一种半孔板的生产工艺的制作方法

文档序号:8091229阅读:311来源:国知局
一种半孔板的生产工艺的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种半孔板的生产工艺,用于PCB半孔板的加工,在原有的冲压模具基础上增开弧形半孔精模对半孔板进行半孔处理,它包括以下步骤:(1)外层线路设计;(2)基板图形电镀铜;(3)基板图形电镀锡;(4)半孔处理;(5)退膜;(6)蚀刻。本发明通过在原有的成型模的基础上增开用于半孔成型的半孔精模,通过增开的半孔精模进行半孔处理,不需用钻刀或锣刀进行半孔处理,从而避免了因钻刀或锣刀而拉掉半孔孔边铜皮的情况,适用于批量生产,提高了生产效率,降低了成本。
【专利说明】一种半孔板的生产工艺
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种PCB板生产工艺,特别是涉及一种半孔板的生产工艺。
【背景技术】
[0002]随着科技的进步、电子封装技术的不断发展,越来越多的电子产品用到半孔PCB板,市场需求量越来越大,且对半孔的要求越来越高:半孔越来越小、表面处理多样化、要求半孔的孔铜厚度、半孔的表面光滑性等等。如中国专利申请号:CN2009101071094公开了一种PCB板半孔加工工艺,它包括以下步骤:在线路图形退膜后蚀刻前对基板进行电铣半孔;对基板进行钻孔并沉铜;进行线路图形制作;电铣半孔;蚀刻;阻焊图像制作;进行表面涂覆工艺;基板外形电铣;所述的线路图形制作包括线路图形转移、图形电铣和退膜三个步骤。中国专利申请号:CN2011103536515公开了一种半孔板的加工工艺,它包括以下步骤:
(I)制作塞孔模板,塞孔模板表面开设有多个通孔,所述通孔的位置和大小与所述半空板的半金属化槽/孔相同;(2 )湿膜塞孔;(3 )烤板;(3 )锣板,将经过烤板后的半孔板进行锣板加工;(4)退膜;(5)蚀刻。
[0003]上述的半孔板加工工艺采用电铣和锣板进行半孔成型,其存在以下缺点:
1.处理后的半孔孔边有毛刺;
2.半孔孔边的铜皮会被钻刀或锣刀拉掉;
3.加工速度慢,无法满足批量生产;
4.因钻刀和锣刀的价格昂贵以及使用寿命短,从而增加了半孔板的加工成本。

