专利名称：一种用于pcb曝光的凹凸透明胶膜的制作方法
技术领域：
—种用于PCB曝光的凹凸透明胶膜 技术领域[0001]本实用新型涉及到一种PCB外层线路制作生产技术领域，尤其涉及到一种用来对 PCB底片图形曝光的凹凸透明胶膜。[0002]背景技术[0003]目前，PCB在外层线路制作过程中，使用的曝光机主要有两种，一种是手动曝光机， 另一种是CCD自动曝光机。CCD自动曝光机的上下台面均为玻璃；手动曝光机的台面，下面 为玻璃，上面为透明胶膜。[0004]公知，使用玻璃台面的CCD自动曝光机，成像效果好，但购机成本也很高。手动曝 光机虽生产成本低，但需用到各种透明胶膜，曝光时台面需完成抽真空，使透明胶膜面紧贴 PCB板面进行曝光，目前所使用的透明胶膜为双面都十分光滑平整的平面型透明胶膜，抽真 空时，平面型透明胶膜的光滑面不易与PCB板面紧密贴合，会形成一定的空气残留在板面 中间，从而形成许多小小的“空气泡”在上面，这些“空气泡”会造成PCB板曝光不良，图像 失真，所以在完成吸真空操作后，需人工使用赶气棒，在板面上来回擦拭一圈，以赶走中间 残留的空气。该做法不但生产效率低，且易存在吸真空不良，影响PCB的质量。[0005]本实用新型提供的一种用于PCB曝光的凹凸透明胶膜，将平面型透明胶膜改换成 凹凸型透明胶膜，凹凸型透明胶膜上有众多细小纹路，吸真空时，空气会顺着纹路被抽出 去，顺利的被真空泵吸走，不会有空气残留在板面。[0006]发明内容[0007]为实现上述目的，本实用新型主要采用以下技术方案[0008]所述的一种用于PCB曝光的凹凸透明胶膜包括一面是光滑平整的镜面，另一面 是凹凸面，细小纹路。[0009]所述的凹凸面，是上面平均分布有突起物的一面，上面平均分布的突起物是和透 明胶膜一样的PVC材料，在制作时一次成型的，透光率85%。突起物长度和宽度为O. Olmm, 高度为O. 05_。[0010]所述的一种用于PCB曝光的凹凸透明胶膜，将平面型透明胶膜改换成凹凸型透明 胶膜，凹凸型透明胶膜上有众多细小纹路，吸真空时，空气会顺着纹路被抽出去。[0011]所述的纹路，是指由相邻的突起物之间的缝隙，而形成连贯的凹槽，该凹槽的宽度 为 O. 1mm,高度为 O. 05mm。[0012]与现有技术相比，本实用新型提供的一种用于PCB曝光的凹凸透明胶膜，将平面 型透明胶膜改换成凹凸型透明胶膜，凹凸型透明胶膜上有众多细小纹路，吸真空时，空气会 顺着纹路被抽出去，顺利的被真空泵吸走，不会有空气残留在板面，容易导气，吸真空效果 更好，提闻了 PCB的品质，且降低人工赶气时间，减少人员疲劳，提闻生广效率。[0013]
[0014]图1为本实用新型结构示意图。[0015]图2为本实用新型结构侧面图。[0016]图中标识说明PCB板1，透明胶膜2，突起物3。[0017]具体实施方式
[0018]本实用新型的核心构想是将平面型透明胶膜改换成凹凸型透明胶膜，凹凸型透 明胶膜上有众多细小纹路，吸真空时，空气会顺着纹路被抽出去，顺利的被真空泵吸走，不 会有空气残留在板面，容易导气。[0019]为阐述本实用新型的新颖性、实用性、新构想及目的，下面将结合附图和具体实施 例对本实用新型做进一步的说明。[0020]如图1，如图2所示，本实用新型提供的一种用于PCB曝光的凹凸透明胶膜PCB板 1，透明胶膜2，突起物3。具体操作情况如下步骤[0021]首先，在使用手动曝光机进行曝光操作时，用透明胶膜2有突起物3的一面紧贴 PCB板1，上面平均分布的突起物3是和透明胶膜2 —样的PVC材料，在制作时一次成型的， 透光率85%。突起物3长度和宽度为O. Olmm,高度为O. 05mm。[0022]其次，进行抽真空操作，透明胶膜2上有众多细小纹路，空气会顺着纹路被抽出 去，所述的细小纹路，是指由相邻的突起物3之间的缝隙，而形成连贯的凹槽，该凹槽的宽 度为O. 1mm，高度为O. 05mm。完成吸真空操作，吸真空效果好，提高了 PCB的品质，且免除了 人工赶气时间，减少人员疲劳，提高生产效率。[0023]以上对本实用新型所提供的一种用于PCB曝光的凹凸透明胶膜进行了详细介绍， 本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只 是用于帮助理解本实用新型的使用方法及其核心构想；同时，对于本领域的一般技术人员， 依据本实用新型的构想，在具体实施方式
及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明 书内容不应理解为对本实用新型的限制。
权利要求1.一种用于PCB曝光的凹凸透明胶膜，其特征在于包括，光滑平整的镜面、凹凸面和纹路。
2.根据权利要求1所述的一种用于PCB曝光的凹凸透明胶膜，其特征在于所述的凹凸面，是上面平均分布有突起物的一面，突起物长度和宽度为O. Olmm,高度为O. 05mm。
3.根据权利要求1所述的一种用于PCB曝光的凹凸透明胶膜，其特征在于所述的纹路，是指由相邻的突起物之间的缝隙，而形成连贯的凹槽，该凹槽的宽度为O. 1mm，高度为O.05mmo
专利摘要本实用新型公开了一种用于PCB曝光的凹凸透明胶膜，涉及到一种用来对PCB底片图形曝光的凹凸透明胶膜。将平面型透明胶膜改换成凹凸型透明胶膜，凹凸透明胶膜的一面平均分布的突起物，相邻的突起物之间的缝隙，而形成连贯的众多细小纹路，吸真空时，空气会顺着纹路被抽出去，顺利的被真空泵吸走，不会有空气残留在板面，容易导气，吸真空效果更好，提高了PCB的品质，减少人员疲劳，提高生产效率。
文档编号H05K3/00GK202837808SQ20122015131
公开日2013年3月27日 申请日期2012年4月11日 优先权日2012年4月11日
发明者谢伦魁, 刘赟, 张丽萍, 舒时豆 申请人:景旺电子(深圳)有限公司