隔热隔音垫的制作方法

隔热隔音垫的制作方法
【专利摘要】本发明涉及包含一个或多个隔离垫的一种隔离系统，其中每个所述多层隔离垫包括：?由隔离材料[材料(I)]组成的芯，以及?包封所述芯的壳，所述壳包括至少一个多层组件，该至少一个多层组件包括：(1)由组合物[组合物(C1)]组成的外层[层(L1)]，该组合物包含以下项、优选地由以下项组成：至少一种具有按体积计至少20％的极限氧指数(LOI)的热塑性聚合物[聚合物(1)]，其中所述层(L1)的至少一个表面、优选地该内表面包括一种或多种接枝的官能团[表面(L1?f)]，(2)直接粘附到所述至少一个表面(L1?f)上的由至少一种金属化合物(M1)组成的层[层(L2)]，以及(3)任选地，直接粘附到该层(L2)的相反侧上的由至少一种金属化合物(M2)组成的层[层(L3)]，所述金属化合物(M2)与所述金属化合物(M1)相同或不同。本发明还涉及一种用于制造所述隔离系统的方法并且涉及所述隔离系统在包括飞机应用的多种应用中的用途。
【专利说明】
隔热隔音垫
[0001 ]本申请要求在2013年12月23日提交的欧洲申请号13199363.6的优先权，出于所有 的目的将此申请的全部内容通过引用结合在此。
技术领域
[0002] 本发明设及包含一个或多个隔离垫的一种隔离系统并且设及其在包括飞机应用 的多种应用中的用途。
【背景技术】
[0003] 隔热隔音垫被广泛用于包括飞机应用的多种应用中W便提供隔热和声阻尼。
[0004] 适用于在飞机隔离系统中使用的隔离垫典型地被放置在飞机机身蒙皮壁板与飞 机内侧壁板之间的腔中。运些隔离垫典型地是包含一个或多个防火层的多层组件，该一个 或多个防火层对该隔离垫提供火焰蔓延阻碍，W便在火灾如地面燃料火灾或碰撞后火灾发 生的情况下保护飞机的乘客。
[0005] 火穿透飞机机身所用的时间越长，在被来自该火的烟雾或热熏倒之前，飞机乘客 可W拥有更多的时间来撤离该飞机。
[0006] 根据在14C.F.R.章，第25部分，25.856(a) ,25.856(b)和附录F的第νπ部分中包含 的规定，美国联邦航空管理局(FAA)要求隔热隔音垫W在飞机的某些区域中提供改进的烧 穿保护和火焰传播耐受性。
[0007] 已知的隔热隔音垫通常被包封在膜覆盖物或袋中。FAA烧穿规定主要影响运些隔 离系统袋的内容物，而FAA火焰传播耐受性规定主要影响用来制造运些袋子的膜覆盖物。 [000引在现有技术隔离垫的缺陷中的是，取决于构建的材料，运些垫在福射热源下暴露 于火焰时可能有助于火的传播。
[0009]运些膜覆盖物由此典型地包含阻隔外层，该外层进一步最小化吸湿并且因此由于 在服务期间的水截留的隔离垫的重量增加。
[0010] 例如，US 2013/0092321(尤尼弗瑞克斯I有限责任公司（UNIFRAX I UX);拉马特 公司（LAMART CORPORATION) )18.04.2013描述了阻火层压制件，其中可W将第一聚合物耐 火焰传播膜金属化W最小化吸湿性，特别在外侧上、但是任选地还在内侧上的吸湿性。
[0011] 由此，在本领域对于提供对于气体的更低的透过性W及改进的火焰蔓延耐受性的 适用于在飞机机身隔离系统中使用的持久的、耐热和声的垫仍存在需求。 发明概述
[0012] 现在已经出人意料地发现通过本发明的方法、特别是通过在蚀刻气体的存在下经 由射频辉光放电方法处理聚合物层、随后在其上沉积金属层，提供了隔离系统，该隔离系统 具有增强的层间附着特性和对于气体如水蒸气的更低的透过性，由此有利地提供飞机蒙皮 的改进的抗腐蚀性W及飞机的改进的燃料效率和额定载重量。
[0013] 还已经发现，通过适当地选择该聚合物外层的材料，由此提供的隔离系统成功地 具有出色的火焰蔓延耐受性和良好的机械特性并且有利地是抗断裂性，同时长期维持出色 的柔性。
[0014] 在第一方面，本发明设及包含一个或多个隔离垫的一种隔离系统，其中每个所述 多层隔离垫包括： -由隔离材料[材料(I)]组成的忍，W及 -包封所述忍的壳，所述壳包括至少一个多层组件，该至少一个多层组件包括： (1) 由组合物[组合物(C1)]组成的外层[层化1)]，该组合物包含W下项、优选地由W下 项组成：至少一种具有按体积计至少20%的极限氧指数化01)的热塑性聚合物[聚合物 (1)]，其中所述层化1)的至少一个表面、优选地该内表面包括一种或多种接枝的官能团[表 面化1-f)]， (2) 直接粘附到所述至少一个表面化1-f)上的由至少一种金属化合物(Ml)组成的层 [层化2)]，W及 (3) 任选地，直接粘附到该层化2)的相反侧上的由至少一种金属化合物(M2)组成的层 [层化3)]，所述金属化合物(M2)与所述金属化合物(Ml)相同或不同。
[0015] 在第二方面，本发明设及一种用于制造包含一个或多个隔离垫的隔离系统的方 法，所述方法包括W下步骤： (A) 提供包括多层组件的壳，所述多层组件是通过W下步骤可获得的： (A-i)提供由组合物[组合物(C1)]组成的层[层化1)]，该组合物包含W下项、优选地由 W下项组成:至少一种具有按体积计至少20%的极限氧指数化01)的热塑性聚合物[聚合物 (1)]， (A-ii)在蚀刻气体介质的存在下通过射频辉光放电方法处理所述层化1)的至少一个 表面、优选地内表面， (A-iii)通过无电沉积将由至少一种金属化合物(Ml)组成的层[层化2)]涂覆到如在步 骤(A-ii)中提供的该层化1)的所述至少一个经处理的表面上，W及 (A-iv)任选地，通过电沉积将由至少一种金属化合物(M2)组成的层[层化3)]涂覆到如 在步骤(A-iii)中提供的该层化2)的相反侧上，所述金属化合物(M2)与所述金属化合物 (Ml)相同或不同； (B) 提供由隔离材料[材料(I)]组成的忍;并且 (C) 由该壳包封所述忍。
[0016] 本发明的隔离系统是有利地通过本发明的方法可获得的。
