光学膜、使用其的光学阻隔膜、颜色转换膜及背光单元的制作方法

本发明涉及光学膜、使用其的光学阻隔膜、颜色转换膜及背光单元。

背景技术：

液晶显示器是基于电压的施加而透过或遮蔽光从而显示图像的装置。由于液晶显示器需要外部的光源，因此例如使用了发光二极管的背光被用作液晶显示器用的光源。

对于使用了发光二极管的背光，尝试了使用红色、绿色及蓝色这三色的发光二极管来合成白色光的方法，或者藉由通过颜色转换材料从而将蓝色光转换为白色光的方法等。其中，在使用颜色转换材料的方法中，例如通过yag荧光体转换的白色光具有宽的发光光谱，因此与液晶显示器用的滤光片的匹配变差，其结果是，液晶显示器的颜色再现区域变窄。另外，借助yag荧光体转换为白色光需要较多的消耗功率。

然而，即使是使用颜色转换材料的方法，若使用核-壳发光纳米晶体作为颜色转换材料，则蓝色光也转换为由红色、绿色及蓝色的锐利发光光谱构成的白色光。因此，液晶显示器的颜色再现区域扩大，另外，用于转换成白色光的消耗功率也降低(例如参照专利文献1)。在核-壳发光纳米晶体与(例如)粘结剂树脂混合后，可以作为颜色转换膜组装到背光单元中。

核-壳发光纳米晶体在受到空气和水蒸气造成的氧化时，其颜色转换性能变差，因此需要设置用于阻隔空气和水蒸气以保护颜色转换膜的阻隔层。另外，由核-壳发光纳米晶体构成的颜色转换膜在组装到背光单元的情况下，由于担心和与颜色转换膜接触的其它部件的粘连(贴合)，因此在背光中还设置有具有凹凸形状的光扩散片(消光层(マット層))(例如参照专利文献2至4)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特表2010-528118号公报

专利文献2：特许第3790571号公报

专利文献3：特许第5323709号公报

专利文献4：特开2003-270410号公报

技术实现要素：

发明所要解决的课题

用于抑制粘连的具有凹凸形状的消光层和与其相对的部件重叠时，消光层和与其相对的其它部件的表面会发生损伤。另外，若以重叠多片具有这种有凹凸形状的消光层的颜色转换膜的状态进行传送等时，消光层等同样会发生损伤。进而，在背光单元的制造工序中，若在消光层等当中存在尘埃等的异物，则会在消光层等的表面发生损伤。若消光层和与其相对的其它部件的表面发生损伤，则显示器的显示性能下降。

本发明的目的在于提供一种具有消光层的光学膜，其中，该光学膜不仅防止了和与消光层相对的其它部件的粘连，而且消光层和与其相对的其它部件的表面也难以发生损伤。另外，本发明的目的在于提供包含该光学膜、且进一步阻隔性优异的光学阻隔膜、颜色转换膜及背光单元。

解决课题的技术方案

根据本发明的一个方面的光学膜具有透明膜基材和配置于该透明膜基材上的具有凹凸形状的消光层，其中消光层的静摩擦系数为0.3以下，消光层的最大高度粗糙度rz为0.05μm以上8μm以下。根据该光学膜，由于设置有具有适当的凹凸形状的消光层，因此除了抗粘连性之外，还得到了防损伤性。即，得到了这样一种光学膜，其不仅防止了和与消光层相对的其它部件的粘连(贴合)，而且在消光层和与其相对的其它部件的表面上也难以发生损伤。

上述光学膜中，优选的是，消光层包含粘结剂树脂和微粒，微粒的平均粒径为0.5μm以上10μm以下。根据该光学膜，由于微粒的平均粒径为0.5μm以上10μm以下，因此得到具有抗粘连性和防损伤性的具有适当凹凸形状的消光层。

在上述光学膜中，优选的是，消光层包含选自由季铵盐材料、导电性高分子和金属氧化物粒子构成的组中的至少一种。根据该光学膜，由于在消光层中添加了导电性材料，因此赋予消光层防静电性能。因此，减少了尘埃等混入消光层，在背光单元的制造工序等中，在消光层等的表面上所产生的损伤也减少。

