一种印染废水深度处理及中水回用工艺的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及了一种废水处理工艺，尤其涉及一种印染废水深度处理及中水回用工 -H- 〇
【背景技术】
[0002] 印染废水经物化、生化等处理后，仍含有一定浓度的悬浮物、色度等物质，需进行 深度处理以实现中水回用。深度处理技术中目前常用的工艺包含了活性炭吸附、离子交换、 超滤、纳滤、反渗透、曝气生物滤池等流程中的一种或几种组合工艺。因为膜的高制造成本 和印染废水中杂质容易导致严重的膜污染，需要经常清洗和更换膜，从而产生高的投资、运 行和维护成本。离子交换工艺也存在类似的高成本问题。活性炭处理存在高的生产成本和 因不当处置而带来二次污染的风险。曝气生物滤池的基建成本和运行成本（因需要曝气)也 较高。上述的高成本问题和复杂的运行维护操作限制了这些工艺和技术的大规模工业化应 用。
【发明内容】
[0003] 本发明的目的在于克服现有印染废水在经过物化、生化等前处理后进行深度处理 的高投资、运行和维护成本问题，提供一种低成本、高效率的印染废水深度处理工艺，能较 好的满足中水回用的出水水质要求。
[0004] 为了达到上述目的，本发明印染废水深度处理及中水回用工艺包括如下步骤： 1、 气浮处理：印染废水经物化、生化等前处理后的出水中投加絮、混凝剂，进行絮、混凝 反应后进入气浮池，溶气罐产生的溶气水释放大量的微细气泡，附着在絮体表面使其上浮 到气浮池表面，再用刮渣机去除浮渣；气浮处理可去除废水中的悬浮固体、部分色度和COD 等成分； 2、 臭氧氧化：气浮处理后出水进入臭氧池，每升废水投加臭氧5-50mg，停留时间为 0.2-3小时，未完全反应的臭氧尾气通过尾气破坏装置去除；印染废水往往含有重氮、偶氮 或带苯环的环状化合物等发色基团，臭氧氧化能使染料发色基团的双价键断裂，同时破坏 构成发色基团的苯、萘、蒽等环状化合物，从而使废水脱色； 3、 砂滤处理：臭氧池出水通过提升栗进入砂滤池，砂滤池成漏斗形，砂滤滤料粒径为 0.l-50mm，滤料粒径从上往下依次减小，废水由上往下流动逐层过滤去除臭氧氧化后残余 的颗粒物等悬浮杂质，出水符合中水回用标准，可直接作为印染企业的生产用水。
[0005]作为进一步优选，所述气浮处理中投加PAM絮凝剂，每升废水投加PAM的量为 I-IOmg0
[0006] 作为进一步优选，所述气浮处理中的溶气压力为0.2-1. 0 MPa，气浮回流比为 10-30%〇
[0007]作为进一步优选，所述砂滤的滤料由石英砂、陶粒、塑料等任何可制成滤料的材质 中的一种或多种组成。
[0008] 作为进一步优选，所述砂滤池中铺设3层不同粒径的滤料，从上至下第一层滤料 的粒径为10-50mm，从第二层开始每层滤料粒径依次为上一层滤料粒径的10%，废水停留时 间为1-2小时。
[0009] 作为进一步优选，所述砂滤处理还包含一个反冲洗过程，反冲洗频率和时间根据 砂滤出水水质确定，当出水悬浮物浓度超过4mg/L时进行反冲洗，一般情况下反冲洗频率 为每6-48 h -次，时间为3-20 min。
[0010] 本发明印染废水经物化、生化等前处理后的出水首先在气浮池去除悬浮物和部分 色度、COD等，然后进入臭氧池氧化去除色度和C0D，出水再经过砂滤池过滤处理，去除悬浮 固体等杂质，从而使出水水质满足回用标准。气浮处理预先去除掉一部分色度后再经臭氧 氧化可降低臭氧的使用成本，提高脱色效率，臭氧氧化残余的颗粒物通过砂滤处理具有更 好的去除效果，使得回用中水中悬浮物去除率达到95%，色度去除率达到98%，COD去除率达 到 64%。
[0011] 本发明的有益效果： 1、 印染废水经物化、生化处理后出水中的难降解污染物、悬浮物、色度等污染因子经过 本发明的深度处理工艺后被去除，处理后出水可用于印染企业的中水回用，且废水的中水 回用率高，可超过90%，从而节约了企业的生产成本。 2、 本发明的废水深度处理及中水回用工艺投资、运行成本低，操作维护简单，便于大模 工业化推广。
【附图说明】
[0012] 图1为本发明的工艺流程图。
【具体实施方式】
[0013] 实施例1 : 印染废水经物化、生化等前处理后的出水中投加PAM进行絮凝反应，每升废水投加PAM 的量为I. 〇 mg，絮凝反应后进入气浮池，溶气罐压力为0. 5 MPa，气浮回流比20%，气浮出水 进入臭氧池氧化，每升废水投加臭氧的量为15 mg，停留时间1.2 h，处理后出水通过提升栗 进入砂滤池，砂滤池成漏斗形，铺有3层不同粒径的石英砂，从上至下石英砂粒径依次为10 mm、I mm和0.1mm，停留时间为lh。各阶段出水水质检测结果如下表：
经处理后悬浮物去除率达到97. 5%，色度去除率达到99. 2%，COD去除率达到64%。砂滤 出水符合中水回用标准，直接作为印染企业的生产用水。