[0017]该层(山有利地是该壳的外层。
[0018] 在第Ξ方面，本发明设及本发明的隔离系统在多种应用中的用途。本发明的隔离 系统适合用于飞机，运输工具如赛车、汽车、火车和公共汽车，航天器如航天飞机和火箭，防 护服如消防员的战斗服上衣和其他装置，在焊接应用或金属加工工业中穿戴的防护服装如 手套、围裙和鞋罩，铸锭模，由水手或军事救援人员穿着的救生衣，隔离垫料，睡袋，管道隔 离，用于炉、烘箱和锅炉的口密封件，W及电线或电缆的热保护。
[0019] 本发明的隔离系统特别适合用于飞机应用中。
[0020] 根据本发明的实施例，本发明的隔离系统典型地进一步包括： (4) 直接粘附到或者层化2)或者层化3)，如果有的话，的相反侧上、由无机材料[材料 (IN)]组成的层[层化4)]， (5) 任选地，直接粘附到层化4)的相反侧上的粘合剂层[层化5)]，W及 (6) 任选地，直接粘附到层化5)的相反侧上的由一种或多种纤维组成的层[层化6)]，该 一种或多种纤维由热塑性聚合物[聚合物(2)]组成，所述聚合物(2)与所述聚合物（1)相同 或不同。
[0021] 根据本发明的此实施例的隔离系统典型地是通过进一步包括W下步骤的本发明 的方法可获得的： (A) 提供包括多层组件的壳，所述多层组件是通过W下步骤可获得的： (A-V)将层化4)涂覆到在步骤(A-iv)中提供的多层组件的或者层化2)或者层化3)(如 果有的话)的相反侧上， (A-vi)任选地，将层化5)涂覆到层化4)的相反侧上，并且 (A-vii)任选地，将层化6)涂覆到层化5)的相反侧上； (B) 提供由隔离材料[材料(I)]组成的忍;并且 (C) 由该壳包封所述忍。
[0022] 该层化1)有利地是该壳的外层。
[0023] 出于本发明的目的，术语"热塑性塑料"应理解为指的是W下的聚合物组合物，该 聚合物组合物在室溫下（低于其玻璃化转变溫度，如果它是无定形的，或者低于其烙点，如 果它是半晶质的）存在，并且它是直链的或支链的（即不是网状的）。当运种聚合物组合物被 加热时它具有变软的特性，并且当它被冷却时具有再次变硬的特性，而没有明显的化学变 化。运样一种定义例如可在称为"聚合物科学词典(Polymer Science Dictionary)"，Mark S.Μ.Alger,伦敦聚合物工艺学院(Xondon School of Polymer Technology),北伦敦理工 大学（Pol}ftechnic of North London)，UK，由爱思唯尔应用科学化Isevier Applied Science)出版，1989,的百科全书中找到。
[0024] 该聚合物（1)有利地具有按体积计至少25%、优选地至少30%的极限氧指数 (L0I)。
[0025] 出于本发明的目的，通过"极限氧指数LOr，它旨在表示支持竖直放置的条带样品 朝下燃烧的在空气混合物中所需要的氧气的最小浓度。高氧浓度要求表明样品的更好的阻 燃性。
[0026] 极限氧指数(L0I)可W根据任何适合的技术来测量。
[0027] 极限氧指数(L0I)典型地根据ASTM D2863标准程序来测量。
[0028] 不特别限制该层化1)的厚度;然而，应理解的是，层化1)将典型地具有至少3μπι、优 选地至少扣m的厚度。具有小于3WI1厚度的层化1)，尽管仍然适用于本发明的隔离系统，但当 要求足够的机械阻力时将不被使用。
[0029] 按照该层化1)的厚度的上限，运没有特别限制，其条件是所述层化1)仍可W提供 特定领域的目标用途所要求的柔性。该层化1)将典型地具有最多20μπι、优选地最多15WI1的 厚度。
[0030] 本领域的技术人员，取决于该聚合物（1)的性质，将选择该层化1)的适当厚度W便 提供所要求的透过性和柔性。
[0031] 聚合物（1)优选地选自由W下各项组成的组： -具有按体积计至少30%的极限氧指数化01)的氣聚合物[聚合物(F)]，W及 -具有按体积计至少30%的极限氧指数化ΟΙ)的聚(芳基酸酬）[聚合物(PAEK)]。
[0032] 术语"氣聚合物[聚合物(F)T'应理解为是指包含衍生自至少一种氣化单体的重复 单元的氣聚合物。
[0033] 通过术语"氣化单体"，它在此旨在表示包含至少一个氣原子的締键式不饱和单 体。
[0034] 术语"至少一种氣化单体"应理解为是指聚合物(F)可W包含衍生自一种或多于一 种氣化单体的重复单元。在本文的其余部分，表述"氣化单体"出于本发明的目的应理解为 是复数和单数形式均可，即它们表示一种或多于一种如W上定义的氣化单体二者。
[0035] 值得注意地，合适的氣化单体的非限制性实例包括W下各项： -C3-C8全氣締控，比如四氣乙締(町?)和六氣丙締化FP); -C2-C8氨化的氣締巧，比如偏二氣乙締（VDF)、氣乙締、1,2-二氣乙締 W及二氣乙締 (化阳）； -具有式C出二CH-Rf 0的全氣烷基乙締，其中Rf 0是Ci-Cs全氣烷基； -氯代-和/或漠代-和/或舰代-C2-C6氣締控，如Ξ氣氯乙締(CT阳）； -具有式CF2 = CFORf 1的（全)氣烷基乙締基酸，其中Rf 1是Ci-Cs氣代-或全氣烷基，例如 CF3X2F5X3F7; -CF2 = CFOXo (全)氣-氧烷基乙締基酸，其中Xo是Ci-Ci2烷基、Ci-Ci2氧烷基或包含一个或 多个酸基的Ci-Ci2 (全)氣氧烷基，如全氣-2-丙氧基-丙基； -具有式CF2 = CFOCFsORf 2的（全)氣烷基乙締基酸，其中Rf 2是Ci-Cs氣代-或全氣烷基，例 如C的、C2F5、C3F7，或包含一个或多个酸基的Ci-Cs (全)氣氧烷基，如-C2F5-O-C的； -具有式CF2 = CF0机的官能的（全)氣代-氧烷基乙締基酸，其中Υο是Ci-Ci2烷基或(全)氣 烷基、Ci-Ci2氧烷基或包含一个或多个酸基的Ci-Ci2(全)氣氧烷基，并且Υο包含簇酸或横酸 基团，呈其酸、酷基面或盐的形式； -氣间二氧杂环戊締，优选全氣间二氧杂环戊締；W及 -具有式CR7l?8 = CR9〇CRl〇Rll(CRl2Rl3)a(0)bCRl4 = CRl5Rl6的可环化聚合单体，其中R?至 Ri6，彼此独立，各自选自-F和C广C3氣烷基，a是0或1，b是0或1，其条件是当a是1时b是0。