在上述光学膜中，消光层的表面电阻值优选为1.0×10¹³ω/□以下。根据该光学膜，由于消光层的表面电阻值为1.0×10¹³ω/□以下，因此展现出了合适的防静电性能。

根据本发明的一个方面的光学阻隔膜具有阻隔层和上述的光学膜，阻隔层配置在光学膜中的透明膜基材的与消光层侧相对一侧的面上。根据该光学阻隔膜，不仅通过消光层展现出了抗粘连性和防损伤性，而且还通过阻隔层适当减少了空气及水蒸气的侵入。

根据本发明的一个方面的光学阻隔膜具有包括透明膜基材和阻隔层的阻隔复合层和上述光学膜，阻隔复合层配置在光学膜中的透明膜基材的与消光层侧相对一侧的面上。根据该光学阻隔膜，不仅通过消光层展现出了抗粘连性和防损伤性，而且还通过阻隔复合层适当减少了空气和水蒸气的侵入。与阻隔层相比，阻隔复合层在工序上产生的损伤、缺陷少，进一步减少了空气和水蒸气的侵入。

在上述光学阻隔膜中，阻隔层优选包含由siox(1.0≦x≦2.0)表示的硅氧化物。根据该光学阻隔膜，由于阻隔层包含合适原子比的硅氧化物，因此在长时间内仍维持其阻隔性。

根据本发明的一个方面的颜色转换膜具有颜色转换层和以夹着该颜色转换层的方式配置的两个光学阻隔膜，其中该两个光学阻隔膜的至少一者为上述的光学阻隔膜。根据该颜色转换膜，不仅表现出抗粘连性和防损伤性，而且通过阻隔层适当减少了空气及水蒸气的侵入，颜色转换膜的颜色转换性能在长时间内得到维持。

根据本发明的一个方面的背光单元具有光源、导光板以及配置于该导光板上的颜色转换膜，其中颜色转换膜以消光层与导光板相接触的方式进行配置。根据该背光单元，可以抑制颜色转换膜所接触的导光板发生损伤。另外，由于还抑制了阻隔层本身发生损伤，因此适当减少了空气及水蒸气侵入颜色转换层，可以在长时间内由背光单元得到良好的白色光。

发明的效果

根据本发明，提供了一种具有消光层的光学膜，该光学膜不仅防止了和与消光层相对的其它部件的粘连，而且消光层和与其相对的其它部件的表面也难以发生损伤。另外，根据本发明，提供了包含该光学膜、且进一步阻隔性优异的光学阻隔膜、颜色转换膜及背光单元。

附图说明

[图1]为根据本发明的实施方案的光学膜的示意性截面图。

[图2]为根据本发明的实施方案的光学阻隔膜的示意性截面图。

[图3]为根据本发明的实施方案的另一光学阻隔膜的示意性截面图。

[图4]为根据本发明的实施方案的颜色转换膜的示意性截面图。

[图5]为根据本发明的实施方案的背光单元的示意性截面图。

具体实施方式

以下参照附图对本发明的优选的实施方案进行详细地说明。需要说明的是，附图中对相同或相当的部分标示相同的符号，从而省略重复说明。另外，关于上下左右等的位置关系，除非特别指明，否则为附图所示的位置关系。进而，附图的尺寸比例不限于图示的比例。

(光学膜)

图1为根据本发明的实施方案的光学膜的示意性截面图。光学膜1具有第1透明膜基材10和消光层11。第1透明膜基材10具有第1面10a和与第1面10a相对的第2面10b。消光层11具有下面11b和具有凹凸形状的凹凸面11a。消光层11的下面11b与第1透明膜基材10的第2面10b贴合，消光层11设置在第1透明膜基材10上。

<第1透明膜基材>

本发明所使用的第1透明膜基材10可以由(例如)有机高分子膜构成。具体来说，第1透明膜基材10可以由(例如)聚乙烯、聚丙烯等的聚烯烃系、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的聚酯系、三乙酰纤维素、二乙酰纤维素、赛璐酚等的纤维素系、6-尼龙、6,6-尼龙等的聚酰胺系、聚甲基丙烯酸甲酯等的丙烯酸系、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚酰亚胺、聚乙烯醇、聚碳酸酯以及乙烯-乙烯醇等的有机高分子构成。

