一种用于纳米晶合金电磁屏蔽片贴合机的位置控制机构的制作方法

文档序号:16710651发布日期:2019-01-22 22:43阅读:220来源:国知局
一种用于纳米晶合金电磁屏蔽片贴合机的位置控制机构的制作方法

本实用新型涉及电磁屏蔽片制备领域,尤其涉及一种用于纳米晶合金电磁屏蔽片贴合机的位置控制机构。



背景技术:

无线充电技术(wireless charging technology)是一种无需布线的电力传送技术,也称为非接触式感应充电,由供电设备将能量传送到用电装置,发射端(充电器)与接收端(用电装置)之间不用导线连接。由于该充电装置方便携带和使用,首先在移动智能设备中展现出了广阔的应用前景。无线充电技术通过电磁感应、磁共振、无线电波等方式来实现。

目前来看市场增速快的电磁感应技术和前景广阔的磁共振技术对于磁性材料的需求巨大,涉及的磁性材料包括软磁材料、永磁体和纳米晶合金电磁屏蔽片。其中,纳米晶合金电磁屏蔽片在无线充电系统中起增高感应磁场强度和屏蔽线圈磁场的作用。纳米晶合金电磁屏蔽片是由纳米晶原带经过母卷分卷成小卷,然后经过高温退火,通过贴合双面胶将2~6层纳米晶合金电磁屏蔽片进行叠加。

纳米晶原带材料从母卷(1000m以上)上分卷成100~300m规格小卷进行高温退火,由于分卷后的材料收卷较松散(收卷紧退火过程中会褶皱不良),纳米晶屏蔽片在贴合过程中会由内圈到外圈逐渐向两侧中的任一侧滑动,导致纳米晶屏蔽片偏离出胶带范围,目前生产中是通过手动调节位置微调旋钮来调整纳米晶屏蔽片的位置,影响效率,再加上退火后材料韧性很差,手动调整时施加力度不均还可能会导致纳米晶屏蔽片断带,影响良率。



技术实现要素:

为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种用于纳米晶合金电磁屏蔽片贴合机的位置控制机构,本实用新型具有自动实时检测并调整胶带与纳米晶屏蔽片贴合位置的功能,可以更好地应用于纳米晶合金电磁屏蔽片贴合,有效解决现有技术效率低下,合格率低等问题。

本实用新型的具体技术方案为:一种用于纳米晶合金电磁屏蔽片贴合机的位置控制机构,包括屏蔽片放料轴、用于控制屏蔽片放料轴张力的磁粉控制器和纠偏部件。所述纠偏部件包括纠偏感应器、滑轨、连接杆和纠偏电缸;所述纠偏感应器设于屏蔽片放料轴的后续工位上;屏蔽片放料轴固定于磁粉控制器上,磁粉控制器设于所述滑轨上且可沿滑轨来回滑移,滑移方向与纳米晶屏蔽片输送方向垂直;所述连接杆与滑轨平行设置且其两端分别与磁粉控制器和纠偏电缸连接。

本实用新型的工作原理为:胶带经胶带传输机构输送至屏蔽片放料轴处,在屏蔽片放料轴与配套的辅助压合辊作用下纳米晶屏蔽片和胶带贴合后输送至下一工位。

作为优选,所述磁粉控制器、纠偏感应器与配套的纳米晶合金电磁屏蔽片贴合机上的PLC控制器联接。

作为优选,所述纠偏电缸受控于配套的纳米晶合金电磁屏蔽片贴合机上的PLC控制器。

作为优选,所述纠偏感应器为红外感应器。

作为优选,所述纠偏感应器为C字型。

作为优选,所述屏蔽片放料轴上设有位置微调旋钮。

纳米晶原带材料从母卷(1000m以上)上分卷成100~300m规格小卷进行高温退火,由于分卷后的材料收卷较松散(收卷紧退火过程中会褶皱不良),纳米晶屏蔽片在贴合过程中会由内圈到外圈逐渐向两侧中的任一侧滑动,导致纳米晶屏蔽片偏离出胶带范围,目前生产中是通过手动调节位置微调旋钮来调整纳米晶屏蔽片的位置,影响效率,再加上退火后材料韧性很差,手动调整时施加力度不均还可能会导致纳米晶屏蔽片断带,影响良率。

为此,本实用新型进行了改进:在屏蔽片放料轴后方安装纠偏感应器,材料穿过纠偏感应器,纠偏感应器优选采用红外线感应器(现有技术),通过感应屏蔽片边缘(纠偏感应器仅对纳米晶有效,对透明胶带无效)确认材料位置,将信息反馈给PLC控制器(依托现有技术即可实现),PLC控制器控制纠偏电缸伸缩来推动屏蔽片放料轴沿滑轨前后移动,调整屏蔽片位置,达到纠偏目的。通过以上设置,纠偏感应器可以实现实时监测,快速纠正调整纳米晶屏蔽片的位置,同时可以排除手动调节不良影响。

与现有技术对比,本实用新型的有益效果是:

本实用新型具有自动实时检测并调整胶带与纳米晶屏蔽片贴合位置的功能,可以更好地应用于纳米晶合金电磁屏蔽片贴合,有效解决现有技术效率低下,合格率低等问题。

附图说明

图1为本实用新型的一种立体结构示意图;

图2为本实用新型的一种俯视图。

附图标记为:屏蔽片放料轴14、磁粉控制器18、纠偏感应器23、滑轨24、连接杆25、纠偏电缸26、位置微调旋钮27。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型作进一步的描述。

实施例1

如图1-2所示,一种用于纳米晶合金电磁屏蔽片贴合机的位置控制机构,包括屏蔽片放料轴14(设有位置微调旋钮27)、用于控制屏蔽片放料轴张力的磁粉控制器18和纠偏部件。

所述纠偏部件包括C字型的纠偏感应器23(红外感应器,现有技术)、滑轨24、连接杆25和纠偏电缸26;所述纠偏感应器设于屏蔽片放料轴的后续工位上;屏蔽片放料轴固定于磁粉控制器上,磁粉控制器设于所述滑轨上且可沿滑轨来回滑移,滑移方向与纳米晶屏蔽片输送方向垂直;所述连接杆与滑轨平行设置且其两端分别与磁粉控制器和纠偏电缸连接。

本实用新型的工作原理为:胶带经胶带传输机构输送至屏蔽片放料轴处,在屏蔽片放料轴与配套的辅助压合辊作用下纳米晶屏蔽片和胶带贴合后输送至下一工位。

本实用新型在屏蔽片放料轴后方安装纠偏感应器,材料穿过纠偏感应器,纠偏感应器优选采用红外线感应器(现有技术),通过感应屏蔽片边缘(纠偏感应器仅对纳米晶有效,对透明胶带无效)确认材料位置,将信息反馈给PLC控制器(依托现有技术即可实现),PLC控制器控制纠偏电缸伸缩来推动屏蔽片放料轴沿滑轨前后移动,调整屏蔽片位置,达到纠偏目的。通过以上设置,纠偏感应器可以实现实时监测,快速纠正调整纳米晶屏蔽片的位置,同时可以排除手动调节不良影响。

本实用新型中所用原料、设备,若无特别说明,均为本领域的常用原料、设备;本实用新型中所用方法,若无特别说明,均为本领域的常规方法。

以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例,并非对本实用新型作任何限制,凡是根据本实用新型技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效变换,均仍属于本实用新型技术方案的保护范围。

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