技术编号：13426450
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种能够以In-Line分析金属原子等的污染物的基板污染物分析装置及基板污染物分析方法。背景技术已公开的现有半导体晶圆的污染物分析装置有韩国授权专利第3833264号(2003.5.9公告)，所述污染物分析装置公开了为分析被吸附到晶圆表面的金属性污染源而自动扫描晶圆表面以捕集污染物的装置的结构等。但是，所述基板污染物分析装置需要将扫描的样品装入样品杯中，由作业者将其带走并用分析器分析，因此需要作业者的随时确认及作业时间，存在移动过程中的污染及安全性问题，成为实时或迅速分析的阻碍因素。并...
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