第1透明膜基材10的厚度(例如)优选在5μm以上300μm以下的范围内。若第1透明膜基材10的厚度小于5μm，则第1透明膜基材10的强度下降，且在使用第1透明膜基材10来制作背光单元的工序等中，第1透明膜基材10的处理变得困难。另一方面，若第1透明膜基材10的厚度大于300μm，则在利用辊对辊方式的成膜工序中，第1透明膜基材10的处理变得困难。

<消光层>

用于制作消光层11的消光层组合物(例如)包含粘结剂树脂和微粒。消光层11的凹凸面11a的凹凸形状(例如)由微粒形成。若在第1透明膜基材10上设置消光层11，则在将光学膜1(例如)用作背光单元用的部件时，适当地防止了和与光学膜1相对的其它部件的粘连(贴合)。另外，在光学膜1中，若在第1透明膜基材10上设置消光层11，则对于与光学膜1相对的其它部件和消光层11的凹凸面11a的防损伤效果增大。消光层11的厚度(例如)优选为0.5μm以上30μm以下。消光层11的厚度依照jisk5600、通过质量法进行测定。当消光层11具有该范围的厚度时，消光层11的凹凸面11a易于形成凹凸形状。除了利用微粒的方法以外，消光层11的凹凸面11a的凹凸形状还可以通过(例如)实施压花加工来形成。另外，该凹凸形状还可以通过(例如)使粘结剂树脂等的树脂相分离，而在消光层11中作成海岛结构而形成。在通过这种压花加工或相分离等的方法形成凹凸形状的情况下，消光层11可以含有微粒，也可以不含微粒。

本发明所使用的消光层11的静摩擦系数为0.3以下。消光层11的静摩擦系数更优选为0.25以下。若消光层11的静摩擦系数超过0.3，则对于与光学膜1相对的其它部件以及消光层11的凹凸面11a的防损伤效果下降。消光层11的静摩擦系数(例如)通过变更粘结剂树脂的种类、以及微粒的材质、粒径和配合量等来调整。

另外，本发明所使用的消光层11的最大高度粗糙度rz为0.05μm以上8μm以下。消光层11的最大高度粗糙度rz更优选为5μm以下。若消光层11的最大高度粗糙度rz小于0.05μm，则容易引起和与光学膜1相对的其它部件的粘连。另一方面，若最大高度粗糙度rz大于8μm，则对于与光学膜1相对的其它部件以及消光层11的凹凸面11a的防损伤效果下降。消光层11的最大高度粗糙度rz(例如)通过微粒的粒径和配合量来调整。

<粘结剂树脂>

粘结剂树脂可以为(例如)光学透明性优异的树脂。更具体而言，粘结剂树脂可以由(例如)聚酯系树脂、丙烯酸系树脂、丙烯酸氨基甲酸酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚氨酯丙烯酸酯系树脂、环氧基丙烯酸酯系树脂、氨基甲酸酯系树脂、环氧系树脂、聚碳酸酯系树脂、纤维素系树脂、缩醛系树脂、聚乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、三聚氰胺系树脂、苯酚系树脂、有机硅系树脂等的热塑性树脂、热固性树脂及电离放射线固化性树脂等构成。粘结剂树脂优选为丙烯酸系树脂。丙烯酸系树脂的耐光性及光学特性等优异。

<微粒>

微粒可以是(例如)二氧化硅、黏土、滑石、碳酸钙、硫酸钙、硫酸钡、硅酸铝、氧化钛、合成沸石、氧化铝、蒙皂石等无机微粒，以及由聚丙烯等聚烯烃树脂、尼龙等聚酰胺树脂、丙烯酸氨基甲酸酯树脂、苯乙烯树脂、氨基甲酸酯树脂、苯基胍胺树脂、有机硅树脂、丙烯酸树脂等构成的有机微粒。微粒优选为有机微粒，更优选为由聚烯烃树脂、聚酰胺树脂或有机硅树脂构成的有机微粒。关于有机微粒，容易得到球状粒子，另外，容易控制形状以成为所期望的凹凸形状。微粒不仅可为上述1种，也可以组合多种来使用。