[0036] 该聚合物(F)可W进一步包含至少一种氨化单体。
[0037] 通过术语"氨化单体"，它在此旨在表示包含至少一个氨原子并且不含氣原子的締 键式不饱和单体。
[0038] 术语"至少一种氨化单体"应理解为是指该聚合物(F)可W包含衍生自一种或多于 一种氨化单体的重复单元。在本文的其余部分，表述"氨化单体"出于本发明的目的应理解 为是复数和单数形式均可，即它们表示一种或多于一种如W上定义的氨化单体二者。
[0039] 值得注意地，适合的氨化单体的非限制性实例包括，非氣化单体如乙締、丙締，乙 締基单体如乙酸乙締醋，（甲基)丙締酸单体W及苯乙締单体如苯乙締和对-甲基苯乙締。
[0040] 该聚合物(F)可W是半晶质的或无定形的。
[0041 ] 术语"半晶质的"在此旨在表示具有，如根据ASTM D3418-08测量的，从lOJ/g至 90J/g、优选地从30J/g至60J/g、更优选地从35J/g至55J/g的烙解热的聚合物(F)。
[0042]术语"无定形的"在此旨在表示具有，如根据ASTM D-3418-08测量的，小于5J/g、优 选小于3J/g、更优选小于2J/g的烙解热的聚合物(F)。
[0043] 该聚合物(F)典型地选自由W下各项组成的组： -聚合物(F-1)，包含衍生自至少一种选自四氣乙締(TFE)和Ξ氣氯乙締(CTFE)的氣化 单体、W及至少一种选自乙締、丙締 W及异下締的氨化单体的重复单元，任选地含有一种或 多种额外的共聚单体，该一种或多种额外的共聚单体的量典型地为基于TFE和/或CTFEW及 所述一种或多种氨化单体的总量的按摩尔计从0.01%至30%; -聚合物(F-2)，包含衍生自偏二氣乙締(VDF)W及任选地一种或多种不同于VDF的氣化 单体的重复单元； -聚合物(F-3)，包含衍生自四氣乙締(TFE)和至少一种不同于TFE的选自由W下各项组 成的组的氣化单体的重复单元： -具有式CF2 = CF0Rfi'的全氣烷基乙締基酸，其中Rfi'是Ci-Cs全氣烷基； -具有式CF2 = CFOXo的全氣-氧烷基乙締基酸，其中Xo是包含一个或多个酸基团的C广Ci2 全氣氧烷基，如全氣-2-丙氧基-丙基； -C3-C8全氣締控，例如六氣丙締化FP); W及 -具有式(I)的全氣间二氧杂环戊締：
其中Ri、化、R3和R4,彼此相同或不同，独立地选自由W下各项组成的组:-F、任选地包含 一个或多个氧原子的C1-C6氣烷基、W及任选地包含一个或多个氧原子的C1-C6氣烷氧基；W 及 -聚合物（F-4)，包含衍生自至少一种具有式 CR7l?8 = CR9〇CRioRii(CRi2Ri3)a(0)bCRi4 = CR15R16的可环化聚合单体的重复单元，其中R?至Ri6，彼此独立，各自选自-F和C广C3氣烷基，a 是0或1，b是0或1，其条件是当a是1时b是0。
[0044] 该聚合物（F-1)优选地包含衍生自乙締化）W及Ξ氣氯乙締（CTFE)和四氣乙締 (T阳）中的至少一种的重复单元。
[0045] 该聚合物(F-1)更优选地包含： (a) 按摩尔计从30%至48%、优选从35%至45%的乙締巧）； (b) 按摩尔计从52%至70%、优选地从55%至65%的Ξ氣氯乙締（CTFE)、四氣乙締 (T阳)或其混合物；W及 (C)基于单体(a)和(b)的总量，按摩尔计最高达5%、优选地最高达2.5%的一种或多种 氣化和/或氨化的共聚单体。
[0046] 该共聚单体优选地是选自（甲基)丙締酸单体的组的氨化共聚单体。该氨化共聚单 体更优选地是选自由W下各项组成的组:丙締酸径烷基醋共聚单体(如丙締酸径乙基醋、丙 締酸径丙基醋和丙締酸(径基）乙基己基醋），W及丙締酸烷基醋共聚单体(如丙締酸正下基 醋)。
[0047] 在聚合物(F-1)中，优选的是ECWE共聚物，即乙締和CTFEW及任选地第Ξ共聚单 体的共聚物。
[004引适合于本发明的方法的ECWE聚合物典型地具有不超过210°C、优选地不超过200 °C、甚至不超过198 °C、优选地不超过195 °C、更优选地不超过193 °C、甚至更优选地不超过 190°C的烙融溫度。该ECWE聚合物具有有利地至少120°C、优选地至少130°C、还优选地至少 140°C、更优选地至少145 °C、甚至更优选地至少150°C的烙融溫度。
[0049] 根据ASTM D 3418,通过差示扫描量热法(DSC)W10°C/min的加热速率确定该烙融 溫度。
[0050] 已经发现给出特别良好结果的ECWE聚合物是主要由衍生自W下各项的重复单元 组成的那些： (a) 按摩尔计从35%至47%的乙締巧）； (b) 按摩尔计从53%至65%的Ξ氣氯乙締(CT阳）。
[0051] 导致重复单元不同于上述那些的端链、缺陷或少量单体杂质仍可包含在优选的 ECTFE中，而不影响该材料的特性。
[0052] 按照ASTM 3275-81程序在230°C和2.16Kg下测量的该ECWE聚合物的烙体流动速 率的范围通常从O.Olg/lOmin至75g/10min、优选地从0.1 g/lOmin至50g/10min、更优选地从 0.5g/10min至30g/10min。
[0053] 根据ASTM D 3418, W10°C/min的加热速率通过差示扫描量热法(DSC)确定聚合物 (F-1)的烙解热。
[0054] 该聚合物(F-1)典型地具有最多35J/g、优选地最多30J/g，更优选地最多25J/g的 烙解热。
[0055] 该聚合物(F-1)典型地具有至少IJ/g、优选地至少2J/g、更优选地至少5J/g的烙解 热。