【发明内容】

[0004]本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种能够有效解决半孔边存在毛刺和拉铜皮问题,加工速度快、成本低的半孔板的生产工艺,通过在原有的冲压模具基础上增开用于半孔成型的弧形半孔精模,通过增开的弧形半孔精模进行半孔处理,不需用钻刀或锣刀进行半孔处理,从而避免因钻刀或锣刀而拉掉半孔孔边铜皮的情况。
[0005]本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:一种半孔板的生产工艺,用于PCB半孔板的加工,它包括以下步骤:
(1)外层线路设计:根据线路原理图设计对PCB板进行外层线路设计,将设计好的PCB板外层线路进行曝光,在曝光过程中采用菲林对点对不要曝光的点位进行档点,曝光在真空条件下进行,其真空度为85?95KPa ;用显影液对曝光后的基板进行显影,使基板裸露出铜层;
(2)基板图形电镀铜:将显影后的基板放入电镀铜溶液中,进行镀铜,进而增强基板的导电性和耐蚀性;
(3)基板图形电镀锡:将电镀铜后的基板进行电镀锡;
(4)半孔处理:半孔精模对电镀后的基板进行半孔处理;
(5)退膜:采用浓度为3%?5%、温度为45°?55°的氢氧化钠溶液对基板进行退膜处理;
(6)蚀刻:加90%~100%的硫酸对蚀刻液进行调节,使得蚀刻液的PH值为8.0~9.0,氯离子的浓度为150g/L~190g/L,铜离子的浓度为130g/L~170g/L,对基板进行蚀刻,使
基板上露出铜面。
[0006]本发明的有益效果是:通过在原有的成型模的基础上增开用于半孔成型的半孔精模,通过增开的半孔精模进行半孔处理,不需用钻刀或锣刀进行半孔处理,从而避免了因钻刀或锣刀而拉掉半孔孔边铜皮的情况,适用于批量生产,提高了生产效率,降低了生产成本。
【具体实施方式】
[0007]下面结合具体实施例进一步详细描述本发明的技术方案,但本发明的保护范围不局限于以下所述。
[0008]【实施例一】一种半孔板的生产工艺,用于PCB半孔板的加工,它包括以下步骤:
(1)外层线路设计:根据线路原理图设计对PCB板进行外层线路设计,将设计好的PCB板外层线路进行曝光,在曝光过程中采用菲林对点对不要曝光的点位进行档点,曝光在真空条件下进行,其真空度为85KPa ;用显影液对曝光后的基板进行显影,使基板裸露出铜层;
(2)基板图形电镀铜:将显影后的基板放入电镀铜溶液中,进行镀铜,进而增强基板的导电性和耐蚀性;
(3)基板图形电镀锡:将电镀铜后的基板进行电镀锡;
(4)半孔处理:半孔精模对电镀后的基板进行半孔处理;
(5)退膜:采用浓度为3%、温度为45°的氢氧化钠溶液对基板进行退膜处理;
(6)蚀刻:加90%的硫酸对蚀刻液进行调节,使得蚀刻液的PH值为8.0,氯离子的浓度为150g/L,铜离子的浓度为130g/L,对基板进行蚀刻,使基板上露出铜面。
[0009]【实施例二】一种半孔板的生产工艺,用于PCB半孔板的加工,它包括以下步骤:
(1)外层线路设计:根据线路原理图设计对PCB板进行外层线路设计,将设计好的PCB板外层线路进行曝光,在曝光过程中采用菲林对点对不要曝光的点位进行档点,曝光在真空条件下进行,其真空度为90KPa ;用显影液对曝光后的基板进行显影,使基板裸露出铜层;
(2)基板图形电镀铜:将显影后的基板放入电镀铜溶液中,进行镀铜,进而增强基板的导电性和耐蚀性;
(3)基板图形电镀锡:将电镀铜后的基板进行电镀锡;
(4)半孔处理:半孔精模对电镀后的基板进行半孔处理;
(5)退膜:采用浓度为4%、温度为50°的氢氧化钠溶液对基板进行退膜处理;
(6)蚀刻:加95的硫酸对蚀刻液进行调节,使得蚀刻液的PH值为8.5,氯离子的浓度为170g/L,铜离子的浓度为150g/L,对基板进行蚀刻,使基板上露出铜面。
[0010]【实施例三】一种半孔板的生产工艺,用于PCB半孔板的加工,它包括以下步骤:
(I)外层线路设计:根据线路原理图设计对PCB板进行外层线路设计,将设计好的PCB
板外层线路进行曝光,在曝光过程中采用菲林对点对不要曝光的点位进行档点,曝光在真空条件下进行,其真空度为95KPa;用显影液对曝光后的基板进行显影,使基板裸露出铜层;
(2)基板图形电镀铜:将显影后的基板放入电镀铜溶液中,进行镀铜,进而增强基板的导电性和耐蚀性;
(3)基板图形电镀锡:将电镀铜后的基板进行电镀锡;
(4)半孔处理:半孔精模对电镀后的基板进行半孔处理;
(5)退膜:采用浓度为5%、温度为55°的氢氧化钠溶液对基板进行退膜处理;
(6)蚀刻:加100的硫酸对蚀刻液进行调节,使得蚀刻液的PH值为9,氯离子的浓度为190g/L,铜离子的浓度为170g/L,对基板进行蚀刻,使基板上露出铜面。
[0011]所述的半孔精模为在原有的PCB板冲压模具上的弧形半孔槽,在原有的PCB板冲压模具的公、母模板上的空置处切割出一弧形半孔槽,并在上下模板、夹板和垫板上开出置针孔位,从而便于在加工过程中冲针的放置以及更换冲针。其半孔处理的具体步骤为:需要作半孔处理的PCB板,将用于半孔成型的剪口安装在弧形半孔槽内,并在上下模板、夹板和垫板的针孔位放置半孔成型冲针,进行冲压成型,制成半孔板;当需要成型板冲压时,将半孔的剪口和冲针取下,装上用于成型板冲压的剪口和冲针,进行冲压。通过在原有的成型模具上切割出一弧形半孔槽,既处理了半孔的问题又不增加其它成本,同时也避免了因钻刀或锣刀而拉掉半孔孔边铜皮的情况,提高了产品的质量。
【权利要求】
1.一种半孔板的生产工艺,在原有的冲压模具基础上增开弧形半孔精模对半孔板进行半孔处理,其特征在于:它包括以下步骤: (1)外层线路设计:将设计好的PCB板外层线路进行曝光,在曝光过程中采用菲林对点对不要曝光的点位进行档点,曝光在真空条件下进行,其真空度为85?95KPa ;用显影液对曝光后的基板进行显影,使基板裸露出铜层; (2)基板图形电镀铜:将显影后的基板放入电镀铜溶液中,进行镀铜,进而增强基板的导电性和耐蚀性; (3)基板图形电镀锡:将电镀铜后的基板进行电镀锡; (4)半孔处理:半孔精模对电镀后的基板进行半孔成型; (5)退膜:采用浓度为3%?5%、温度为45°?55°的氢氧化钠溶液对基板进行退膜处理; (6)蚀刻:加90%?100%的硫酸对蚀刻液进行调节,使得蚀刻液的PH值为8.0?9.0,氯离子的浓度为150g/L?190g/L,铜离子的浓度为130g/L?170g/L,对基板进行蚀刻,使基板上露出铜面。
【文档编号】H05K3/40GK103763861SQ201410050068
【公开日】2014年4月30日 申请日期:2014年2月13日 优先权日:2014年2月13日
【发明者】周小兵 申请人:遂宁市广天电子有限公司
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1