微粒的平均粒径优选为0.5μm以上10μm以下。当平均粒径小于0.5μm时，存在消光层11和其它的背光单元部件等的粘连变得容易发生的倾向。另一方面，当平均粒径超过10μm时，由于微粒的表面凹凸变大，因此存在其它部件的防损伤性下降的倾向。关于微粒的配合量，以消光层11的固体成分总量为基准，优选为2质量％以上80质量％以下，更优选为5质量％以上50质量％以下。当配合量小于2质量％时，存在消光层11和其它的背光单元部件等的粘连变得容易发生的倾向。另一方面，当配合量超过80质量％时，存在其它部件的防损伤性下降的倾向。通过微粒的材质、量、粒径等来控制光学膜1的雾度。

<异氰酸酯固化剂>

消光层11中可以添加异氰酸酯固化剂。若添加异氰酸酯固化剂，则在粘结剂树脂选择具有羟基的树脂的情况下，可以使消光层11热固化。固化剂只要是异氰酸酯系即可，没有特别限定，适宜地使用能够与丙烯酸系多元醇树脂的羟基发生交联的物质，并且该物质基于六亚甲基二异氰酸酯系、苯二甲基二异氰酸酯系等的脂肪族异氰酸酯，或者基于甲苯二异氰酸酯系、二苯基甲烷二异氰酸酯系等的芳香族异氰酸酯。

<导电性材料>

消光层11中可以添加导电性材料。若添加导电性材料，则消光层11的表面电阻值下降。当消光层11的表面电阻值为1.0×10¹³ω/□以下时，由于适当表现出了防静电性能，因此减少了尘埃等混入消光层11，在背光单元的制造工序等中，在消光层11等的表面生成的损伤减少。导电性材料可以包含(例如)季铵盐、金属氧化物粒子以及导电性高分子等。

季铵盐具有-n⁺x^-的结构。由于季铵盐具有季铵阳离子(n⁺)和阴离子(x^-)，从而消光层11展现出导电性。季铵盐的阴离子(x^-)可以是(例如)cl^-、br^-、i^-、f^-、hso4^-、so4^2-、no3^-、po4^3-、hpo4^2-、h2po4^-、so3^-以及oh^-等。作为季铵盐，适当地使用在分子内包含季铵盐作为官能团的丙烯酸系材料。该丙烯酸系材料可以为(例如)在分子内包含季铵盐(-n⁺x^-)作为官能团的多元醇的丙烯酸或甲基丙烯酸酯之类的单官能或多官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，或者由二异氰酸酯和多元醇以及丙烯酸或甲基丙烯酸的羟基酯等合成的多官能的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物等。

金属氧化物粒子(例如)可以由以选自以下物质中的1种或2种以上的金属氧化物为主要成分的材料构成，所述物质为：氧化锆、含锑氧化锡(ato)、含磷氧化锡(pto)、含锡氧化铟、氧化铝、氧化铈、氧化锌、含铝氧化锌、氧化锡、锂盐、含锑氧化锌及含铟氧化锌。

导电性高分子可以由选自聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚苯硫醚、聚(1,6-庚二炔)、聚亚联苯基(聚对亚苯基)、聚对苯硫醚、聚苯乙炔、聚(2,5-亚噻吩基)以及它们的衍生物中的1种或2种以上的混合物构成。

需要说明的是，在含有上述粘结剂树脂和微粒的消光层组合物中，除了导电性材料之外，还可以进一步包含(例如)固化剂、光聚合引发剂、流平剂、润滑剂及溶剂等。

<消光层的制作>

在消光层11的制作工序中，首先，将消光层组合物涂布在第1透明膜基材10上。该涂布采用(例如)辊涂机、逆辊涂布机、凹版涂布机、微凹版涂布机、刮刀涂布机、棒涂机、线棒涂布机、模涂机及浸涂机等。