[0056] 该聚合物(F-1)有利地是半晶质聚合物。
[0057] 该聚合物(F-2)优选地包含： (a'）按摩尔计至少60 %、优选地按摩尔计至少75 %、更优选地按摩尔计至少85 %的偏 二氣乙締(VD巧；W及 (b '）任选地，按摩尔计从0.1 %至15 %、优选地按摩尔计从0.1 %至12 %、更优选地按摩 尔计从0.1 %至10 %的一种或多种氣化单体，该一种或多种氣化单体选自氣乙締(VFi)、^ 氣氯乙締(CTFE)、六氣丙締化FP)、四氣乙締(T阳）、Ξ氣乙締(Tr阳似及全氣甲基乙締基酸 (PMVE)o
[005引该聚合物（F-2)可W进一步包含按摩尔计从0.01%至20%、优选地按摩尔计从 0.05 %至18%、更优选地按摩尔计从0.1 %至10%的如W上定义的至少一种（甲基）丙締酸 单体。
[0059] 该聚合物(F-3)优选地包含衍生自四氣乙締(TFE)的重复单元W及按重量计至少 1.5%、优选地按重量计至少5%、更优选地按重量计至少7%的衍生自至少一种不同于TFE 的氣化单体的重复单元。
[0060] 该聚合物(F-3)优选地包含衍生自四氣乙締(TFE)的重复单元W及按重量计最多 30%、优选地按重量计最多25%、更优选地按重量计最多20%的衍生自至少一种不同于TFE 的氣化单体的重复单元。
[0061] 该聚合物(F-3)更优选地选自由W下各项组成的组： -聚合物(F-3A)，包含衍生自四氣乙締 (TFE)和至少一种全氣烷基乙締基酸的重复单 元，该至少一种全氣烷基乙締基酸选自由W下各项组成的组:具有式CF2 = CF0C的的全氣甲 基乙締基酸、具有式CF2 = CFOC2Fs的全氣乙基乙締基酸W及具有式CF2 = CF0C3F7的全氣丙基 乙締基酸；W及 -聚合物(F-3B)，包含衍生自四氣乙締 (TFE)和至少一种具有式（I)的全氣间二氧杂环 戊締的重复单元：
其中化、R2、R3和R4,彼此相同或不同，独立地选自由W下各项组成的组:-F，&-C3全氣烧 基（例如-CF3、-C2F5、-C3F7)，W及任选地包含一个氧原子的C1-C3全氣烷氧基（例如-0〔尸3、- OC2F5、-OC3F7、-OCF2CF2OC的）；优选地，其中化=化=-F并且化=R4是&-C3全氣烷基，优选地化 =R4=-C的，或者其中化=R3 = R4 = -F并且化是C广C3全氣氧烷基，例如-0C的、-OC2F5、-OC3F7。
[0062] 值得注意地，适合的聚合物(F-3A)的非限制性实例包括从意大利苏威特种聚合物 公司（Solvay Specialty 化lymers Ualy S.p.A)W商品名.打YFL0'N'9PFA P和Μ系列和 HY：FLON" MFA可商购的那些。
[0063] 该聚合物(F-3B)更优选地包含衍生自四氣乙締(TFE) W及至少一种如W上定义的 具有式（I)的全氣间二氧杂环戊締的重复单元，其中化= R3 = R4=-F并且R2 = -0CF3,或者其 中Ri =化=-F并且化=R4=-C的。
[0064] 值得注意地，适合的聚合物(F-3B)的非限制性实例包括从意大利苏威特种聚合物 公司W商标名HYFLONKAD和从杜邦公司化.I.Du Pont de Nemours and Co.)W TEFLON? AF可商购的那些。
[0065] 该聚合物（F-4)优选地包含衍生自至少一种具有式CR7l?8 = CR9〇CRiqRii ( CRi2Ri3 ) a (0)bCRi4 = CRisRi6的可环化聚合单体的重复单元，其中每个R7至Ri6,彼此独立，为-F，a=l并 且 b = 0。
[0066] 该聚合物(F-4)典型地是无定形的。
[0067] 值得注意地，适合的聚合物（F-4)的非限制性实例包括从旭硝子公司（Asahi G1 asS Company似商标名C YTOP K可商购的那些。
[0068] 该聚合物(F)典型地通过悬浮或者乳液聚合方法制造。
[0069] 在本发明的上下文中，术语"至少一种聚(芳基酸酬)聚合物[聚合物(PAEK)]"旨在 表示一种或多于一种的聚合物(PAEK)。聚合物(PAEK)的混合物可W有利地用于本发明的目 的。
[0070] 出于本发明的目的，术语"聚(芳基酸酬)聚合物[聚合物(PA邸)]"旨在表示包含重 复单元的任何聚合物，其中按摩尔计超过50%的所述重复单元是包含Ar-C(0)-Ar'基团的 重复单元(Rpaek)，其中Ar和Ar'，彼此相同或不同，是包含至少一个芳香族单或多核环的芳 香族部分。运些重复单元(化AEK)总体上选自由具有在此W下的式(J-A)至(J-0)的那些组成 的组：


其中： -每个R'，彼此相同或不同，选自下组，该组由W下各项组成：面素、烷基、締基、烘基、芳 基、酸、硫酸、簇酸、醋、酷胺、酷亚胺、碱金属或碱±金属横酸盐、烷基横酸醋、碱金属或碱± 金属麟酸盐、烷基麟酸醋、胺和季锭； -j'为零或从1至4的整数。
[0071] 在重复单元(化AEK)中，相应的亚苯基部分可W独立地具有1，2-、1,4-或1,3-键联 到在重复单元中不同于R'的其他部分。优选地，所述亚苯基部分具有1,3-或1,4-键联，更优 选地它们具有1,4-键联。
[0072] 尽管如此，在重复单元(Rpaek)中，j'在每次出现时可W为零，也就是说，运些亚苯 基部分除了在聚合物(PAEK)的主链中使得能够进行键联的那些之外，没有其他取代基。
[0073] 优选的重复单元(Rpaek)因此选自由那些具有在此W下的式(J'-A)至(J'-O)组成 的组：


[0074] 在如上所定义的聚合物(PAEK)中，优选地按摩尔计大于60%、更优选地按摩尔计 大于80%、甚至更优选地按摩尔计大于90%的重复单元是如W上定义的重复单元(Rpaek)。
