用于有机电子器件的基板的制作方法

用于有机电子器件的基板的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及用于有机电子器件的基板、有机电子装置、所述基板或装置的制造方 法、用于显示器的光源、及照明器具。
【背景技术】
[0002] 有机电子器件(0邸;Organic Electronic Device)例如为一种如专利文献1(日本 特开第1996-176293号公报)所述的包含至少一个能够传导电流的有机材料层的器件。有机 电子器件的种类包括有机发光器件(OLED )、有机太阳能电池、有机光导体(OPC)或有机晶体 管等。
[0003] 有机发光器件为代表性的有机电子器件，通常依次包括基板、第一电极层、有机层 和第二电极层。在被称为底部发光器件(bottom emitting device)的结构中，第一电极层 可形成为透明电极层，第二电极层可形成为反射电极层。此外，在被称为顶部发光器件(top emitting device)的结构中，第一电极层可形成为反射电极层，第二电极层可形成为透明 电极层。通过电极层而被注入的电子(electron)和空穴化ole)在位于有机层的发光层中重 新结合(recombination) W产生光子。在底部发光器件中，光子可向基板方向发射;在顶部 发光型器件中，光子可向第二电极层方向发射。
[0004] 在有机发光器件的结构中，通常用作透明电极层的铜锡氧化物（IT0)、有机层和通 常为玻璃的基板的折射率分别为约2.0、1.8和1.5。在上述折射率的关系中，例如，在底部发 光器件的发光层中产生的光子由于全内反射(total internal reflection)现象而被捕获 (trap)在有机层与第一电极层之间的界面处或者被捕获在基板内，并且仅发射出非常少量 的光子。
[0005] 另外，近来对可晓性(flexible)有机电子器件的关注增加，对于将有机发光器件 的结构中的玻璃系基板替换为聚合物系基板的技术的需求逐渐增多。

