技术编号:10727483
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。感应耦合等离子体(ICP)刻蚀机是一种高精度、高效率的干法刻蚀设备。常规的感应耦合等离子体刻蚀机采用两套射频电源,一套射频电源称为激励电源,向位于反应腔室上部的线圈组件供电,用于电离反应气体以产生高密度的等离子体;另一套射频电源称为偏压电源,向位于反应腔室中下部的载片电极供电,用于产生一个小的自偏压,引导反应腔室里的正离子垂直地向被刻蚀的晶圆表面运动,从而获得陡直的刻蚀效果。同时,为了减小离子对晶圆表面轰击带来的晶格损伤,后者的功率往往取得很小(一般只有前...
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