在将消光层组合物涂布于第1透明膜基材10上之后，进行干燥处理，除去消光层组合物的涂膜中所残留的溶剂。作为干燥处理，例如进行加热及热风等的送风。

对于进行了干燥处理的消光层组合物的涂膜，实施利用再次加热的固化处理或者利用电离放射线照射的固化处理等，由此形成了消光层11。电离放射线(例如)可以为紫外线及电子线。紫外线(例如)由高压水银灯、低圧水银灯、超高压水银灯、金属卤化物灯、碳弧以及氙灯等的光源产生。另外，电子线由(例如)cockroftwald型、范德格拉夫(vandegraaff)型、共振变压型、绝缘芯变压器型、直线型、dynamitron型和高频型等的各种电子线加速器产生。

(光学阻隔膜)

图2为根据本发明的实施方案的光学阻隔膜的示意性截面图。光学阻隔膜可以具有(例如)如图2的(a)～(c)分别示出的3种方式。

图2(a)的第1光学阻隔膜2a具有阻隔层12和光学膜1。第1光学阻隔膜2a具有在阻隔层12上设置有光学膜1的结构，第1透明膜基材10的第1面10a贴合至阻隔层12。

图2(b)的第2光学阻隔膜2b具有阻隔复合层13、粘接层14及光学膜1。阻隔复合层13由第2透明膜基材15和阻隔层12构成。在第2光学阻隔膜2b中，依次设置有阻隔复合层13、粘接层14和光学膜1，阻隔复合层13的阻隔层12与光学膜1的第1透明膜基材10通过粘接层14而贴合。

图2(c)的第3光学阻隔膜2c具有阻隔复合层13、粘接层14和光学膜1。在第3光学阻隔膜2c中，依次设置有阻隔复合层13、粘接层14和光学膜1，阻隔复合层13的第2透明膜基材15和光学膜1的第1透明膜基材10通过粘接层14而贴合。

图3为根据本发明的实施方案的另一光学阻隔膜的示意性截面图。光学阻隔膜可以进一步具有(例如)如图3(a)及(b)分别示出的2种方式。

图3(a)的第4光学阻隔膜3a具有两个阻隔复合层13、两个粘接层14及光学膜1。在第4光学阻隔膜3a中，依次设置有阻隔复合层13、粘接层14、另一阻隔复合层13、另一粘接层14及光学膜1。阻隔复合层13的第2透明膜基材15和另一阻隔复合层13的第2透明膜基材15通过粘接层14而贴合，另外，另一阻隔复合层13的阻隔层12和光学膜1的第1透明膜基材10通过另一粘接层14而贴合。

图3(b)的第5光学阻隔膜3b具有两个阻隔复合层13、两个粘接层14及光学膜1。在第5光学阻隔膜3b中，依次设置有阻隔复合层13、粘接层14、另一阻隔复合层13、另一粘接层14和光学膜1。阻隔复合层13的阻隔层12与另一阻隔复合层13的阻隔层12通过粘接层14而贴合，另外，另一阻隔复合层13的第2透明膜基材15与光学膜1的第1透明膜基材10通过另一粘接层14而贴合。

阻隔层12由(例如)蒸镀薄膜层形成。构成阻隔层12的材料(例如)可以是金属及金属氧化物。用于阻隔层12的金属(例如)可以是铝、铜及银。用于阻隔层12的金属氧化物(例如)可以是选自钇钽氧化物、铝氧化物、硅氧化物及镁氧化物等中的至少1种。金属氧化物优选为硅氧化物。硅氧化物便宜，另外阻断水蒸气等的侵入的阻隔性能优异。构成硅氧化物的氧及硅的o/si比以原子比计优选为1.0以上2.0以下。若o/si比以原子比计小于1.0，则由于交联不足而阻隔性能下降。另外，若o/si比以原子比计大于2.0，则阻隔性能下降。由硅氧化物构成的阻隔层12(例如)通过蒸镀法或溅射法之类的方法来制作。

粘接层14可以包含(例如)由丙烯酸系材料或聚酯系材料等构成的粘接剂和粘合剂。为了将第2光学阻隔膜2b、第3光学阻隔膜2c、第4光学阻隔膜3a及第5光学阻隔膜3b的厚度变薄，期望粘接层14的厚度为(例如)10μm以下。