[0075] 尽管如此，总体上优选的是该聚合物(PAEK)的基本上所有的重复单元是如W上定 义的重复单元(Rpaek);可能存在链缺陷或少量的其他重复单元，应理解运些后者不实质性 地改变重复单元(Rpaek)的特性。
[0076] 该聚合物(PAEK)值得注意地可W是均聚物，或共聚物，如无规的、交替的或嵌段的 共聚物。当该聚合物(PAEK)是共聚物时，它可W值得注意地包含（i)具有至少两种不同的选 自式(J-A)至(J-0)的式的重复单元(Rpaek),或（ii)具有一种或多种式(J-A)至(J-0)的重复 单元(Rpaek似及不同于重复单元(Rpaek)的重复单元(R卸AEK)。
[0077] 如之后将详述的，该聚合物(PAEK)可W是聚（酸酸酬）聚合物[聚合物(PEEK)]。可 替代地，该聚合物(PAEK)可W是聚(酸酬酬)聚合物[聚合物(PEKK)]、聚(酸酬)聚合物[聚合 物（PEK)]、聚（酸酸酬酬）聚合物[聚合物（PEEKK)]、或聚（酸酬酸酬酬）聚合物[聚合物 牌KEKK)]。
[0078] 该聚合物(PAEK)还可W是包含选自由W下各项组成的组的如W上定义的至少两 种不同的聚合物(PAEK)的共混物：聚合物（PEKK)、聚合物（PEEK)、聚合物（PEK)和聚合物 牌KEKK)。
[0079] 出于本发明的目的，术语"聚合物(P邸ΚΓ旨在表示包含重复单元的任何聚合物， 其中按摩尔计大于50%的所述重复单元是具有式J'-A的重复单元(Rpaek)。
[0080] 优选地按摩尔计大于75%、更优选地按摩尔计大于85%、甚至更优选地按摩尔计 大于95%、仍更优选地按摩尔计大于99%的聚合物(P邸K)的重复单元是具有式J'-A的重复 单元(Rpaek)。最优选地，该聚合物(阳邸)的所有重复单元是具有式J'-A的重复单元(Rpaek)。
[0081] 出于本发明的目的，术语"聚合物(P邸ΚΓ旨在表示包含重复单元的任何聚合物， 其中按摩尔计大于50%的所述重复单元是具有式J'-B的重复单元(Rpaek)。
[0082] 优选地按摩尔计大于75%、更优选地按摩尔计大于85%、甚至更优选地按摩尔计 大于95%、仍更优选地按摩尔计大于99%的聚合物(PEKK)的重复单元是具有式J'-B的重复 单元(Rpaek)。最优选地，该聚合物(阳KK)的所有重复单元是具有式J'-B的重复单元(Rpaek)。
[0083] 该组合物(Cl)还可W包含一种或多种添加剂，比如，但不局限于，抗冲击改性剂、 增塑剂、加工助剂、填充剂、颜料、抗氧化剂、抗静电剂、表面活性剂、分散助剂和阻燃剂。
[0084] 本领域的技术人员将依赖于该层化1)的厚度来选择该组合物(C1)中一种或更多 种添加剂的合适的量。
[0085] 在本发明方法的步骤(A-i)中，该组合物(C1)典型地使用标准方法制造。
[0086] 可W使用通常的混合装置，如静态混合器和高强度混合器。对于获得更好的混合 效率而言，高强度混合器是优选的。
[0087] 在本发明方法的步骤(A-i)中，该组合物(C1)典型地使用烙融加工技术在烙融相 中进行处理。该组合物(C1)通常是在总体上包含在100°C与300°C之间的溫度下通过挤出穿 过模口来处理，W生成通常被切割用于提供粒料的条状物。双螺杆挤出机是用于实现该组 合物(C1)的烙融混配的优选的设备。
[0088] 通过加工通过传统膜挤出技术如此获得的粒料来典型地制造该层化1)。膜挤出优 选地使用扁平流延膜挤出法或热吹塑膜挤出法来实现。
[0089] 该层化1)优选地还通过一种或多种平面化技术进行加工。
[0090] 值得注意地，适合的平面化技术的非限制性实例包括，双向拉伸、抛光和平面化涂 覆处理。
[0091] 已经发现，通过借助一个或多个平面化技术来进一步加工该层化1)，其表面呈平 滑的W确保该层化2)的更高的层间粘附性。
[0092] 在本发明方法的步骤(A-ii)中，该层化1)的至少一个表面、优选地该内表面通过 在蚀刻气体介质的存在下的射频辉光放电方法进行处理，由此提供包含一种或多种接枝的 官能团的至少一个表面[表面化1-f)]。
[0093] 术语"官能团"在此根据其通常的含义用于表示通过共价键彼此连接的一组原子， 其造成具有该聚合物(1)的表面化1-f)的反应性。
[0094] 出于本发明的目的，术语"接枝的官能团"旨在表示通过接枝到该聚合物（1)的主 链上可获得的官能团。
[00%]出于本发明的目的，术语"接枝"根据其通常的含义用于表示自由基过程，通过该 自由基过程一个或多个官能团被插入到聚合物骨架的表面上。
[0096] 通过在蚀刻气体介质的存在下用射频辉光放电方法来处理该层化1)的至少一个 表面可获得的接枝的官能团典型地包含所述蚀刻气体介质的至少一个原子。
[0097] 通过"射频辉光放电方法"，它在此旨在表示通过射频放大器供能的方法，其中辉 光放电是通过在含有蚀刻气体的电池中的两个电极之间施用电压而产生的。然后，典型地 将如此产生的辉光放电穿过喷射头W到达待处理的材料的表面。
[0098] 通过"蚀刻气体介质"，它在此旨在表示适合于在射频辉光放电方法中使用的气体 或气体的混合物。
[0099] 该蚀刻气体优选地选自由W下各项组成的组:空气、化、N出、CH4、0)2、He、化、此W及 其混合物。
[0100] 该蚀刻气体介质更优选地包含化和/或N出W及，任选地，出。
[0101] 该射频辉光放电方法典型地是在减压下或在大气压下进行的。
[0102] 该射频辉光放电方法优选地是在约760托的大气压下进行的。
[0103] 大气压等离子体具有显著的技术意义，因为与低压等离子体或高压等离子体相 比，无需确保反应容器维持不同于大气压力的压力水平。
[01 04]该射频辉光放电方法典型地在包括在化化与100k化之间的射频下进行。
[0105] 该射频辉光放电方法典型地是在包括在化V与50kV之间的电压下进行。
[0106] 根据本发明方法的第一实施例，在步骤(A-ii)中的射频辉光放电方法产生电晕放 电。
