技术编号：11122499
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于无机纳米材料技术领域，涉及一种制备二维纳米片层结构的方法，具体涉及一种简单有效的制备超薄氮化硼纳米片的方法。技术背景六方氮化硼是一种由B-N的sp2杂化键合的六角网格结构周期排列组成的层状化合物。二维氮化硼纳米片与石墨烯的结构类似，自发现以来备受关注。尤其是，与石墨烯相比，二维氮化硼纳米片具有许多特殊的性质，如宽禁带、高温抗氧化性、高化学稳定性、高抗腐蚀性、高导热率、低热膨胀系数、低介电常数和抗热冲击性等。因此，氮化硼的二维原子层状结构的高效制备无论是对基础科研还是工业应用都具有极其重...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。