在第1光学阻隔膜2a、第2光学阻隔膜2b、第3光学阻隔膜2c、第4光学阻隔膜3a或第5光学阻隔膜3b中，不仅通过消光层11表现出了抗粘连性和防损伤性，而且还通过阻隔层12或阻隔复合层13适当减少了空气及水蒸气的侵入。与阻隔层12相比，阻隔复合层13在工序上产生的损伤、缺陷更少，更减少了空气及水蒸气的侵入。

(颜色转换膜)

图4为根据本发明的实施方案的颜色转换膜的示意性截面图。在图4中，颜色转换膜4具有颜色转换层16和两个第2光学阻隔膜2b。颜色转换膜4具有颜色转换层16被两个第2光学阻隔膜2b所夹持的结构。颜色转换层16具有第3面16a和与第3面16a相对侧的第4面16b，第2光学阻隔膜2b贴合至颜色转换层16的第3面16a和第4面16b上。

图4所示的方式为颜色转换膜4的一个例子，除此以外，在颜色转换膜4中，例如可将同样的第1光学阻隔膜2a贴合至颜色转换层16的第3面16a及第4面16b，或者可将同样的第3光学阻隔膜2c贴合至第3面16a及第4面16b。另外，例如，可将同样的第4光学阻隔膜3a或者同样的第5光学阻隔膜3b贴合至颜色转换层16的第3面16a及第4面16b。

此外，例如，可将第1光学阻隔膜2a、第2光学阻隔膜2b、第3光学阻隔膜2c、第4光学阻隔膜3a或第5光学阻隔膜3b中的任一者贴合到颜色转换层16的第3面16a上，另一方面，可将与贴合至第3面16a的光学阻隔膜不同的第1光学阻隔膜2a、第2光学阻隔膜2b、第3光学阻隔膜2c、第4光学阻隔膜3a或第5光学阻隔膜3b中的任一者贴合到第4面16b上。贴合到颜色转换层16的第3面16a及第4面16b的第1光学阻隔膜2a、第2光学阻隔膜2b、第3光学阻隔膜2c、第4光学阻隔膜3a及第5光学阻隔膜3b的组合为任意的。

颜色转换层16将光的特定波长变换成其它波长。颜色转换层16优选(例如)由核-壳发光纳米晶体和粘结剂树脂构成。核-壳发光纳米晶体(例如)由包含无机材料的材料制得。更优选的是，核-壳发光纳米晶体(例如)由包含无机导体或半导体材料的材料制得。

半导体材料(例如)包含ii-vi族、iii-v族、iv-vi族及iv族半导体。更具体而言，半导体材料包含(例如)si、ge、sn、se、te、b、c(包括金刚石)、p、bn、bp、bas、aln、alp、alas、alsb、gan、gap、gaas、gasb、inn、inp、inas、insb、aln、alp、alas、alsb、gan、gap、gaas、gasb、zno、zns、znse、znte、cds、cdse、cdte、hgs、hgse、hgte、bes、bese、bete、mgs、mgse、ges、gese、gete、sns、snse、snte、pbo、pbs、pbse、pbte、cuf、cucl、cubr、cui、si3n4、ge3n4、al2o3、(al、ga、in)2(s、se、te)3和al2co中的任一种，或者这些的2种以上的任意组合。

纳米晶体可以包含(例如)p型或n型的掺杂物。另外，纳米晶体可以包含(例如)ii-vi或iii-v半导体。ii-vi半导体纳米晶体包含(例如)zn、cd及hg等的ii族元素与s、se、te及po等的vi族元素的任意组合。iii-v半导体纳米晶体包含(例如)b、al、ga、in及tl等的iii族元素和n、p、as、sb及bi等的v族元素的任意组合。

在颜色转换膜4中，不仅通过消光层11表现出抗粘连性和防损伤性，而且通过阻隔复合层13适当减少了空气及水蒸气的侵入，颜色转换膜的颜色转换性能在长时间内得到维持。

(背光单元)

