专利名称：单晶炉冷却水管防烫装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及单晶炉设备领域，特别是一种单晶炉冷却水管防烫装置。
背景技术：
在单晶炉中冷却炉筒的冷却水管与对炉筒抽真空的真空管存在交汇的地方，冷却水管会依附在真空管道上的，但是由于单晶炉会发生漏硅现象，漏出的硅进入真空管会引起真空管发红，依附在真空管上的冷却水管往往会被烫坏而向外喷水，严重损坏设备。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种单晶炉冷却水管防烫装置，防止冷却水管被烫坏。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是一种单晶炉冷却水管防烫装置，该装置是在单晶炉的真空管上设置防烫支架，防烫支架设置在冷却水管与真空管的交汇处，冷却水管依附在防烫支架上。具体地，防烫支架包括横杆和横杆两端向下延伸的竖杆，竖杆固定在真空管上。本实用新型的有益效果是通过本防烫支架将真空管和冷却水管隔离开来，有效的杜绝了冷却水管被烫坏的现象。
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型作进一步详细的说明；
图1是本实用新型的结构示意图其中1.真空管，2.防烫支架，2-1.横杆，2-2.竖杆，3.冷却水管。
具体实施方式
一种单晶炉冷却水管防烫装置，在单晶炉的真空管1上设置防烫支架2，防烫支架 2设置在冷却水管3与真空管1的交汇处，冷却水管3依附在防烫支架2上。防烫支架2包括横杆2-1和横杆2-1两端向下延伸的竖杆2-2，竖杆2-2固定在真空管1上。
权利要求1.一种单晶炉冷却水管防烫装置，其特征是在单晶炉的真空管(1)上设置防烫支架 O)，防烫支架( 设置在冷却水管C3)与真空管(1)的交汇处，冷却水管C3)依附在防烫支架⑵上。
2.根据权利要求1所述的单晶炉冷却水管防烫装置，其特征是所述的防烫支架(2) 包括横杆和横杆两端向下延伸的竖杆0-2)，竖杆0-2)固定在真空管(1) 上。
专利摘要本实用新型涉及单晶炉设备领域，特别是一种单晶炉冷却水管防烫装置。该装置是在单晶炉的真空管上设置防烫支架，防烫支架设置在冷却水管与真空管的交汇处，冷却水管依附在防烫支架上。通过本防烫支架将真空管和冷却水管隔离开来，有效的杜绝了冷却水管被烫坏的现象。
文档编号C30B35/00GK201962425SQ20112003171
公开日2011年9月7日 申请日期2011年1月29日 优先权日2011年1月29日
发明者戴建中 申请人:常州天合光能有限公司