一种抗电磁波增亮膜的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种光学保护膜，尤其是涉及一种液晶显示器背光模组中的抗电磁波增亮膜。
【背景技术】
[0002]液晶显示器有着能耗低、重量轻、无辐射、无闪烁等优点，是目前市面上主流的显示器，但液晶作为一种被动发光材料，需要依靠背光模组才能实现图像的显示，一般来说，背光模组由光源、反射膜、导光板、光学模组组成，其中光学模组包含下增亮膜、上增亮膜，增亮膜一般包含基材和棱镜结构层，上增亮膜含雾化层。而目前市场上的增亮膜功能比较单一，不具备抗电磁波的功能，不能满意满足市场的需求。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种抗电磁波增亮膜，提升其使用性能。
[0004]为达到上述目的，本实用新型采用以下方案:
[0005]—种抗电磁波增亮膜，包含有:上增亮膜与下增亮膜，上增亮膜包含A基材、抗电磁结构层以及扩散层;A基材包含A光学面和B光学面，抗电磁结构层设置在A基材的A光学面，扩散层层叠在A基材的B光学面;下增亮膜包括B基材、B棱镜结构层，B棱镜结构层设置在B基材上;抗电磁结构层为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂结构层;抗电磁结构层与B棱镜结构层由若干平行的棱镜单体组成;上增亮膜与下增亮膜的棱镜单体长度方向相互垂直，即抗电磁结构层与B棱镜结构层的棱镜单体长度方向相互垂直;棱镜单体截面为一等腰三角形，抗电磁结构层与B棱镜结构层的棱镜高度d2为15?30μηι，棱镜单体之间的间距d4为20?40μπι，棱镜单体截面为等腰三角形，顶角角度α为85?95°。
[0006]在其中一些实施例中，所述A基材与B基材为PET膜、PC膜或PMMA膜，A基材与B基材厚度d0为23?ΙΟΟμπι;扩散层为添加有抗电磁波材料的扩散层，扩散层厚度d3为4?ΙΟμπι。
[0007]在其中一些实施例中，所述扩散层和抗电磁结构层分置在A基材的两面，B棱镜结构层由若干平行的丙烯酸类树脂棱镜单体组成。
[0008]本实用新型主要提供一种抗电磁波增亮膜，相比传统结构的增亮膜，其在提供轴向亮度增益的同时，能具有抗电磁波功能，优化增亮膜的功能，提高其使用价值。同时该制备方法简单，适用于大量生产。
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型实施例上增亮膜的示意图；
[0010]图2为本实用新型实施例下增亮膜的示意图；
[0011]图3为本实用新型实施例的结构示意图；
[0012]图4为本实用新型实施例的立体示意图。
[0013]附图标记说明:
[0014]上增亮膜10，A基材11，抗电磁结构层12，扩散层13，下增亮膜20，B基材21，B棱镜结构层22。
【具体实施方式】
[0015]为能进一步了解本实用新型的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，解析本实用新型的优点与精神，藉由以下通过实施例对本实用新型做进一步的阐述。
[0016]本增亮膜组包括上增亮膜10和下增亮膜20，上增亮膜10包括A基材11、抗电磁结构层12、扩散层13，抗电磁波材料添加在扩散层13里，扩散层13和抗电磁结构层12分置在A基材11的两面;下增亮膜20包括B基材21、B棱镜结构层22。
[0017]增亮膜基材(A基材11与B基材21)材料为PET、PC、PMMA等其中一种，厚度d0为23?ΙΟΟμπι。抗电磁结构层12为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂结构层，B棱镜结构层22由若干平行的丙烯酸类树脂棱镜单体组成。
[0018]扩散层13的原料组成及重量份为:包括丙烯酸类树脂和光扩散粒子，光扩散粒子包含PMMA粒子、PS粒子、S12粒子、T12等粒子一种或几种，粒子大小为2?5μπι。
[0019]抗电磁结构层12的原料组成及重量份为:丙烯酸类树脂40?75份，抗电磁波材料8?26份;抗电磁波材料成分主要为纳米银颗粒(20?35份)，溶剂为松油醇(I?5份)与无水乙醇(45?65份)混合，增稠剂为乙基纤维素(4?5.5份)，分散剂为司班-85(3?5份)。抗电磁结构层12涂布方式为微凹涂布或刮刀式涂布。
[0020]抗电磁结构层12与B棱镜结构层22包含设置成规律的棱镜单体，棱镜单体高度d2为15?30μπι，间距d4为20?40μπι，其截面为等腰三角形，等腰三角形顶角角度α为85?95°。抗电磁结构层12棱镜单体为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂经花纹辊转印并经UV光源固化而成，B棱镜结构层22棱镜单体为丙烯酸类树脂经花纹辊转印并经UV光源固化而成。花纹辊为金属轮，表面电镀100?500μπι厚度的铜层或镍层，表面微结构经单点金刚石刀具车削或激光成形加工而成。
[0021]扩散层13的原料组成及重量份为:
