技术编号：12041308
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及制备基于纳米材料，尤其是银纳米线的透明导电膜的方法。本发明包括使用高能闪光灯在不需要后处理的情况下使得导电膜退火和图案化的单个步骤，以提高导电性并在用于触摸面板或显示器制备业的膜上产生基本不可见的图案。背景技术制备银纳米线的常规方法是通过溶液工艺，并且通过各种涂布方法将纳米线涂布在基材上(公开号为2011/0192633的美国专利申请)。通过常规方法制备的基于银纳米线的膜需要经过后处理或后退火工艺以获得较高的导电性。典型的后处理是将膜加热至高温，例如100-150℃之间，使得能够除去银...
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