一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构，包含有，按摩底面；组件容置壳体，其处于与所述按摩底面相结合，所述组件容置壳体内有组件容置空间；锤击按摩组件，其处于所述组件容置空间内，所述锤击按摩组件系由锤击头部及锤击平板组成，又，所述锤击头部系采用金属材料，所述锤击平板上具有按摩顶柱；盖板，其处于所述上端开口位置，所述盖板上具有盖板穿过孔；以及，环形线圈，其处于所述组件容置壳体外，所述环形线圈系环绕于所述锤击头部设置，藉由通电后的所述环形线圈对所述锤击头部产生的向上作用力，使得所述锤击按摩组件向上移位，以此实现锤击足部之目的，提供一种新型的足部按摩方式，用户体验大为提升。
【专利说明】
一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构
技术领域
[0001]本实用新型涉及足浴器领域，尤其涉及一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构。
【背景技术】
[0002]目前，市面上常规的足浴器，诸如，CN202143705U公开的“磁传动的防水电动足浴盆”，CN204950716U公开的“一种按摩足浴盆”，CN204909245U公开的“一种足浴盆”等，其按摩方式均为固定按摩顶柱和/或滚轮的方式。上述方式具有以下缺点:I，足部的按摩方式单一，缺乏多样性;2，足部的按摩力度较小，影响按摩效果;3，用户体验不太理想。鉴于上述，亟待设计一种新型的按摩结构。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于克服现有技术中足浴方式单一，体验较差的问题，提供一种新型的用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构。
[0004]为了实现这一目的，本实用新型的技术方案如下:一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构，包含有，
[0005]按摩底面；
[0006]组件容置壳体，其处于所述按摩底面的下方且与所述按摩底面相结合，所述组件容置壳体内有组件容置空间，所述组件容置空间具有上端开口 ；
[0007]锤击按摩组件，其处于所述组件容置空间内，所述锤击按摩组件系由竖直设置的锤击头部及处于所述锤击头部上方且水平设置的锤击平板组成，又，所述锤击头部系采用金属材料，例如，铁金属，所述锤击平板上具有按摩顶柱；
[0008]盖板，其处于所述上端开口位置，所述盖板上具有盖板穿过孔且所述盖板穿过孔与所述按摩顶柱呈上下对应；以及，
[0009]环形线圈，其处于所述组件容置壳体外，所述环形线圈系环绕于所述锤击头部设置，藉由通电后的所述环形线圈对所述锤击头部产生的向上作用力，使得所述锤击按摩组件向上移位。
[0010]作为一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构的优选方案，所述组件容置壳体具有上壳体部及下壳体部，所述上壳体部系由上侧壁及上底壁组成，所述上底壁系环形结构，所述下壳体部系由下侧壁及下底壁组成，其中，所述上侧壁的顶缘与所述按摩底面相结合，所述上侧壁的底缘与所述上底壁的外缘相结合，所述上底壁的内缘与所述下侧壁的顶缘相结合，所述下侧壁的底缘与所述下底壁的外缘相结合;又，所述锤击平板处于所述上壳体部内，所述锤击头部处于所述下壳体部内。
[0011]作为一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构的优选方案，所述上底壁上具有导向柱且所述导向柱系垂直向上延伸，而所述锤击平板上具有导向孔，藉由所述导向孔与所述导向柱相配合，使得所述锤击平板能够沿着所述导向柱竖直向上或向下移位。
[0012]作为一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构的优选方案，所述锤击平板与所述盖板间有上减震垫，所述上底壁与所述锤击平板间有下减震垫，所述上减震垫及所述下减震垫均套设于所述导向柱上。
[0013]作为一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构的优选方案，所述锤击平板上具有固定结合孔，而所述锤击头部上具有固定被结合孔，藉由第一连接件连接所述固定结合孔及所述固定被结合孔，使得所述锤击平板与所述锤击头部相固定地结合。
[0014]作为一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构的优选方案，所述锤击平板及所述锤击头部均具有镂空部，所述镂空部用以降低上移或下移时的阻力。