[0022]丙烯酸类树脂40?75份，
[0023]光扩散粒子3?15份；
[0024]光扩散粒子为PMMA粒子、PS粒子、S12粒子或T12粒子的一种及其组合，粒子大小为 4μηι0
[0025]本实用新型的制造方法如下:
[0026](1)、选用23?ΙΟΟμπι厚度的PET、PC或PMMA作为A基材11在A基材11的B光学面涂布扩散层13，涂布方式为微凹涂布或刮刀式涂布；
[0027](2)、在A基材11的A光学面用花纹辊转印添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂涂布，并经烤箱与UV光源固化，而形成带有若干平行棱镜单体的抗电磁结构层12，得到上增亮膜10;
[0028]花纹辊为金属轮，表面电镀100?500μπι厚度的铜层或镍层，表面微结构经单点金刚石刀具车削或激光成形加工而成；
[0029](3)、选用23?ΙΟΟμπι厚度的PET、PC或PMMA作为B基材21，在B基材21的上面用花纹辊转印丙烯酸类树脂涂布，并经烤箱与UV光源固化而形成带有若干平行棱镜单体的B棱镜结构层22，得到下增亮膜20;
[0030](4)、各自做好的上增亮膜10、下增亮膜20，使用时叠加使用，成为具有抗电磁波效果的增亮膜。
[0031]各自做好上增亮膜10和下增亮膜20，叠加使用就好。同时，上增量膜10上的扩散层已通过微凹或刮刀涂布得到;下增亮膜20只有棱镜结构，没有扩散层。
[0032]在其中一个实施例中，A基材11选用50μπι的PET，扩散层13采用微凹涂布，厚度d3为5?7μπι，其中，光扩散粒子为3μπι的S12粒子，经烤箱与UV灯后完成扩散层13涂布。
[0033 ]在A基材11的另一面涂布抗电磁结构层12。A基材11上面用花纹棍转印添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂，采用花纹辊转印方式涂布;抗电磁波材料成分主要为纳米银颗粒(26份)，溶剂为松油醇(3份)与无水乙醇(60份)混合，增稠剂为乙基纤维素(4.7份)，分散剂为司班-85(3.8份)，主胶为丙烯酸类树脂，经烤箱与UV灯后完成抗电磁结构层12涂布；
[0034]抗电磁结构层12高度为23μπι，间距为33μπι，截面为等腰直角三角形，得到上增亮膜10；
[0035]下增亮膜20按上述结构层方式涂布。
[0036]在下增亮膜20上面层叠上增亮膜10，在上增亮膜10上面层叠上扩散膜31，在下增亮膜20下面复合下扩散膜32，采用同步辊轮将其贴合。
[0037]以上所述实施例仅表达了本实用新型的部分实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种抗电磁波增亮膜，包含有:上增亮膜(10)与下增亮膜(20)，其特征在于，所述上增亮膜(10)包含A基材(11)、抗电磁结构层(12)以及扩散层(13);所述A基材(11)包含A光学面和B光学面，所述抗电磁结构层(12)设置在A基材(11)的A光学面，所述扩散层(13)层叠在A基材(11)的B光学面;所述下增亮膜(20)包括B基材(21)、B棱镜结构层(22)，所述B棱镜结构层(22)设置在B基材(21)上;所述抗电磁结构层(12)为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂结构层； 所述抗电磁结构层(12)与B棱镜结构层(22)由若干平行的棱镜单体组成;所述抗电磁结构层(12)与B棱镜结构层(22)的棱镜单体长度方向相互垂直;所述棱镜单体截面为一等腰三角形，所述抗电磁结构层(12)与B棱镜结构层(2 2)的棱镜高度为15?3 Ομπι，所述棱镜单体之间的间距为20?40μπι，所述棱镜单体截面为等腰三角形，顶角角度为85?95°。2.根据权利要求1所述的一种抗电磁波增亮膜，其特征在于，所述A基材(11)与B基材(21)为PET膜、PC膜或PMMA膜，所述A基材(11)与B基材(21)厚度为23?10ym;所述扩散层(13)为添加有抗电磁波材料的扩散层，所述扩散层(13)厚度为4?ΙΟμπι。3.根据权利要求1所述的一种抗电磁波增亮膜，其特征在于，所述扩散层(13)和抗电磁结构层(12)分置在A基材(11)的两面，所述B棱镜结构层(22)由若干平行的丙烯酸类树脂棱镜单体组成。
【专利摘要】本实用新型公开了一种抗电磁波增亮膜，提升其使用性能。本实用新型包含有上增亮膜与下增亮膜，上增亮膜包含A基材、抗电磁结构层以及扩散层；A基材包含A光学面和B光学面，抗电磁结构层设置在A基材的A光学面，扩散层层叠在A基材的B光学面；下增亮膜包括B基材、B棱镜结构层，B棱镜结构层设置在B基材上。本实用新型能具有抗电磁波功能，优化增亮膜的功能，同时该制备方法简单，适用于大量生产。
【IPC分类】G02F1/1335, G02B1/118, G02F1/1333
【公开号】CN205301752
【申请号】
【发明人】朱文峰, 王善文
【申请人】东莞市纳利光学材料有限公司
【公开日】2016年6月8日
【申请日】2015年12月2日