技术编号：11173375
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种反应室，特别是涉及一种应用于材料表面改性及表面处理的射频等离子体反应室。背景技术射频感应耦合等离子体放电可以产生具有化学活性的原子、分子基团及离子等，所以被广泛应用于材料表面改性及表面处理等领域。对于全球的芯片生产制造工艺来讲，等离子体处理技术起着极为重要的作用，尤其是在超大规模集成电路制造工艺中，有着近三分之一的工序是借助等离子体加工技术来完成的，如等离子体清洗、等离子体刻蚀、等离子体镀膜、等离子体去胶等等。近年来，随着芯片加工工艺的发展，为了提高效率和节约成本，刻蚀晶片的直径越...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。