[0015]作为一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构的优选方案，所述锤击平板系由外边框、处于所述外边框内的横向筋条及竖向筋条组成，以形成所述镂空部。
[0016]作为一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构的优选方案，所述按摩顶柱系设置于所述外边框与所述横向筋条的结合处、所述外边框与所述竖向筋条的结合处或所述横向筋条与所述竖向筋条的结合处。
[0017]作为一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构的优选方案，所述锤击头部上具有自上而下贯通的通孔，所述通孔系所述镂空部。
[0018]作为一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构的优选方案，所述按摩底面及所述盖板上均具有按摩凸柱。
[0019]与现有技术相比，本实用新型的优点在于:1.结构简单，加工方便;2.提供一种新型的足部按摩方式，用户体验大为提升;3.锤击过程运行平稳，水中的阻力小，可靠性佳。
【附图说明】
[0020]图1为本实用新型一实施例的结构示意图(爆炸状态)。
[0021]图2为本实用新型一实施例的结构示意图(组合状态)。
[0022]图3为本实用新型一实施例中锤击平板的结构示意图。
[0023]图4为本实用新型一实施例中锤击头部的结构示意图。
[0024]图5为本实用新型一实施例中盖板的结构示意图。
【具体实施方式】
[0025]下面通过具体的实施方式结合附图对本实用新型作进一步详细说明。
[0026]请参见图1和2，图中所示的是一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构。其结构主要由按摩底面1、组件容置壳体2、锤击按摩组件3、盖板4及环形线圈5组成。
[0027]所述按摩底面I上具有按摩凸柱10。
[0028]所述组件容置壳体2处于所述按摩底面I的下方。所述组件容置壳体2具有上壳体部21及下壳体部22。所述上壳体部21系由上侧壁211及上底壁212组成。所述上底壁212系环形结构。所述下壳体部22系由下侧壁221及下底壁222组成。其中，所述上侧壁211的顶缘与所述按摩底面I相结合，所述上侧壁211的底缘与所述上底壁212的外缘相结合，所述上底壁212的内缘与所述下侧壁221的顶缘相结合，所述下侧壁221的底缘与所述下底壁222的外缘相结合。所述上侧壁211及所述上底壁212围成上容置空间210，所述下侧壁221及所述下底壁222围成下容置空间220。所述上容置空间210及所述下容置空间220组成组件容置空间。所述上侧壁211的顶缘构成上端开口，而所述上底壁212的内周缘构成下端开口。
[0029]所述锤击按摩组件3处于所述组件容置空间内。再请参见图3和4，所述锤击按摩组件3系由竖直设置的锤击头部32及处于所述锤击头部32上方且水平设置的锤击平板31组成。所述锤击平板31上具有固定结合孔312，而所述锤击头部32上具有固定被结合孔321，藉由第一连接件7连接所述固定结合孔312及所述固定被结合孔321，使得所述锤击平板31与所述锤击头部32相固定地结合。所述锤击平板31处于所述上容置空间210内，所述锤击头部32处于所述下容置空间220内。为了减小在水中的排斥力，所述锤击平板31及所述锤击头部32均具有镂空部。具体地说，所述锤击平板31系由外边框3101、处于所述外边框3101内的横向筋条3102及竖向筋条3103组成，以形成所述镂空部。所述锤击头部32上具有自上而下贯通的通孔，所述通孔系所述镂空部。又，所述锤击头部32系采用金属材料，使被极化，例如，铁金属。所述外边框3101与所述横向筋条3102的结合处、所述外边框3101与所述竖向筋条3103的结合处或所述横向筋条3102与所述竖向筋条3103的结合处具有竖直向上延伸的按摩顶柱311。所述上底壁212上具有导向柱2121且所述导向柱2121系垂直向上延伸，而所述锤击平板31上具有导向孔313，藉由所述导向孔313与所述导向柱2121相配合，使得所述锤击平板31能够沿着所述导向柱2121竖直向上或向下移位。
[°03°]所述盖板4处于所述上端开口位置。请参见图5，所述盖板4上具有盖板穿过孔41且所述盖板穿过孔41与所述按摩顶柱311呈上下对应。所述盖板4上均具有按摩凸柱40。为了使工作更为平稳，所述锤击平板31与所述盖板4间有上减震垫6，所述上底壁212与所述锤击平板31间有下减震垫8，所述上减震垫6及所述下减震垫8均套设于所述导向柱2121上。
