技术编号:11142533
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在基底上旋涂自组装单分子层或周期性有机硅(酸盐)的系统和方法相关申请的交叉引用本申请根据37C.F.R.§1.78(a)(4)要求2013年12月17日提交的在前提交的共同未决的临时申请序列号61/917,031的权益和优先权,其通过引用明确并入本文中。技术领域本发明涉及半导体加工技术,并且更具体地,涉及用于在基底上旋涂自组装单分子层及有机硅(酸盐)的系统和方法。背景技术用于半导体器件的纳米加工技术等正在推动几何特征向越来越小的尺寸发展并且使用具有低介电常数的膜。分子自组装(MSA)技术可以用于...
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