【发明内容】

[0006] 技术问题
[0007] 本发明旨在提供用于有机电子器件的基板、有机电子装置、所述基板或装置的制 造方法、光源及照明器具。
[000引技术方案
[0009]本发明的一个方面提供一种用于有机电子器件的基板，其包括第一聚合物基底 层、光学功能层、及高折射层。光学功能层和高折射层可依次层叠在第一聚合物基底层上， 因此光学功能层可存在于第一聚合物基底层与高折射层之间。图1示意性地示出了用于有 机电子器件的基板1，其包括在第一聚合物基底层101上依次形成光学功能层102和高折射 层103的结构。在另一示例中，用于有机电子器件的基板可具有其中重复上述结构的结构， 例如，具有第一聚合物基底层、光学功能层、高折射层、第一聚合物基底层、光学功能层和高 折射层依次层叠的结构。
[0010]在基板中，可使用合适的聚合物基底层作为第一聚合物基底层，且无特别限制。例 如，当基板被应用于底部发光器件时，可使用透光型聚合物基底层，例如对于可见光区域的 光具有50% W上透光率的聚合物基底层。根据需要，聚合物基底层可为具有驱动用TFT的 TFT基板。当基板被应用于顶部发光器件时，聚合物基底层并非必须是透光型基底层。根据 需要，可在聚合物基底层的表面等上形成由侣等形成的反射层。
[00川作为第一聚合物基底层，例如可使用折射率为约1.5W上、约1.6W上、约1.65W上 或约1.7W上的聚合物基底层。本说明书中的术语"折射率"在没有特别的规定时，可指对于 633nm波长的光的折射率。
[0012] 作为第一聚合物基底层，例如可使用包含聚酷胺酸、聚酷亚胺，聚糞二甲酸乙二醇 醋，聚酸酸酬、聚碳酸醋、聚对苯二甲酸乙二醇醋、聚酸硫化物、聚讽或丙締酸树脂等的基底 层，但并不限定于此。在一个恰当的示例中，从工艺溫度或光提取性能方面考虑，可使用包 含聚酷亚胺的基底层作为第一聚合物基底层。
[0013] 在一个示例中，包含聚酷亚胺的基底层，例如可包含对于633nm波长的光的折射率 为约1.5W上、约1.6W上、约1.65^上或约1.7^上的聚酷亚胺。运种高折射的聚酷亚胺例 如可使用其中引入了氣W外的面素原子、硫原子或憐原子等的单体来制备。
[0014] 在一个示例中，可使用通过将对于63化m波长的光的折射率为约1.5W上、约1.6W 上、约1.65W上或约1.7W上的聚酷胺酸酷亚胺化而制备的物质作为包含在基底层中的聚 酷亚胺。在一个示例中，可使用具有能够与颗粒键合的部位(如簇基）W增强颗粒分散稳定 性的聚酷胺酸作为所述聚酷胺酸。例如，可使用包含如下化学式1所示的重复单元的化合物 作为聚酷胺酸。
[001引[化学式1]
[0017] 在化学式1中，n可为正数，例如IW上的正数。
[0018] 重复单元可任选地被至少一个取代基取代。取代基的实例可包括除氣之外的面素 原子、苯基、苄基、糞基或含面原子、硫原子或憐原子的官能团，例如硫代苯基。
[0019] 聚酷胺酸可为仅由所述化学式1的重复单元形成的均聚物，或除式1的重复单元W 外还包含其它单元的嵌段或无规共聚物。在共聚物中，其他重复单元的种类或比例可W在 例如不降低所期望的折射率、耐热性或透光率的范围内适当地选择。
[0020] 化学式2的重复单元可作为化学式1的重复单元的具体实例。
[0021] [化学式2]
[0023] 在化学式2中，n为正数，例如IW上的正数。
[0024] 聚酷胺酸的重均分子量为约10，000至100，000或约10，000至50，000，由凝胶渗透 色谱法(GPC)测得并W聚苯乙締为内标换算得到。此外，具有化学式1的重复单元的聚酷胺 酸在可见光区域的透光率为80% W上、85% W上或90% W上，并具有优异的耐热性。
[0025] 在基板中，光学功能层可位于第一聚合物基底层的上方。例如可使用雾度为10% 至50%、20%至40%、或25%至35%的光学功能层作为所述光学功能层。对于测量雾度的方 法没有特别的限制，可使用常规的雾度测定仪化azemeter)如歷-150,在JIS K 7105标准下 进行测量。若光学功能层的雾度在上述范围内，则由有机层透射出来的光可适当地发生散 射、折射或衍射，从而能够消除或减少在有机层、光学功能层和基底层中的任意两个层之间 的界面处发生的全内反射现象。
[0026] 光学功能层例如可为光散射层。本说明书中的术语"光散射层"可指例如可使入射 到所述层上的光发生散射、折射或衍射的所有种类的层。对光散射层的形态没有特别的限 定，只要具有上述功能即可。
[0027] 光散射层例如可W是包含基体材料和散射区域的层。图2示意性地示出包含由散 射颗粒形成的散射区域1012和基体材料1021的示例性光散射层形成于基底层101上的结 构。本说明书中的术语"散射区域"可指例如具有与基体材料或周围材料(例如下述的高折 射层)不同的折射率，并具有合适的尺寸，因此可使入射光发生散射、折射或衍射的区域。散 射区域例如可由具有下述折射率及大小的颗粒形成，或可为空余空间。例如，可使用与周围 材料不同，且具有比周围材料的折射率更高或更低的折射率的颗粒形成散射区域。散射颗 粒的折射率与周围材料例如基体材料和/或高折射层的折射率的差值可大于0.3或在0.3 W 上。例如，散射颗粒可具有约1.0至3.5或约1.0至3.0的折射率。散射颗粒的折射率是指针对 约550nm波长的光测得的折射率。散射颗粒的折射率例如可为1.0至1.6、或1.0至1.3。在另 一示例中，散射颗粒的折射率可为约2.0至3.5或约2.2至3.0。散射颗粒例如可W是平均粒 径为50皿W上、100皿W上、SOOnmW上、或1,000皿W上的颗粒。散射颗粒的平均粒径例如可 W在10,000nmW下。散射区域是具有上述尺寸的空余空间，也可W通过在空间内充入空气 而形成。
[0028] 散射颗粒或区域可为球形、楠圆形、多面体或不规则形状，但对其形状并没有特别 的限定。散射颗粒例如可为包含下述材料的颗粒:有机材料，如聚苯乙締或其衍生物、丙締 酸树脂或其衍生物、娃树脂或其衍生物、或酪醒树脂或其衍生物;或无机材料，如二氧化娃、 氧化侣、氧化铁或氧化错。散射颗粒可包含上述材料中的任一种或至少两种。例如，对于散 射颗粒，还可使用中空颗粒（如中空型二氧化娃化Ollow silica))或具有核/壳结构的颗 粒。
[0029] 光散射层可进一步包括用于保持散射颗粒等的散射区域的基体材料。基体材料例 如可使用与相邻的其他材料(如基底层)具有相似程度的折射率的材料、或具有比相邻材料 高的折射率的材料来形成。基体材料可为有机材料，如聚酷亚胺、含有巧环的卡多树脂 (caldo resin)、氨基甲酸醋、环氧化物、聚醋或丙締酸醋基可热固化或可光固化的单体、低 聚物或聚合物；无机材料，如氧化娃、氮化娃（si Iicon nitride)、氮氧化娃（si Iicon oxynitride)或聚硅氧烷;或有机/无机复合材料等。
[0030] 基体材料可包含聚硅氧烷、聚酷胺酸或聚酷亚胺。在本文中，聚硅氧烷可通过例如 可缩合的硅烷化合物或硅氧烷低聚物的缩聚反应形成，从而形成基于娃与氧之间的键(Si-0)