技术编号:11252674
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及电子领域,具体地,涉及阵列基板、显示装置以及制备阵列基板的方法。背景技术低温多晶硅(LowTemperaturePoly-Silicon,LTPS)由于具有较高的电子迁移率,近年来受到了广泛的关注。低温多晶硅技术是多晶硅技术的一个分支,其在元件小型化、提高面板开口率、提升画面品质与清晰度上具有显著的优势。与传统的非晶硅材料形成的薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)相比,低温多晶硅材料在制备薄膜晶体管时可以具有更快的反应速度,从而有利于提高薄膜晶体管对于液晶分子的控制能力,并可以缩小薄...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。