一种镭射膜的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于镭射领域，具体涉及一种镭射膜。
【背景技术】
[0002]全息镭射产品由于优异的外观表现力，广泛应用于各种烟包产品及高档社会类包，现有的激光全息镭射膜材料太过于炫目，在一定环境下，从材料穿出的光线让用户产生不适感，不利于用户很好的使用。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是为了解决上述技术的不足，提供一种效果强，反光弱的镭射膜。
[0004]根据本实用新型的发明目的，本实用新型提供了一种镭射膜，包括镭射膜基层，所述镭射膜基层一侧由里向外依次设有镀铝层、第一胶黏剂层、油墨层及设在油墨层外层的第一保护层；所述镭射膜基层另外一侧由里向外依次设有第二保护层、第二胶黏剂层、及设置在外层的热封层，其中，所述第一保护层用于保护油墨层形成的图案不能轻易被擦除或刮花，所述第二保护层以降低射出镭射膜基层的光线强度。
[0005]进一步的，所述第一保护层和第二保护层分别为透明材质和聚酯薄膜。
[0006]进一步的，所述第一胶黏剂层和第二胶黏剂层分别为聚氨酯和丙烯酸。
[0007]进一步的，所述热封层为聚乙烯或者聚丙烯。
[0008]进一步的，所述第一保护层的厚度在0.12mm-0.40mm之间。
[0009]进一步的，所述第二保护层的厚度在0.12mm-0.15mm之间。
[0010]本实用新型提供的镭射膜加工方便，削光效果好，使用效率高，损耗小，无任何镭射阴影。
【附图说明】
[0011]构成本说明书的一部分、用于进一步理解本实用新型的附图示出了本实用新型的优选实施例，并与说明书一起用来说明本实用新型的原理。
[0012]在图中:
[0013]图1为本实用新型提供的镭射膜的结构示意图。
[0014]其中，附图标记:
[0015]10为第一保护层、20为油墨层、30为第一胶黏剂层、40为镀铝层、50为镭射薄膜基层、60为第二保护层、70为第二胶黏剂层、80为热封层。
【具体实施方式】
[0016]以下结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明，但是本实用新型可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
[0017]如图1所示，本实用新型提供一种镭射膜，包括镭射膜基层，所述镭射膜基层50 —侧由里向外依次设有镀铝层40、第一胶黏剂层30、油墨层20及设在油墨层20外层的第一保护层10 ;所述镭射膜基层50另外一侧由里向外依次设有第二保护层60、第二胶黏剂层70、及设置在外层的热封层80，其中，所述第一保护层10用于保护油墨层20形成的图案不能轻易被擦除或刮花，所述第二保护层60以降低射出镭射膜基层50的光线强度。
[0018]所述第一保护层10和第二保护层60分别为透明材质和聚酯薄膜。
[0019]所述第一胶黏剂层30和第二胶黏剂层70分别为聚氨酯和丙烯酸。
[0020]所述热封层80为聚乙烯或者聚丙烯。
[0021]所述第一保护层10的厚度在0.12mm-0.40mm之间。
[0022]所述第二保护层60的厚度在0.12mm-0.15mm之间。
[0023]以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种镭射膜，包括镭射膜基层(50)，其特征在于:所述镭射膜基层(50) —侧由里向外依次设有镀铝层(40)、第一胶黏剂层(30)、油墨层(20)及设在油墨层(20)外层的第一保护层(10);所述镭射膜基层(50)另外一侧由里向外依次设有第二保护层(60)、第二胶黏剂层(70)、及设置在外层的热封层(80)，其中，所述第一保护层(10)用于保护油墨层(20)形成的图案不能轻易被擦除或刮花，所述第二保护层(60)以降低射出镭射膜基层(50)的光线强度。2.根据权利要求1所述的镭射膜，其特征在于:所述第一保护层(10)和第二保护层(60)分别为透明材质和聚酯薄膜。3.根据权利要求1所述的镭射膜，其特征在于:所述第一胶黏剂层(30)和第二胶黏剂层(70)分别为聚氨酯和丙烯酸。4.根据权利要求1所述的镭射膜，其特征在于:所述热封层(80)为聚乙烯或者聚丙稀。5.根据权利要求1所述的镭射膜，其特征在于:所述第一保护层(10)的厚度在.0.1 2mm-0.40mm 之间。6.根据权利要求1所述的镭射膜，其特征在于:所述第二保护层￠0)的厚度在.0.1 2mm-0.15mm 之间。
【专利摘要】本实用新型提供了一种镭射膜，包括镭射膜基层，所述镭射膜基层一侧由里向外依次设有镀铝层、第一胶黏剂层、油墨层及设在油墨层外层的第一保护层；所述镭射膜基层另外一侧由里向外依次设有第二保护层、第二胶黏剂层、及设置在外层的热封层，其中，所述第一保护层用于保护油墨层形成的图案不能轻易被擦除或刮花，所述第二保护层以降低射出镭射膜基层的光线强度。本实用新型提供的镭射膜加工方便，削光效果好，使用效率高，损耗小，无任何镭射阴影。
【IPC分类】B32B27/32, B32B15/09, B32B15/20, B32B7/12
【公开号】CN204869883
【申请号】CN201520485014
【发明人】王道德
【申请人】浙江诚德包装有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年7月7日