一种防指纹壳体的制作方法

文档序号:9961078来源:国知局
一种防指纹壳体的制作方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及具有防指纹功能的壳体。
【背景技术】
[0002] 手机、电脑等电子设备在日常使用中,用户手指接触后会残留指纹痕迹,同时还有 外界的污物,如灰尘等也容易掉落到产品外壳上,影响表面的清洁度,如何简单的去除和防 止这些污物越来越受人们关注。防指纹膜是一种同时具有疏水性和疏油性的薄膜,不易粘 附外界的灰尘及污物,且即使被灰尘、指纹等污染也较易去除。
[0003] 但通常情况下,防指纹膜与基才之间的附着力普遍较差,容易从基材表面剥离,影 响使用效果及使用寿命。 【实用新型内容】
[0004] 为解决防指纹层在基材上易磨损、易脱离的问题,本实用新型的提供了一种防指 纹壳体,可以使防指纹层在壳体基材上形成良好附着。
[0005] 本实用新型提供一种防指纹壳体,所述防指纹壳体包含壳体基材,壳体基材上依 次设置有氧化铝层,SiO2缓冲层和防指纹层,所述壳体基材为铝或铝合金。所述防指纹层为 疏水性和疏油性的含氟高分子聚合物。这种防指纹壳体具有良好的防指纹能力,同时壳体 基材上的防指纹膜附着紧密,不易发生脱落。
[0006] 如本实用新型的一个实施例,所述氧化铝层的厚度为15~25nm。氧化铝层的厚度 应控制在一定的范围内,厚度过高则容易发生爆膜,同时影响膜层色泽;厚度过低则影响与 其他膜层的附着效果。
[0007] 如本实用新型的一个实施例,所述Si02缓冲层厚度为15~30nm。
[0008] 如本实用新型的一个实施例,所述防指纹层厚度为8~15nm。
[0009] 如本实用新型的一个实施例,所述氧化铝层中还包含有第一过渡层,所述第一过 渡层含有Al2O3和SiO2。
[0010] 如本实用新型的一个实施例,所述SiOgl冲层与防指纹层之间有第二过渡层,所 述第二过渡层含有Si、F和0元素。
[0011] 有本实用新型获得的防指纹壳体具有良好的防指纹特性,防指纹膜与壳体之间连 接紧密,不易脱落,同时,其耐划伤性能有一定程度的提高。
【附图说明】
[0012] 图1为本实用新型壳体一个实施例的层次结构示意图;
[0013] 其中:10 壳体基材;11 氧化错层;12 3;10 2缓冲层;13 防指纹层。
【具体实施方式】
[0014] 为了使本实用新型所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下 结合附图及实施例,对本实用新型作进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例 仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
[0015] 如图1 :其是显示本实用新型防指纹壳体的结构示意图。该防指纹壳体依次包括 壳体基材10,氧化铝层ll,Si02缓冲层12以及防指纹层13。其中,壳体基材10选自铝,铝 合金中的一种。氧化铝层11直接附着在壳体基材上,可以有效改善强壳体基材10与SiO2缓冲层12的结合力。为了进一步确保防指纹层在壳体基材10上的附着效果,氧化铝层11 厚度在15~25nm之间时能充分发挥在壳体基材10与SiO2缓冲层12与防指纹层13之间的 介质连接作用;SiO2缓冲层12厚度为15~30nm,膜层制作过程中,磁控溅射SiO2缓冲层时其 中部分SiO2会进入氧化铝层内部,与氧化铝中的Al 203混合形成第一过渡层,第一过渡层中 具有Al2O3和SiO2形成的物理渗透结合结构,可以进一步增强防指纹膜层间的结合力。同 时,SiOgl冲层中的部分SiO2会与防指纹层13中的部分F元素结合,形成含有Si-F复合 结构的第二过渡层。最外的防指纹层13厚度在8~15nm之间为最佳,太厚影响壳体色泽,太 薄则防指纹效果欠佳。
[0016] 防指纹壳体的制备工艺:通过采用磁控溅射镀膜与蒸发镀膜相结合,在真空度为 8X10 3Pa~5X10 3Pa 情况下,通入 Ar 和 02,Ar 流量为 300~600sccm ;02流量为 200~400sccm。 先打开铝靶,功率为9KW,镀膜15~30min后,关闭铝钯,获得氧化铝层11 ;之后,调整氧气流 量,打开硅靶,功率在3~5KW之间,镀膜30~45min后,关闭硅靶,获得SiO2缓冲层12 ;关闭气 流,打开蒸发镀电源,在三个不同的电压档位下镀防指纹层13,所述电压档位为第一档电压 为10~30V,第二档电压为30~35V,第三档电压为35~45V。关闭蒸发镀电源,镀膜完毕,炉内 冷却后即可得所需产品。