[0107] 本发明方法的此第一实施例的射频辉光放电方法典型地在包括在化化与15kHz之 间的射频下进行。
[0108] 本发明方法的此第一实施例的射频辉光放电方法典型地在包括在化V与20kV之间 的电压下进行。
[0109] 该电晕放电典型地具有包括在1 X 109与1 X l〇i3cnf3之间的密度。
[0110] 根据本发明方法的第二实施例，在步骤(A-ii)中的射频辉光放电方法产生等离子 体放电。
[0111] 本发明方法的此第二实施例的射频辉光放电方法典型地在包括在lOkHz与100曲Z 之间的射频下进行。
[0112] 本发明方法的此第二实施例的射频辉光放电方法典型地在包括在化V与15kV之间 的电压下进行。
[011引该等离子体放电典型地具有包括在IX 1016与IX 10ι%Γ3之间的密度。
[0114] 本
【申请人】已经发现，在蚀刻气体的存在下通过射频辉光放电方法处理该层化1)之 后，该层化1)成功地保持包括其柔性的其本体特性。
[0115] 通过在包含化和/或NH3W及任选地出的蚀刻气体介质存在下，典型地在大气压下， 用射频辉光放电方法处理该层化1)的表面可获得的该层化1)的表面化1-f)的接枝的官能 团的非限制性实例值得注意地包括选自下组的那些，该组由W下各项组成:胺基团（-N出）、 亚胺基团（-CH=NH)、腊基团（-CN)和酷胺基团（-C0N出）。
[0116] 该层化1)的表面化1-f)的接枝的官能团的性质可W通过任何合适的技术、典型地 通过FT-IR技术如禪合到FT-IR技术的衰减全反射(ATR)或通过X射线诱导的光电子能谱 (XPS)技术来确定。
[0117] 本
【申请人】已经出人意料地发现，表面化1-f)被成功地连续粘附到该层化2)上而没 有任何中间的连接层。
[0118] 本
【申请人】还已经发现该表面化1-f)有利地提供了与通过无电沉积涂覆到其上的 层化2)的优异的层间粘附。
[0119] 出于本发明的目的，通过"无电沉积"，它是指典型地在电锻浴中进行的氧化还原 过程，其中在适合的化学还原剂的存在下金属化合物被从其氧化态还原至其元素态。
[0120] 在本发明方法的步骤(A-iii)中，该层化1)的表面化1-f)典型地与无电金属化催 化剂接触，由此提供催化层[层化1。)]。
[0121] 然后，该层化2)典型地是使用包含至少一种源于至少一种金属化合物(Ml)的金属 离子的组合物(C2)通过无电沉积到该层化1。)上可获得的。
[0122] 本
【申请人】认为，运并不限制本发明的范围，该层化1。)是该无电沉积过程的瞬时中 间体，运样使得该层化2)最终被直接粘附至该层化1)的表面化1-f)上。
[0123] 该无电金属化催化剂典型地选自由基于W下各项的催化剂组成的组:钮、销、锭、 银、儀、铜、银和金。
[0124] 该无电金属化催化剂优选地选自钮催化剂(比如PdCl2)。
[0125] 该层化1)的表面化1-f)典型地与该无电金属化催化剂在液相中在至少一种液体 介质的存在下接触。
[01%]该组合物(C2)典型地包含至少一种源于至少一种金属化合物(Ml)的金属离子、至 少一种还原剂、至少一种液体介质W及任选地一种或多种添加剂。
[0127] 该金属化合物(Ml)典型地选自由W下各项组成的组:I?h、Ir、Ru、Ti、Re、Os、Cd、Tl、 饥、Bi、In、Sb、Al、Ti、Qi、Ni、Pd、V、Fe、Cr、Mn、Co、ai、Mo、W、Ag、Au、Pt、I;r、Ru、Pd、Sn、Ge、Ga、 其合金W及其衍生物。
[0128] 该金属化合物(Ml)优选地选自下组，该组由W下各项组成:化、41、化、4肖、？(1、411及 其合金。
[0129] 值得注意地，适合的液体介质的非限制性实例包括水、有机溶剂和离子液体。
[0130] 在有机溶剂中，醇是优选的，如乙醇。
[0131] 适合的还原剂的非限制性实例包括，值得注意的是，甲醒、次憐酸钢W及阱。
[0132] 值得注意地，合适的添加剂的非限制性实例包括盐、缓冲剂和适于增强该液体组 合物中催化剂稳定性的其他材料。
[0133] 该层化2)典型地具有包含在0.05WI1与5WI1之间、优选地在0.8WI1与1.5WI1之间的厚 度。
[0134] 该层化2)的厚度可W通过任何合适的技术、典型地通过扫描电子显微镜（SEM)技 术测量。
[0135] 本发明的方法可W进一步包括步骤(A-iv)，其中通过电沉积将层化3)涂覆到该层 化2)的相反侧上。
[0136] 出于本发明的目的，通过"电沉积"，它是指典型地在电解池中使用电解液进行的 过程，其中使用电流来将金属化合物从其氧化态还原至其元素态。
[0137] 典型地通过电沉积使用包含至少一种源于至少一种金属化合物(M2)的金属离子 的组合物(C3)将该层化3)涂覆到该层化2)的相反侧上。
[0138] 该金属化合物(M2)，与该金属化合物(Ml)相同或不同，典型地选自由W下各项组 成的组：I?h、Ir、Ru、Ti、Re、Os、Cd、TlJb、Bi、In、Sb、Al、Ti、Cu、Ni、Pd、V、Fe、Cr、Mn、Co、Zn、 1〇、胖、4邑、411、？1、^、咖、？(1、511、66、6曰、其合金^及其衍生物。
[0139] 该金属化合物(M2)优选地选自下组，该组由W下各项组成:化、41、化、4肖、？(1、411及 其合金。
[0140] 该组合物(C3)优选地包含至少一种源于至少一种金属化合物(M2)的金属离子、至 少一种金属面化物、W及任选地至少一种离子液体。
[0141] 合适的离子液体的非限制性实例值得注意地包括包含W下各项的那些： -选自由W下各项组成的组的阳离子:硫鐵离子或咪挫鐵、化晚鐵、化咯烧鐵或赃晚鐵 环，所述环任选地在氮原子上特别地被具有1至8个碳原子的一个或多个烷基取代，并且在 碳原子上特别是被具有1至30个碳原子的一个或多个烷基取代，W及 -阴离子，选自由面化物阴离子、全氣化的阴离子和棚酸根组成的组。