[0014] 实施例2: 印染废水经物化、生化等前处理后的出水中投加PAM进行絮凝反应，每升废水投加PAM 的量5. 0 mg，絮凝反应后进入气浮池，溶气罐压力为0. 2 MPa，气浮回流比30%，气浮出水进 入臭氧池氧化，每升废水投加臭氧的量为5 mg，停留时间3h，处理后出水通过提升栗进入砂 滤池，砂滤池成漏斗形，铺有3层不同粒径的陶粒，从上至下陶粒粒径依次为30 mm、3 mm和 0. 3mm，停留时间为I. 5h。各阶段出水水质检测结果如下表：
经处理后悬浮物去除率达到95%，色度去除率达到98%，COD去除率达到65%。砂滤出水 符合中水回用标准，直接作为印染企业的生产用水。
[0015] 实施例3: 印染废水经物化、生化等前处理后的出水中投加PAM进行絮凝反应，每升废水投加PAM 的量为10 mg，絮凝反应后进入气浮池，溶气罐压力为I. 〇MPa，气浮回流比10%，气浮出水进 入臭氧池氧化，每升废水投加臭氧的量为50 mg，停留时间0. 2h，处理后出水通过提升栗进 入砂滤池，砂滤池成漏斗形，铺有3层不同粒径的石英砂，从上至下石英砂粒径依次为50 mm、5 mm和0? 5mm，停留时间为2h。各阶段出水水质检测结果如下表：
经处理后悬浮物去除率达到96%，色度去除率达到98%，COD去除率达到64%。砂滤出水 符合中水回用标准，直接作为印染企业的生产用水。
[0016] 实施例4: 印染废水经物化、生化等前处理后的出水中投加PAM进行絮凝反应，每升废水投加PAM 的量为I. 〇 mg，絮凝反应后进入气浮池，溶气罐压力为0. 5 MPa，气浮回流比20%，气浮出水 进入臭氧池氧化，每升废水投加臭氧的量为15 mg，停留时间1.2 h，处理后出水通过提升 栗进入砂滤池，砂滤池成漏斗形，从上至下依次铺有2层陶粒和1层石英砂，粒径依次为10 mm、I mm和0.1mm，停留时间为lh。各阶段出水水质检测结果如下表：
经处理后悬浮物去除率达到97%，色度去除率达到98. 8%，COD去除率达到64%。砂滤出 水符合中水回用标准，直接作为印染企业的生产用水。
【主权项】
1. 一种印染废水深度处理及中水回用工艺，其特征在于：包括如下步骤： 气浮处理：印染废水经物化、生化等前处理后的出水中投加絮、混凝剂，进行絮、混凝反 应后进入气浮池，溶气罐产生的溶气水释放大量的微细气泡，附着在絮体表面使其上浮到 气浮池表面，再用刮渣机去除浮渣； 臭氧氧化：气浮处理后出水进入臭氧池，每升废水投加臭氧5-50mg，停留时间为0. 2-3 小时，未完全反应的臭氧尾气通过尾气破坏装置去除； 砂滤处理：臭氧池出水通过提升栗进入砂滤池，砂滤池成漏斗形，砂滤滤料粒径为 0.l-50mm，滤料粒径从上往下依次减小，废水由上往下流动逐层过滤去除臭氧氧化后残余 的颗粒物等悬浮杂质，出水符合中水回用标准，直接作为印染企业的生产用水。2. 根据权利要求1所述的一种印染废水深度处理及中水回用工艺，其特征在于：所述 气浮处理中投加PAM絮凝剂，每升废水投加PAM的量为l-10mg。3. 根据权利要求1所述的一种印染废水深度处理及中水回用工艺，其特征在于：所述 气浮处理中的溶气压力为0. 2-1. 0MPa，气浮回流比为10-30%。4. 根据权利要求1所述的一种印染废水深度处理及中水回用工艺，其特征在于：所述 砂滤滤料由石英砂、陶粒、塑料等任何可制成滤料的材质中的一种或多种组成。5. 根据权利要求1所述的一种印染废水深度处理及中水回用工艺，其特征在于：所述 砂滤池中铺设3层不同粒径的滤料，从上至下第一层滤料的粒径为10-50_，从第二层开始 每层滤料粒径依次为上一层滤料粒径的10%，废水停留时间为1-2小时。6. 根据权利要求1所述的一种印染废水深度处理及中水回用工艺，其特征在于：所述 砂滤处理还包含一个反冲洗过程，反冲洗频率和时间根据砂滤出水水质确定。7. 根据权利要求6所述的一种印染废水深度处理及中水回用工艺，其特征在于：当砂 滤池出水悬浮物浓度超过4mg/L时进行反冲洗，反冲洗频率为每6-48h-次，时间为3-20 min〇
【专利摘要】本发明公开了一种印染废水深度处理及中水回用工艺；现有印染废水在经过物化、生化等前处理后进行深度处理的工艺存在高投资、运行和维护成本问题，本发明的目的在于提供一种低成本、高效率的印染废水深度处理工艺，能较好的满足中水回用的出水水质要求。本发明印染废水经物化、生化等前处理后的出水首先在气浮池去除悬浮物和部分色度、COD等，然后进入臭氧池氧化去除色度和COD，出水再经过砂滤池过滤处理，去除悬浮固体等杂质，得到的回用中水中悬浮物去除率达到95%，色度去除率达到98%，COD去除率达到64%。
【IPC分类】C02F9/04
【公开号】CN105174544
【申请号】
【发明人】凌明, 沈学拯, 叶国祥, 郭慧, 薛懂
【申请人】浙江巨能环境工程设备有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年9月22日