技术编号：10529241
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 等离子体处理的发展促进了半导体工业的成长。等离子体处理可能涉及不同的等 离子体产生技术，例如电感耦合等离子体处理系统、电容耦合等离子体处理系统、微波产生 等离子体处理系统和类似系统。在涉及材料的刻蚀和/或淀积的工艺中，制造商经常使用电 容耦合等离子体处理系统以制造半导体装置。 用新的先进材料、不同材料的复杂堆叠、更薄的层、更小的特征尺寸和更小公差组 装的下一代半导体装置可能要求等离子体处理系统对于等离子体处理参数有更精确的控 制和更宽的操作窗。因此，对于...
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