[0142] 在本发明方法的步骤(A-iv)中，如果有的话，将该层化2)的相反面有利地连续粘 附到层化3)上。
[0143] 该层化3)典型地具有包含在Ο.?μπι与30μπι之间、优选地在Ιμπι与15μπι之间的厚度。
[0144] 该层化3)的厚度可W通过任何合适的技术、典型地通过扫描电子显微镜（SEM)技 术测量。
[0145] 在本发明方法的或者步骤(A-iii)中或者步骤(A-iv)(如果有的话）中提供的隔离 系统典型地被干燥，优选地在包含在50°C与150°C之间的溫度下、更优选地在包含在100°C 与150°C之间的溫度下。
[0146] 根据本发明的优选的实施例，本发明的隔离系统包括一个或多个隔离垫，其中每 个所述隔离垫包括： -由隔离材料[材料(I)]组成的忍，W及 -包封所述忍的壳，所述壳包括至少一个多层组件，该至少一个多层组件包括： (1) 外层化1)，其中该内表面包含一种或多种接枝的官能团[表面化1-f)]， (2) 直接粘附到所述表面化1-f)的由Cu组成的层化2)，W及 (3) 任选地，直接粘附到该层化2)的相反侧的由至少一种金属组成的层化3)，该至少一 种金属选自化、41、化、4旨、？(1、411^及其合金。
[0147] 本发明的方法还可W进一步包括步骤(A-V)至(A-vii)，其中将一个或多个层涂覆 到层化2)或层化3)(如果有的话)的相反侧上。
[0148] 本发明的隔离系统的忍典型地由隔离材料[材料（I)]组成，该隔离材料选自泡沫 材料和有机或无机纤维材料。
[0149] 该层化4)典型地由选自由无机小片材料组成的组的无机材料[材料(IN)]组成。
[0150] 该层化5)典型地被用来使该壳的多层组件的层彼此粘附。
[0151] 该层化5)典型地由选自下组的材料组成，该组由W下各项组成:基于聚醋的粘合 剂层、基于聚氣乙締的粘合剂层、基于娃酬的粘合剂层W及其混合物。
[0152] 该层化5)可W进一步包含至少一种阻燃添加剂，该至少一种阻燃添加剂选自錬化 合物、水合氧化侣化合物、棚酸盐、碳酸盐、碳酸氨盐、无机面化物、憐酸盐、硫酸盐、有机面 素或有机憐酸盐。
[0153] 该层化6)典型地是由选自下组的聚合物（2)组成的织造织物，该组由W下各项组 成:聚酷胺、聚醋、聚酷亚胺和聚(芳基酸酬）。
[0154] 在本发明方法的步骤(A-V)至(A-vii)中的任何一项中，如果有的话，运些层典型 地通过本领域通常已知的技术被涂覆到彼此之上。
[0155] 在常规技术中，可W值得注意地提及的是烙体加工技术，比如共层压、共挤出（例 如共挤出-层压、共挤出-吹塑和共挤出-模制）、挤出涂覆、涂覆、包覆注塑模制或共注塑模 制技术。
[0156] 运些技术的一种或其他的选择典型地是基于所述层的每一个的材料和其厚度而 做出的。
[0157] 若任何通过引用结合在此的专利、专利申请W及公开物的披露内容与本申请的描 述相冲突的程度到了可能导致术语不清楚，则本说明应该优先。
[0158] 现在将参考W下实例更详细地说明本发明，运些实例的目的仅仅是说明性的并且 并不限制本发明的范围。
[0159] 原料
[0160] W商品么KETASPHIE'呵商购的阳邸[阳邸-1]。
[0161] 水蒸气透过性的评价 水蒸气透过性是根据ASTM F1249标准测试程序借助于水蒸气透过率(WVTR)测量的。 WTR代表每单位面积每单位时间每单位气压穿过单位厚度的材料的水蒸气的体积。在38Γ 下在90%的相对湿度下测量WVTR。
[0162] 实例1-隔离系统的制造
[0163] 1-A-阳邸-1层的制造 PE邸-1层通过在配备有2.5"的单级挤出机的共挤出流延膜生产线上加工PE邸-1粒料 来制造。该挤出机被连接到扁平的自动计量(auto-gauge)模口。当从该模口退出时，将烙融 的带在Ξ个后续的冷却漉上流延，调节其速度W获得希望的膜厚度。总厚度和沿着宽度的 厚度变化是由β-射线计量控制系统来控制并反馈到模口。
[0164] 1-Β-表面改性 根据实例1-Α获得的ΡΕ邸-1层在大气压下通过射频等离子体放电方法进行处理。蚀刻 气体是化(按体积计95 % )和出(按体积计5 % )的混合物。工作频率是40曲Ζ并且电压是20kV。 已经通过XPS分析发现，如此处理过的PEEK-1层的表面包含含有氮基团的官能团 (2.87At%)〇
[01化]1-C-金属化过程 根据实例1-B获得的PEEK-1层通过无电锻涂覆有金属铜。在铜沉积之前，将如此处理过 的PEEK-1层通过浸入含有0.03g/L的PdCl2的水溶液中持续1分钟来进行活化，导致该经处 理的PEEK-1层完全W高密度涂覆有Pd颗粒。然后将该活化的PEEK-1层浸入含有lOg/L的 化S〇4和0.0Ig/L的甲醒的水性电锻浴中。该电锻溫度是化°C并且其pH值是4。
[0166] 对比实例1 根据实例1-A获得的PE邸-1层原样提供。如通过XPS分析确认的，该PE邸-1层的表面不 包含含有氮基团的官能团。
[0167] 已经发现根据本发明的隔离系统的金属化的聚合物（1)层有利地提供如与未经处 理的聚合物（1)层相比更低的水蒸气透过性(参见在此W下的表1)。 表1
[0168] 根据本发明的隔离系统由此特别适合用于飞机应用中。
【主权项】
