一种含锆膜层的镀膜玻璃及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明属化学材料技术领域，具体说是含锆保护层的镀膜玻璃及制备技术。
【背景技术】
[0002]镀膜玻璃已在各领域广泛使用，而在其运输、储藏过程中，玻璃表面的膜层容易划伤、磨损，破坏已镀的玻璃膜层；目前传统的方法是在玻璃膜层外贴PE保护膜，这种方法增添了贴膜、除膜程序，且在贴膜过程中，PE膜与玻璃表面膜之间不可避免形成气泡，该气泡里包含的气体会对玻璃膜形成氧化倾向，影响玻璃表面膜质量，除下来的PE膜是多余的固废物，对环境形成压力。能找到一种代替PE膜的作用，又不用贴膜和除膜程序是最理想的技术。
【发明内容】
[0003]本发明提供一种含锆膜层的镀膜玻璃及其制备方法。
[0004]本发明的技术方案为:一种含锆膜层的镀膜玻璃，包括玻璃基片、镀制于玻璃基片表面的功能膜层、镀制于功能膜层表面的含锆膜层，其中功能膜层可以是一层；也可以是从里往外的保护层、功能层、电介质层叠加的多层，电介质层材料为S1Jt，与含锆膜层附着力最大；含锆膜层材料为SiNx和ZrS1xNy的混合物，该混合物中SiNx重量百分比为50 % -70 %，且58 % -63 %最佳，膜层厚度25_30nm，尤以28nm最优。
[0005]进一步技术方案为:一种含锆膜层的镀膜玻璃制备方法，在于以下步骤:在玻璃基片上用磁控溅射方式沉积功能膜层，再用磁控溅射方式在功能膜层外沉积含锆膜层；上述步骤在真空度0.1Pa真空室内工作，镀层沉积结束，释放真空，充入体积N2/02比小于等于8的保护气体，辊道送镀膜玻璃出真空腔室。SiAl靶5和ZrSiAl靶6还可以调节安装角度、挡板宽度，以便达到最佳的沉积效果。
[0006]本方法得到的含锆膜层镀膜玻璃，可以有效解决传统镀膜基片划伤、摩擦、氧化等问题，具有较高的实用价值和经济价值。
【附图说明】
[0007]图1是含锆膜层镀膜玻璃截面示意图；
[0008]图2是真空室内靶材溅射示意图。
[0009]玻璃基片1，功能膜层2，含锆膜层3，真空室4，SiAl靶5，ZrSiAl靶6，已镀功能膜层2的玻璃基片7。
【具体实施方式】
[0010]为使对本发明的步骤及内容有更进一步的了解与认识，如图1、2所示，用较佳的实施例配合详细的说明如下:
[0011]玻璃基片I已镀过功能膜层2，将已镀功能膜层2的玻璃基片7通过辊道传送至真空室4内，关闭真空室4两端进出口门，抽真空，真空室内达到真空度0.1Pa时，设置在真空室内且在已镀功能膜层2的玻璃基片7上方的SiAl靶5和ZrSiAl靶6通电并旋转，在电场作用下，向已镀功能膜层2的玻璃基片7上表面沉积含锆膜层，沉积到设定的厚度时，真空释放，充入队/02保护气体，保护气体/02体积比小于等于8，已镀功能膜层2的玻璃基片7的功能层2上镀了一层含锆膜层3。SiAl靶5和ZrSiAl靶6还可以调节安装角度、挡板宽度，以便达到最佳的沉积效果，膜层中SiNx所占比例，由于同一环境下，ZrSiAl靶材溅射速率是SiAl靶的60%，含锆膜层材料为SiNx和ZrS1xNy的混合物，该混合物中SiNx重量百分比为50% -70%，膜层厚度25-30nm，。当SiNx在含锆膜层中重量百分比为58% -63%,膜层厚度尤以28nm时，其膜层附着力、耐磨性、耐腐蚀能力、热稳定性最佳。
【主权项】
1.一种含锆膜层的镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片、镀制于玻璃基片表面的功能膜层、镀制于功能膜层表面的含锆膜层；含锆膜层材料为SiNx和ZrS1xNy的混合物，该混合物中SiNx重量百分比为50% -70%，膜层厚度25-30nm。2.根据权利要求1所述的含锆膜层的镀膜玻璃，其特征在于功能膜层为一层或者为从里往外的保护层、功能层、电介质层叠加的多层。3.根据权利要求2所述的含锆膜层的镀膜玻璃，其特征在于功能膜层的电介质层材料为 S1204.根据权利要求1所述的含锆膜层的镀膜玻璃，其特征在于含锆膜层材料中SiNx重量百分比为58% -63%。5.根据权利要求1所述的含锆膜层的镀膜玻璃，其特征在于含锆膜层厚度28nm。6.一种含锆膜层的镀膜玻璃制备方法，其特征在于步骤:在玻璃基片上用磁控溅射方式沉积功能膜层，再用磁控溅射方式在功能膜层外沉积含锆膜层；上述步骤在真空度0.1Pa的真空室内工作，镀层沉积结束，释放真空，充入队/02体积比小于等于8的保护气体，辊道输送含锆膜层玻璃出真空腔室。7.根据权利要求6所述的含锆膜层的镀膜玻璃制备方法，其特征在于SiAl靶(5)和ZrSiAl靶(6)可以调节安装角度、挡板宽度。
【专利摘要】一种含锆膜层的镀膜玻璃及其制备方法，包括玻璃基片、镀制于玻璃基片表面的功能膜层、镀制于功能膜层表面的含锆膜层，含锆膜层材料为SiNx和ZrSiOxNy的混合物，该混合物中SiNx重量百分比为50％-70％，且58％-63％最佳；在玻璃基片上用磁控溅射方式沉积功能膜层，再用磁控溅射方式在功能膜层外沉积含锆膜层；上述步骤在真空度0.1Pa真空室内工作，含锆膜层沉积结束，释放真空，充入N2/O2体积比小于等于8的保护气体，辊道送出含锆膜层玻璃。本方法得到的含锆膜层镀膜玻璃，可以有效解决传统镀膜基片划伤、摩擦、氧化等问题，具有较高的实用价值和经济价值。
【IPC分类】B32B37/10, B32B17/06, B32B15/04, B32B33/00
【公开号】CN104890324
【申请号】CN201510345204
【发明人】吴昌飞, 艾蒙雁
【申请人】芜湖市晨曦新型建材科技有限公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2015年6月19日