技术编号：13426322
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种基板处理装置，更特别地，涉及使用一个或多个气体喷射器用于在基板上形成薄膜的基板处理装置。另外，本发明涉及一种利用本发明的基板处理装置在形成有超微图案的基板上形成均匀和致密薄膜的基板处理方法。背景技术通常，为了制造太阳能电池(SolarCell)、半导体元件、平板显示设备等，需要在基板表面上应形成规定的薄膜层、薄膜电路图案、或光学图案。为此，执行半导体制造工艺，并且半导体制造工艺的实例包括将具有特定材料的薄膜沉积于基板上的薄膜沉积工序，通过使用感光材料选择性暴露薄膜的感光工序，去除选...
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