[0017] 在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语"设置"、"连接"、"相连"等应 做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也 可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连 通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解 上述术语在本发明中的具体含义。
[0018] 实施例1
[0019] 样品基材为压铸铝合金;膜层从内至外依次为氧化铝层、SiO2缓冲层和防指纹层。
[0020] 制作方法:采用真空镀膜机(型号SP-1912ASI-XH)设备,在6X 10 3Pa真空条件下 通入Ar和O2,打开铝钯,在9KW的功率下镀膜20min后关闭铝钯,获得氧化铝层。调整02流 量,打开硅钯,在3KW的功率下镀膜40min后关闭硅钯,即获得SiOgl冲层。
[0021 ] 关闭气体,在I. 0 X 10 2Pa的真空条件下打开蒸发镀装置,在28V电压下蒸镀2min, 33V下蒸镀2min,38V下蒸镀6min,即可得防指纹层。关闭蒸发镀电压,镀膜完成。炉内冷 却5min后,获得样品A1。
[0022] 对比例1
[0023] 样品基材为压铸铝合金;膜层从内至外依次为SiO2和防指纹层。
[0024] 制作方法:采用真空镀膜机(型号SP-1912ASI-XH)设备,在6X 10 3Pa真空条件下 通入Ar和O2,打开硅钯,在3KW的功率下镀膜40min后关闭硅钯,即获得SiOgl冲层。
[0025] 关闭气体,在1.0 X 10-2的真空条件下打开蒸发镀装置,在28V电压下蒸镀2min, 33V下蒸镀2min,38V下蒸镀6min,即可得防指纹层。关闭蒸发镀电压,镀膜完成。炉内冷 却5min后,获得样品Dl。
[0026] 性能测试:
[0027] 测试样品水接触角,使用下述测试1中方法测试样品水接触角值,水接触角测试 值越高,说明疏水性越好;通常要求初始值大于90°,则产品防指纹性合格,否则为不合 格。耐摩擦性能测试,用下述测试2中的方法样品表面进行摩擦后,测试样品表面的水接触 角,水接触角测试值变化越小,说明耐摩擦性能越好;通常变化值在20°以内为合格。
[0028] 测试1、水接触角测试:采用东莞康迪电子CA07电子水滴接触角量测仪,对上述制 备的样品AU Dl进行测试。
[0029] 测试2、耐摩擦测试:使用韩国MINOAN耐磨橡皮擦,橡皮擦荷重为500g,对样品 AUDI进行500次往返摩擦。摩擦后使用水滴接触角量测仪对摩擦后样品水接触角进行测 试。
[0030] 测试结果见下表:
[0032] 根据上述的测试结果可以看出:按照本实用新型提供的技术方案获得的防指纹壳 体具有优良的防指纹特性,同时,防止指纹膜层与壳体基材间还具有更好的附着力。
[0033] 以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本 实用新型的特征和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型 的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种防指纹壳体,其特征在于,所述壳体包含壳体基材,壳体基材上依次设置有氧化 铝层,SiO 2缓冲层和防指纹层;所述壳体基材为铝或铝合金。2. 如权利要求1所述的防指纹壳体,其特征在于,所述氧化铝层的厚度为15~25nm。3. 如权利要求1所述的防指纹壳体,其特征在于,所述SiOgl冲层为15~30nm。4. 如权利要求1所述的防指纹壳体,其特征在于,所述防指纹层厚度为8~15nm。5. 如权利要求1所述的防指纹壳体,其特征在于,所述氧化铝层与SiO 2缓冲层之间有 第一过渡层。6. 如权利要求1所述的防指纹壳体,其特征在于,所述SiO 2缓冲层与防指纹层之间有 第二过渡层。
【专利摘要】为解决防指纹层在基材上易磨损、易脱离的问题,本实用新型提供了一种防指纹壳体,依次包括壳体基材,氧化铝层,SiO2缓冲层和防指纹层,具有良好的防指纹效果,同时防指纹层与壳体基材间有良好的附着力,不易脱落。
【IPC分类】B32B9/04, B32B15/04
【公开号】CN204869869
【申请号】CN201520264386
【发明人】吴涛, 王继厚, 陈梁
【申请人】比亚迪股份有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年4月28日
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