1. 一种用于制造包括一个或多个隔离垫的隔离系统的方法，所述方法包括W下步骤： (A) 提供包括多层组件的壳，所述多层组件是通过W下步骤可获得的： (A-i)提供由组合物[组合物(C1)]组成的层[层化1)]，该组合物包含W下项、优选地由 W下项组成:至少一种具有按体积计至少20%的极限氧指数化01)的热塑性聚合物[聚合物 (1)]， (A-ii)在蚀刻气体介质的存在下通过射频辉光放电方法处理所述层化1)的至少一个 表面、优选地内表面， (A-iii)通过无电沉积将由至少一种金属化合物(Ml)组成的层[层化2)]涂覆到如在步 骤(A-ii)中提供的该层化1)的所述至少一个经处理的表面上，W及 (A-iv)任选地，通过电沉积将由至少一种金属化合物(M2)组成的层[层化3)]涂覆到如 在步骤(A-iii)中提供的该层化2)的相反侧上，所述金属化合物(M2)与所述金属化合物 (Ml)相同或不同； (B) 提供由隔离材料[材料(I)]组成的忍;并且 (C) 由该壳包封所述忍。2. 根据权利要求1所述的方法，其中该层化1)是该壳的外层。3. 根据权利要求1或2所述的方法，其中该聚合物（1)选自下组，该组由W下各项组成： -具有按体积计至少30%的极限氧指数化01)的氣聚合物[聚合物(F)]，W及 -具有按体积计至少30%的极限氧指数化01)的聚(芳基酸酬）[聚合物(PAEK)]。4. 根据权利要求3所述的方法，其中该聚合物(F)选自下组，该组由W下各项组成： -聚合物(F-1)，包含衍生自至少一种选自四氣乙締（TFE)和Ξ氣氯乙締(CTFE)的氣化 单体、W及至少一种选自乙締、丙締 W及异下締的氨化单体的重复单元，任选地含有一种或 多种额外的共聚单体，该一种或多种额外的共聚单体的量典型地为基于TFE和/或CTFEW及 所述一种或多种氨化单体的总量的按摩尔计从0.01%至30%; -聚合物(F-2)，包含衍生自偏二氣乙締(VDF)W及任选地一种或多种不同于VDF的氣化 单体的重复单元； -聚合物(F-3)，包含衍生自四氣乙締(TFE)和至少一种不同于WE的选自由W下各项组 成的组的氣化单体的重复单元： -具有式CF2 = CF0Rfi'的全氣烷基乙締基酸，其中Rfi'是C广C6全氣烷基； -具有式CF2 = CFOXo的全氣-氧烷基乙締基酸，其中Xo是包含一个或多个酸基团的Ci-Ci2 全氣氧烷基，如全氣-2-丙氧基-丙基； -C3-C8全氣締控，例如六氣丙締(HFP); W及 -具有式(I)的全氣间二氧杂环戊締：其中Rl、R2、R3和R4，彼此相同或不同，独立地选自由W下各项组成的组:-F、任选地包含 一个或多个氧原子的C1-C6氣烷基、W及任选地包含一个或多个氧原子的C1-C6氣烷氧基；W 及 -聚合物（F-4)，包含衍生自至少一种具有式 CR7l?8 = CR9〇CRioRii(CRi2Ri3)a(0)bCRi4 = CRi日Ri6的可环化聚合单体的重复单元，其中R?至化6，彼此独立，各自选自-F和&-C3氣烷基，a 是0或1，b是0或1，其条件是当a是1时b是0。5. 根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中该蚀刻气体介质选自由W下各项组成 的组：空气、N2、畑3、邸4、C〇2、化、〇2、出W及其混合物。6. 根据权利要求5所述的方法，其中该蚀刻气体介质包含化和/或NH3W及，任选地，出。7. 根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中该金属化合物(Ml)选自由W下各项组 成的组：I?h、Ir、Ru、Ti、Re、Os、Cd、TlJb、Bi、In、Sb、Al、Ti、Cu、Ni、Pd、V、Fe、Cr、Mn、Co、Zn、 1〇、胖、4邑、411、？1、^、咖、？(1、511、66、6曰、其合金^及其衍生物。8. 根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中在步骤(A-iv)中，如果有的话，通过电 沉积将该层化3)涂覆到该层化2)的相反侧上。9. 根据权利要求8所述的方法，其中该金属化合物(M2)，与该化合物(Ml)相同或不同， 选自由 W下各项组成的组：I^、Ir、Ru、Ti、Re、Os、Cd、TlJb、Bi、In、Sb、Al、Ti、Cu、Ni、Pd、V、 Fe、Cr、Mn、Co、al、Mo、W、Ag、Au、Pt、Ir、Ru、Pd、Sn、Ge、Ga、其合金W及其衍生物。10. -种通过根据权利要求1至9中任一项所述的方法可获得的隔离系统，所述隔离系 统包括一个或多个隔离垫，其中每个所述多层隔离垫包括： -由隔离材料[材料(I)]组成的忍，W及 -包封所述忍的壳，所述壳包括至少一个多层组件，该至少一个多层组件包括： (1) 由组合物[组合物(C1)]组成的外层[层化1)]，该组合物包含W下项、优选地由W下 项组成：至少一种具有按体积计至少20%的极限氧指数化01)的热塑性聚合物[聚合物 (1)]，其中所述层化1)的至少一个表面、优选地该内表面包括一种或多种接枝的官能团[表 面化1-f)]， (2) 直接粘附到所述至少一个表面化1-f)上的由至少一种金属化合物(Ml)组成的层 [层化2)]，W及 (3) 任选地，直接粘附到该层化2)的相反侧上的由至少一种金属化合物(M2)组成的层 [层化3)]，所述金属化合物(M2)与所述金属化合物(Ml)相同或不同。11. 通过根据权利要求6所述的方法可获得的隔离系统，其中该表面化1-f)包括一种或 多种选自下组的接枝的官能团，该组由W下各项组成:胺基团（-N此）、亚胺基团（-CH=NH)、 腊基团（-CN)和酷胺基团（-C0N出）。12. 根据权利要求10或11所述的隔离系统，其中该层化2)具有包含在0.05μπι与扣m之 间、优选地在0.祉m与1.5皿之间的厚度。13. 根据权利要求10至12中任一项所述的隔离系统，其中该层化3)，如果有的话，具有 包含在0.1皿与30皿之间、优选地在1皿与15皿之间的厚度。14. 根据权利要求10至13中任一项所述的隔离系统在飞机应用中的用途。
【文档编号】B32B27/06GK105848874SQ201480070678
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2014年12月23日
【发明人】P.科约卡鲁, S.摩塔拉, F.M.特里厄尔齐, M.阿波斯托罗
【申请人】索尔维特殊聚合物意大利有限公司