[0031]所述环形线圈5处于所述组件容置壳体2外，所述环形线圈5系环绕于所述锤击头部32设置。藉由通电后的所述环形线圈5对所述锤击头部32产生的向上作用力，使得所述锤击按摩组件3向上移位。
[0032]安装方式:I，将所述下减震垫8放入指定位置。2，将所述锤击平板31安装在所述锤击头部32上，形成所述锤击按摩组件3。将所述锤击按摩组件3放入所述组件容置空间内。3，将所述上减震垫6放入指定位置。4，放入所述盖板4，装配螺丝，使之固定。5，将所述环形线圈5装配在所述锤击头部32位置。
[0033]工作原理:所述环形线圈5通电后产生磁场，由于所述锤击头部32处于该磁场内，使之被极化并与所述环形线圈5产生排斥力，进而令所述锤击按摩组件3向上运动。而当所述环形线圈5断电后，由于所述环形线圈5不产生磁场，S卩，排斥力消失，受所述锤击按摩组件3自身重力的影响令其向下运动。按照上述的工作方式，通电与断电不断来回切换，一上一下，周而复始，形成锤击按摩。藉此，达到按摩脚底穴位的目的。
[0034]以上仅表达了本实用新型的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构，其特征在于，包含有， 按摩底面； 组件容置壳体，其处于所述按摩底面的下方且与所述按摩底面相结合，所述组件容置壳体内有组件容置空间，所述组件容置空间具有上端开口 ； 锤击按摩组件，其处于所述组件容置空间内，所述锤击按摩组件系由竖直设置的锤击头部及处于所述锤击头部上方且水平设置的锤击平板组成，又，所述锤击头部系采用金属材料，所述锤击平板上具有按摩顶柱，所述锤击平板上具有固定结合孔，而所述锤击头部上具有固定被结合孔，藉由第一连接件连接所述固定结合孔及所述固定被结合孔，使得所述锤击平板与所述锤击头部相固定地结合； 盖板，其处于所述上端开口位置，所述盖板上具有盖板穿过孔且所述盖板穿过孔与所述按摩顶柱呈上下对应；以及， 环形线圈，其处于所述组件容置壳体外，所述环形线圈系环绕于所述锤击头部设置，藉由通电后的所述环形线圈对所述锤击头部产生的向上作用力，使得所述锤击按摩组件向上移位，以此实现锤击足部之目的； 又，所述按摩底面及所述盖板上均具有按摩凸柱。2.根据权利要求1所述的一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构，其特征在于，所述组件容置壳体具有上壳体部及下壳体部，所述上壳体部系由上侧壁及上底壁组成，所述上底壁系环形结构，所述下壳体部系由下侧壁及下底壁组成，其中，所述上侧壁的顶缘与所述按摩底面相结合，所述上侧壁的底缘与所述上底壁的外缘相结合，所述上底壁的内缘与所述下侧壁的顶缘相结合，所述下侧壁的底缘与所述下底壁的外缘相结合;又，所述锤击平板处于所述上壳体部内，所述锤击头部处于所述下壳体部内。3.根据权利要求2所述的一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构，其特征在于，所述上底壁上具有导向柱且所述导向柱系垂直向上延伸，而所述锤击平板上具有导向孔，藉由所述导向孔与所述导向柱相配合，使得所述锤击平板能够沿着所述导向柱竖直向上或向下移位。4.根据权利要求3所述的一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构，其特征在于，所述锤击平板与所述盖板间有上减震垫，所述上底壁与所述锤击平板间有下减震垫，所述上减震垫及所述下减震垫均套设于所述导向柱上。5.根据权利要求1所述的一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构，其特征在于，所述锤击平板及所述锤击头部均具有镂空部，所述镂空部用以降低上移或下移时的阻力。6.根据权利要求5所述的一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构，其特征在于，所述锤击平板系由外边框、处于所述外边框内的横向筋条及竖向筋条组成，以形成所述镂空部。7.根据权利要求6所述的一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构，其特征在于，所述按摩顶柱系设置于所述外边框与所述横向筋条的结合处、所述外边框与所述竖向筋条的结合处或所述横向筋条与所述竖向筋条的结合处。8.根据权利要求5所述的一种用于足浴器中的足底穴位锤击按摩结构，其特征在于，所述锤击头部上具有自上而下贯通的通孔，所述通孔系所述镂空部。
【文档编号】A61H35/00GK205459824SQ201620072832
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年1月26日
【发明人】王昌华
【申请人】上海泰昌健康科技股份有限公司