脱舟速度明显提高,还减少化学溶剂的消耗,脱舟 效果好。
本实用新型用于VGF法砷化镓单晶生长工艺。
权利要求1.一种VGF法砷化镓单晶用脱舟器,其特征在于,所述VGF法砷化镓单晶用脱舟器的主体为长方形箱体,脱舟器箱体(5)的一个端面上焊接一排3~5个喷射管(8),喷射管(8)呈半圆状排列,其半圆弧向下,喷射管(8)穿过脱舟器箱体壁,喷射管(8)在脱舟器箱体外的一端焊接在以半圆弧形的进液管(6)上,进液管(6)的一端封闭,另一端为进液口(10)和磁力泵的液体出口连接,喷射管(8)在脱舟器箱体内的另一端为喷射口(9),喷射口(9)在脱舟器箱体内排列成半圆,喷射管(8)在脱舟器箱体(5)内的长度为0.8~1.2厘米,出液管(7)焊接在脱舟器箱体壁的底部。
2. 根据权利要求1所述的一种VGF法砷化镓单晶用脱舟器,其 特征在于,所述喷射口 (9)在脱舟器箱体内排列成半圆,此半圆的 直径比要脱舟的PBN坩埚(1)的内径小1 3毫米。
专利摘要本实用新型公布一种VGF法砷化镓单晶用脱舟器,属半导体材料制备设备领域。脱舟器主体为长方形箱体,箱体的一个端面上焊接一排呈半圆状排列的喷射管,喷射管在脱舟器箱体内有喷射口。化学溶剂在磁力泵的推动下,从进液口依次进入进液管和喷射管,从喷射口喷出,从坩埚口的上半部分进入要脱舟的PBN坩埚,喷射的化学溶剂液流顺着坩埚壁冲击氧化硼薄膜,然后沿两侧的坩埚壁流出,加速氧化硼的溶解,从而缩短脱舟时间。本实用新型用于VGF法砷化镓单晶生长工艺。
文档编号C30B29/10GK201317832SQ20082012399
公开日2009年9月30日 申请日期2008年12月4日 优先权日2008年12月4日
发明者丁国强, 屠海令, 张峰燚, 海 杨, 苏小平, 黎建明 申请人:北京有色金属研究总院;北京国晶辉红外光学科技有限公司
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