技术编号:13451285
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。用于二维点阵列倾斜入射扫描的系统和方法相关申请案的交叉引用本申请案根据35U.S.C.§119(e)规定主张2015年5月8日申请的以JamieSullivan和YevgeniyChurin作为发明者的标题为二维点阵列倾斜入射扫描(OBLIQUEINCIDENCESCANNINGWITH2DARRAYOFSPOTS)的美国临时申请案第62/159,173号的权利,所述案的全部内容以引用的方式并入本文中。技术领域本发明大体涉及倾斜入射点扫描晶片检验系统的领域。背景技术晶片检验系统通常用于分析晶片(...
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