图5为根据本发明的实施方案的背光单元的示意性截面图。在图5中，背光单元5具有光源21、导光板22、配置于该导光板上的颜色转换膜4和反射板23。颜色转换膜4以凹凸面4a(或凹凸面4b)(即消光层11)与导光板22接触的方式进行配置。详细来说，在颜色转换膜4的凹凸面4a上依次配置导光板22及反射板23，光源21配置于导光板22的侧面(导光板22的面方向)。背光单元5可以抑制颜色转换膜4所接触的导光板22发生损伤。另外，由于也抑制了阻隔层自身发生损伤，因此可以适当地减少空气及水蒸气侵入颜色转换层中，可以在较长时间内由背光单元得到良好的白色光。

导光板22及反射板23有效地反射并导向从光源21照射的光，可使用公知的材料。作为导光板22，例如可以使用亚克力(acrylic)、聚碳酸酯及环烯烃膜等。导光板22所使用的材料大多不具有大的硬度，存在因与其它部件接触而容易损伤的倾向。特别是，虽然聚碳酸酯因透明性高及加工容易而普遍使用，但是其表面硬度低而容易发生损伤。光源21中设置有(例如)多个蓝色发光二极管元件。该发光二极管元件可以是紫色发光二极管，或者进而是低波长的发光二极管。从光源21所照射的光入射到导光板22(d1方向)上以后，随着反射及折射等而入射到颜色转换层16(d2方向)。在颜色转换层16所产生的黄色光或红色光及绿色光与通过颜色转换层16之前的光混合，从而使得通过颜色转换层16的光成为白色光。

实施例

以下通过本发明的实施例及比较例进一步进行说明，但本发明不限于下述例子。

[实施例1]

使用厚度为25μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，制作了第1透明膜基材。接下来，将消光层组合物涂布在第1透明膜基材上，通过线棒涂布机形成涂膜。接着，将该涂膜在80℃的温度下放置30秒进行加热处理，使涂膜干燥。对于该干燥的涂膜，进行在60℃的温度下放置2天这样的老化，从而制作光学膜。消光层的厚度为3μm。

消光层组合物通过混合100质量份的粘结剂树脂、10质量份的微粒、8.5质量份的异氰酸酯固化剂、2质量份的季铵盐材料和70质量份的溶剂来制作。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为3μm的聚丙烯，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[实施例2]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。另外，通过与实施例1相同的方式制作了消光层组合物。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为2μm的氨基甲酸酯系微粒，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[实施例3]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。另外，通过与实施例1相同的方式制作了消光层组合物。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为6μm的氨基甲酸酯系微粒，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[实施例4]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。另外，通过与实施例1相同的方式制作了消光层组合物。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为6μm的尼龙系微粒，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[实施例5]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。另外，通过与实施例1相同的方式制作了消光层组合物。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为8μm的有机硅系微粒，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[实施例6]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。另外，通过与实施例1相同的方式制作了消光层组合物。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为0.8μm的丙烯酸系微粒，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[实施例7]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。另外，通过与实施例1相同的方式制作了消光层组合物。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为10μm的丙烯酸氨基甲酸酯系微粒，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[实施例8]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。消光层组合物通过混合100质量份的粘结剂树脂、10质量份的微粒、8.5质量份的异氰酸酯固化剂、4质量份的锂盐材料和70质量份的溶剂来制作。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为2μm的氨基甲酸酯系微粒，季锂盐材料使用japancarlit制造的pel-25(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[比较例1]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。另外，通过与实施例1相同的方式制作了消光层组合物。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为15μm的丙烯酸氨基甲酸酯系微粒，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[比较例2]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。另外，通过与实施例1相同的方式制作了消光层组合物。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为20μm的丙烯酸系微粒，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[比较例3]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。另外，通过与实施例1相同的方式制作了消光层组合物。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为10μm的氨基甲酸酯系微粒，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[比较例4]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。另外，通过与实施例1相同的方式制作了消光层组合物。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为15μm的氨基甲酸酯系微粒，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[比较例5]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。消光层组合物通过混合100质量份的粘结剂树脂、8.5质量份的异氰酸酯固化剂、2质量份的季铵盐材料和70质量份的溶剂来制作。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980，季铵盐材料使用共荣社化学制造的lightesterdq100(商品名)。溶剂为乙酸乙酯。

[比较例6]

通过与实施例1相同的方式制作了光学膜。消光层组合物通过混合100质量份的粘结剂树脂、8.5质量份的异氰酸酯固化剂、10质量份的微粒和70质量份的溶剂来制作。粘结剂树脂使用dic公司制造的acrydica-814(商品名)，微粒使用平均粒径为15μm的丙烯酸氨基甲酸酯系微粒，异氰酸酯固化剂使用dic公司制造的burnockdn-980。溶剂为乙酸乙酯。

(光学膜的评价)

根据本发明实施方案的光学膜的评价结果在表1中示出。表1示出实施例及比较例中所得的光学膜的静摩擦系数、最大高度粗糙度rz、防损伤性、抗粘连性及表面电阻值。

<静摩擦系数>

关于实施例及比较例中得到的光学膜的消光层，使用摩擦计测定消光层的静摩擦系数。摩擦计为新东科学公司制造的musetype:94i-ii(商品名)。该摩擦计具有进行了硬铬处理的黄铜滑动器。

<最大高度粗糙度rz>

关于实施例及比较例中所得的光学膜，使用非接触表面·层截面形状测量系统，求出jisb0601:2013所规定的最大高度粗糙度rz。在非接触表面·层截面形状测量系统中，使用ryokasystems公司制造的r3300hlite(商品名)来测量在光学膜的消光层的1mm×1mm的范围的表面形状。

<防损伤性>

以将实施例及比较例中得到的光学膜的消光层和聚碳酸酯膜重叠而成为互相接触的状态，在25kgf/cm²的荷重下放置30秒。之后，通过目视以及显微镜来观察光学膜和聚碳酸酯膜，评价防损伤性。聚碳酸酯膜模仿背光单元的导光板而准备。聚碳酸酯膜的厚度为188μm。将在光学膜的消光层和聚碳酸酯膜上没有辨识出损伤的观察结果评价为“a”，将辨识出损伤的观察结果评价为“b”，将明显辨识出损伤的观察结果评价为“c”。

<抗粘连性>

以将实施例及比较例中得到的光学膜的消光层和聚碳酸酯膜重叠而成为互相接触的状态，在50kgf/cm²的荷重下且在60℃的环境下放置2小时。之后，通过目视观察光学膜和聚碳酸酯膜，评价抗粘连性。抗粘连性表示膜的贴合难度。聚碳酸酯膜模仿背光单元的导光板而准备。聚碳酸酯膜的厚度为188μm。将没有辨识出粘连的观察结果评价为“a”，将辨识出粘连的观察结果评价为“b”，将明显辨识出粘连的观察结果评价为“c”。

<表面电阻值>

关于在实施例及比较例中得到的光学膜的消光层的表面，使用高电阻电阻率计，根据jisk6911测定表面电阻值。高电阻电阻率计使用diainstruments公司制造的hiresta-mcp-ht260(商品名)。

[表1]

与比较例1～6相比，实施例1～8的结果示出了：当消光层的静摩擦系数为0.3以下且jisb0601:2013中规定的最大高度粗糙度rz为0.05μm以上8μm以下时，得到除了抗粘连性外还具有防损伤性的光学膜。这种光学膜可适当地使用于光学阻隔膜和颜色转换膜。

工业实用性

根据本发明，提供了一种具有消光层的光学膜，其不仅防止了和与消光层相对的其它部件的粘连，而且消光层和与其相对的其它部件的表面也难以发生损伤。另外，根据本发明，提供了一种包含该光学膜、且进一步阻隔性优异的光学阻隔膜、颜色转换膜和背光单元。

符号的说明

1…光学膜、2a…第1光学阻隔膜、2b…第2光学阻隔膜、2c…第3光学阻隔膜、3a…第4光学阻隔膜、3b…第5光学阻隔膜、4…颜色转换膜、5…背光单元、10…第1透明膜基材、10a…第1面、10b…第2面、11…消光层、11a…凹凸面、11b…下面、12…阻隔层、13…阻隔复合层、14…粘接层、15…第2透明膜基材、16…颜色转换层、16a…第3面、16b…第4面、21…光源、22…导光板。